Author: Степаненко И.П.  

Tags: электротехника   микроэлектроника   электроника   учебное пособие   учебник для вузов   учебник по электронике   основы микроэлектроники   издательство лаборатория базовых знаний  

ISBN: 5-93208-045-0

Year: 2001

Similar

Основы микроэлектроники

Основы микроэлектроники.

Основы электроники и микроэлектроники

Основы теории транзисторов и транзисторных схем

Text
                    {,7 c?f 7, ;/С)
? _/,-С:(�
,

,


УДК 621.3.�. 77
БвЕ 32 852
С 791./
Степаненко И. П. Основы микроэлектроники: Учеб. пособие для ву.
зов. - 2-е изд., перераб. и доп. - М.: Лаборатория Базовых Знаний,
2001. - 488 с.: ил.
2--

1:,,;{)

Рассмотреяы. основные аспекты микро электроники: физи ческие, технологичес кие и
схемотехнические. Дается представление об YJIOBBe соврсмеввой микроэпект роввки, се ме­
тодах, средствах, проблемах и перспективах. Обсуждаются виды интегральных схем и схе­
мотехн ика цифровых и аналоговых ИС. Во 2-м издании отражены новые фундамеuталЫ1Ые
достижения в области :микро элект роники, используемые в наст оящее в ремя ва Прак тик е.
Предназначается для студенто в радиотехнических и радиофизических специальнос тей
вузов. Может быть полезна широкому кругу специалистов, связанных с созданием и эксп­
луатацией радио электронной аппаратуры ва ИС.

Второе издание данного учебного пособия подготовили:
А. В. Шальнов (гл.1, 2, 3),
В. С. Першенков (гл. 4, 5),
Л. Н. Патрикеев (гл. 6, 7, заключение),
В. В. Беляков (гл. 8, 9, 10)
По вопросам приобретения обращаться:
в Москве
•Лаборатория Базовых Знаний» (095) 955-03-98, e-mail: lbz@aha.ru
в Санкт-Петербурге
,Диалект• (812) 247-93-01, e-mail: diaJect@sndlct.ioffe.rssi.ru

ISBN 5-93208-045-0

© Степаненко И.П., 2001
© Лаборатория Базовых Знаний, 2001
Учебное издание

И. П. Степаненко
Основы м:икроалектроиики
Х удожник Н.Лозинсн:ая. Тех нический редактор И.Журавлева.
Компьютерная верстка В. Носенн:о
Подписано в печать 25.11.00. Формат 60х90'/,.. Гарнитура Школьная.
Бумага офсетная. Печать офсетная. Усл. печ.л. 30,5.
Тираж 3000 экз. Заказ 3423
Издательство «Лаборатория Базовых Знаний,, 2001 r. Адрес для пере­
писки: 103473, Москва, а/я 9. Телефон (095)955-0398. E-mail: lbz@aha.ru
ЛицеБ.зия на издательскую деятельность №066140 от 12 октября 1998 r.
Отпечатано с готовых диапозитивов в полиграфической фирме
«Полиграфист•. 160001, г. Вологда, ул. Челюск11нцев, 3.


Содержание

Предисловие ко второму изданию .
Предисловие к первому изданию
Глава 1. Предмет микроэлектроники
1.1. Введение .
1.2. Интегральные схемы.
1.3. Особенности интегральных схем как нового типа
электронных приборов .
1.4. Краткий исторический обзор.
1.5. Заключение .
Контрольные вопросы .

Глава 2. Полупроводники
2.1. Введение .
2.2. Структура полупроводников
2.3. Носители заряда .
2.4. Энергетические уровни и зоны .
2.5. Распределение носителей в зонах проводимости
·· 2.6. Эффект поля.
1 2. 7. Рекомбинация носителей .
2.8. Законы движения носителей в полупроводниках
Контрольные вопросы

Глава 3. Полупроводниковые переходы и контакты
3.1. Введение .
3.2. Электронно-дырочные переходы
3.3. Контакты полупроводник-металл .
,:S 3.4. Граница полупроводник-диэлектрик .
, Контрольные вопросы .

4. Униполярные транзисторы
9rава
_
4.1. Введение .
4.2. МДП-транзисторы
4.3. Полевые транзисторы
Контрольные вопросы.

Г�ава 5. Физические принципы работы биполярного
транзистора и тиристора .
,

5 .1.
5.2.
5.3.
5.4.

Введение .
Принцип действия .
Распределения носителей.
Коэффициенты усиления тока.

6
7
10
10

13

18

20

23
24

25

25
25

30
33

36

45
53

63

71
73
73
73
89
95
97

99
99
100

116
124

125

125
125

130

137


4

О�иовы микроэлектроники

5.5. Статические характеристики .
5.6. Малосигнальные эквивалентные схемы и параметры
5.7. Переходные и частотные характеристики
5.8. Тиристор .
Контрольные вопросы.

Глава 6. Технологические основы микроэлектроники
6.1.
6.2.
6.3.
6.4.
6.5.
6.6.
6.7.
6.8.

Введение.
Подготовительные операции
Эпитаксия .
Термическое окисление
Легирование
Травление
Техника масок
Нанесение тонких пленок
6.9. Металлизация .
6.10. Сборочные операции .
6.11. Технология тонкопленочных гибридных ИС
6.12. Технология толстопленочных гибридных ИС .
Контрольные вопросы.

Глава 7. Элементы интегральных схем
7.1. Введение .
7.2. Изоляция элементов
7.3. Транзисторы n-p-n.
7.4. Разновидности п-р-п-транзисторов
7.5. Транзисторы р-п-р.
7.6. Интегральные диоды
7.7. Полевой транзистор.
7.8. МДП-транзисторы
7.9. Полупроводниковые резисторы
7.10. Полупроводниковые конденсаторы. . . . . .
7.11. Эдементы ИС на полупроводниках группы А111В 1
7.12. Эдементы пденочных ИС .
:Контрольные вопросы.

Глава 8. Основьr цифровой схемотехники .
8.1. Введение .
8.2. Статический режим простейшего биполярного
ключа.
8.3. Переходные процессы в простейшем биполярном
ключе.
8.4. Кдюч с барьером Шоттки
8.5. Переключатедь тока
8.6. МДП-транзисторные ключи .
8.7. Помехоустойчивость кдючей
8.8. Бистабильные ячейки и триггеры
8.9. Триггер Шмитта .
Контрольные вопросы.

145
152
155
163
167

169
169
169
171
173
176
184
187
193
200
203
205
211
214

216
216
218
227
235
241
244
247
248
258
264
271
274
280

282
282
284
293
303
305
310
322
326
330
334


Содержание

Глава 9. Основы аналоговой схемотехники
9.1. Введение.
9.2. Составные транзисторы
9.3. Статический режим простейшего усилителя
9.4. Переходные процессы в простейшем усилителе
9.5. Простейшие усилители на МДП-транзисторах.
9.6. Дифференциальные усилители.
9.7. Эмиттерные повторители.
9.8. Каскод
9.9 . Выходные каскады .
9.10. Стабилизаторы напряжения
9.11. Стабилизаторы тока
Контрольные вопросы.

Глава 10. Интегральные схемы .
10.1. Введение
10.2. Логические элементы на биполярных
транзисторах .
10.3. Логические элементы на МДП-транзисторах
10.4. Логические элементы на совмещенных
биполярных и МОП-траюшсторах (БиКМОП).
10.5. Логические элементы на полевых транзисторах
с управляющим переходом
металл-полупроводник (МЕП)
10.6. Параметры логических элементов
1 О.7. Интегральные триггеры.
10.8. Запоминающие устройства.
10.9. Большие и сверхбольшие интегральные
схемы
10.10. Операционные усилители.
10.11. Надежность интегральных схем
10.12. Заключение.
Контрольные вопросы.

Заключение. Перспективы развития
микроэлектроники.
Литература

5

336
336
337

339

347
352
357
373
385
386

394
400
409

411
411
412

426
434

435
436
440

446

453
460
473

479
480

483
488


Предисповие
ко второму изданию

Со времени выхода в свет первого издания учебного пособия для
студентов вузов •Основы микроэлектроники• прошло почти двадцать
лет. За эти годы труд Игоря Павловича Степаненко, скончавшегося в
1982 г., оказал добрую помощь нескольким поколениям выпускников
русскоязычных вузов и студентам, осваивавшим основы микроэлект­
роники на английском и испанском языках. К сожалению, в настоя­
щее время книга И. П. Степаненко стала библиографической редко­
стью.
И. П. Степаненко справедливо считал, что инженеру-физику, спе­
циализирующемуся по микроэлектронике, необходимо свободно ори­
ентироваться в трех ее базовых составляющих: физических, техноло­
гических и схемотехнических основах микроэлектронных приборов и
структур.
Методология изложения и фактический материал •Основ микро­
электроники• бережно сохранены в новом издании, поэтому мы счита­
ем И. П. Степаненко основным автором книги. Настоящее издание
подготовлено учениками и соратниками И. П. Степаненко, создавшего
в 1965 г. в МИФИ первую в СССР кафедру микроэлектроники. Естест­
венно, что данное издание - не простое повторение материала про­
шлых лет. В учебное пособие включены новые фундаментальные до­
стижения в области микроэлектроники, используемые сейчас на прак­
тике.
В настоящем издании авторы старались учесть новые веяния в ор­
ганизации учебного процесса, в частности, свободное посещение сту­
дентами лекций. Так, в конце каждого раздела приведены контроль­
ные вопросы для самостоятельной проработки.
Вся работа по подготовке нового издания выполнена сотрудниками
кафедры микроэлектроники МИФИ под руководством профессора
А. В. Шальнова.
В. В. Беляков, Л. Н. Патрикеев, В. С. Першенков, А. В. Шальнов


Предисnовне
к первому изданию

Микроэлектроника как исторический этап развития электроники
характерна органическим единством физических, технологических
(точнее, конструктивно-технологических) и схемотехнических аспек­
тов. Поэтому полноценная, творческая разработка интегральных схем
невозможна ни сидами •Кдассических» физиков-технологов, способ­
ных разрабатывать отдельные полупроводниковые приборы, но не зна­
комых или слабо знакомых со схемотехникой, ни силами «классиче­
ских» схемотехников, способных разрабатывать функциональные
узлы из элементарных радиодеталей, но слабо знакомых с физикой и
тем более технологией полупроводниковых приборов. Специалист, ра­
ботающий в области микроэлектроники, должен в равной степени вла­
деть ее физическими, технологическими и схемотехническими основа­
ми, после чего, в зависимости от конкретных условий, он может полу­
чать дополнительную подготовку в том или ином направлении.
В настоящее время разработчики интегральных схем выпускаются
в рамках нескольких инженерно-физических специальностей (0604,
1
0629 и др.) , сформировавшихся задолго до становления микроэлект­
роники. Поэтому в учебные планы этих специальностей в разное вре­
мя были введены такие дополнительные дисциплины, как •Микро­
электроника», «Анализ и расчет интегральных схем», «Расчет и кон­
струирование микроэлементов и микросхем• и др., призванные
усовершенствовать профиль специалистов, привести его в соответст­
вие с задачами, решаемыми в области микроэлектроники. Однако, как
показывает опыт, ни одна из этих дисциплин не обеспечивает полно­
ценного овладения схемотехническими основами микроэлектроники,
а значит единство ее трех основополагающих аспектов остается нере­
шенной пробJ1емой.
Другим возможным путем для выпуска разработчиков интеграль­
ных схем является усиление физико-технологической подготовки ин­
женеров радиотехнического профиля. С этой целью, например, в учеб­
ный план специальности 0705 введен курс «Физические основы конст­
руирования и технология РЭА», а курс •Электронные приборы•
преобразован в «Электронные приборы и полупроводниковые интегра­
льные схемы». Однако эти курсы не включают в себя схемотехнические
1 В данном предисловии номера специальностей указаны по данным на
1980 г.- год выхода в свет первого издания книги (Прим. ред.).


8

ПреДJ1словие к первому изданию

аспекты микроэлектроники, а в классических курсах, посвященных
радиоэлектронным схемам, специфика этих аспектов не учитывается.
За последние десять лет для студентов, специализирующихся в об­
ласти микроэлектроники, выпущено несколько учебных пособий. Не
умаляя их достоинств и тем более приоритета, следует все же отме­
тить, что они посвящены либо только физическим, либо физико-тех­
нологическим и конструктивным аспектам микроэлектроники. В го­
раздо меньwей степени они касаются элементов интегральных схем, а
главное, опять же совсем не затрагивают схемотехнику.
В данном учебном пособии делается попытка более или менее пол­
но охарактеризовать все составные части микроэлектроники. Особое
внимание уделено тем разделам, которые не получили должного отра­
жения в упомянутой учебной литературе: физике транзисторов, тран­
зисторной схемотехнике, а также общей характеристике интеграль­
ных схем. Акцент на эти разделы в условиях ограниченного объема
книги не позволил столь же подробно изложить конструктивно-техно­
логические аспекты, вопросы метрики и некоторые др. Однако этот
недостаток представляется не столь существенным, поскольку допол­
нительные сведения можно почерпнуть из упомянутой литературы.
Итак, в основу данного учебного пособия по замыслу положен сис­
темный подход к изложению материала: отдельные разделы взаимо­
связаны, работают друг на друга и в комплексе создают тот общий
фундамент, на базе которого возможна дальнейшая специализация
студента в области микроэлектроники. Что касается инженеров, кото­
рые по роду работы должны преодолеть •односторонносты своей
прежней подготовки, то они могут сосредоточить внимание соответст­
венно на физико-технологических или схемотехнических разделах.
Руководствуясь системным подходом, автор включил в учебное по­
собие все необходимые разделы микроэлектроники, независимо от
того, что некоторые из них являются предметами специальных курсов
(например, •Физика полупроводников., •Полупроводниковые прибо­
ры•, •Импульсные схемы•, •Усилители• и т. п.). Такую точку зрения
разделяют, как нам кажется, и авторы уже выпущенных пособий. Од­
нако автор считал неправильным механически включать в основы
микроэлектроники весь материал упомянутых курсов даже в сокра­
щенном виде. Поэтому этот материал был не только тщательно ото­
бран, но и переработан в соответствии с конкретными задачами мик­
роэлектроники, а также с учетом внутренней взаимосвязи разделов.
Например, в гл.2 не включены такие сами по себе важные вопросы,
как элементы квантовомеханической теории твердого тела, эффекты
Гана и Джозефсона, размерные эффекты в тонких пленках и др. Из
числа транзисторов в гл. 4 и 5 рассмотрены только маломощные тран­
зисторы, составляющие основу современных интегральных схем. Что
касается транзисторных схем, то их номенклатура резко сокращена и
приведена в соответствие с реальными конфигурациями, используе-


Предисловие к первому изданию ___________________

9

мыми в микроэлектронике. Изменена также традиционная последова­
тельность при изучении двух основных классов схем: сначала (гл. 8)
рассматриваются ключевые схемы, а затем (гл. 9) - усилительные.
Не менее сложная задача встала при отборе материала и выработке
методики его изложения в гл. 10, посвященной реальным интеграль­
ным схемам. Здесь, во избежание неоправданных сложностей, при­
шлось во многих случаях отказаться от рассмотрения полных принци­
пиальных схем и сосредоточить внимание на структурных схемах. Та­
кой подход соответствует методам проектирования современных БИС
и тем более аппаратуры на их основе.
«Основы микроэлектроники» - первое из трех учебных пособий, предназ­
наченных для всесторонней подготовки инженеров-разра ботчиков интеграль­
ных схем, т. е. специалистов, хорошо знакомых со всеми тремя аспектами мик1
роэлсктроники
Автор надеется, что его замысел, реализованный в данной книге,
будет одобрен студентами, заинтересованными кафедрами, а также
специалистами, которые воспользуются ею для самоподготовки. Более
того, он надеется, что со временем учебный курс *Основы микроэлект­
роники•, построенный в соответствии со структурой данной книги,
станет таким же традиционным, как курсы •Полупроводниковые при­
боры• или •Теоретические основы электротехники•. Это, несомненно,
способствовало бы как единообразию подготовки специалистов одного
и того же профиля, так и взаимопониманию специалистов смежных
профилей ( •элементщиков• и •аnnаратурщиков•), неизбежно вступа­
ющих в контакт при разработке сложных микроэлектронных систем.
Предлагаемое учебное пособие рассчитано прежде всего на студентов,
специализирующихся по микроэлектронике в рамках специальностей
0604, 0629, 0648, 0701, 0705 и др., а также на инженеров, окончивших
вузы по этим специальностям более 7-10 лет назад. Оно, вероятно, будет
полезно специалистам по радиотехнике, вычислительной технике, ки­
бернетике, автоматике, измерительной технике и другим областям нау­
ки и техники, связанным с применением интегральных схем.
Автор выражает искреннюю благодарность проф. С. Я. Шацу,
проф. В. Н. Дулину и доц. Ю. Е. Наумову за полезные замечания и со­
веты, а также коллективу кафедры микроэлектроники МИФИ за по­
мо щь в работе и оформлении рукописи.
И. П. Степаненко

1 Учебные пособия: БерезинА. С.• Мочалкина О. Р. ,Технология п конструирова­
пие интегральных микросхем•, изд. •Радио и связь•, 1983 г. и Алексен·
коА. Г., Шагурин И. И. •Микросхемотехника•, изд. •Радио и связь•, 1990 г.

(Прим. ред.)


rnaвa 1
Предмет микроэлектроники

1.1. Введение
Роль микроэлектроники в современной науке и технике
трудно переоценить. Она справедливо считается катализатором
научно-технического прогресса. Спектр ее применения прости­
рается от фундаментальных исследований до прикладного ис­
пользования. Микроэлектроника влияет на все народное хозяй­
ство, но не непосредственно, а через цельrй ряд специфических
отраслей, таких как вычислительная техника, информацион­
но-измерительные системы, робототехника, микропроцессоры.
Микроэлектроника, очередной исторически обусловленный
этап развития электроники и одно из ее основных направле­
ний, обеспечивает принципиально новые пути решения назрев­
ших задач.
Электропика - это область науки, техники и производства,
охватывающая исследование и разработку электронных прибо­
ров и принципов их использования.
Микроэлектропика - это раздел электроники, охватываю­
щий исследования и разработку качественно нового типа элект­
ронных приборов - интегральных микросхем - и принципов
их применения.
Иптегральпая микросхема (или просто интегральная схема)
есть совокупность, как правило, большого количества взаимо­
связанных компонентов (транзисторов, диодов, конденсаторов,
резисторов и т.п.), изготовленная в едином технологическом
цикле (т.е. одновременно), на одной и той же несущей конст­
рукции - подложке - и выполняющая определенную функ­
цию преобразования информации.
Термин �интегральная схема» (ИС)1 отражает факт объеди­
нения (интеграции) отдельных деталей - компонентов - в
конструктивно единый прибор, а также факт усложнения вы1 lntegrated Circuit (IC)


1.1. Ваедеиие

11

полн.яемых этим прибором функций по сравнению с функция­
ми отдельных компонентов.
Компоненты, которые вход.ят в состав ИС и тем самым не мо­
гут быть выделены из нее в качестве самостоятельных изделий,
называются элементами ИС или интегральными элементами.
Они обладают некоторыми особенностями по сравнению с тран­
зисторами и т.д., которые изготавливаются в виде конструктив­
но обособленных единиц и соединяются в схему путем пайки.
В основе развити.я электроники лежит непрерывное усложне­
ние функций, выполняемых электронной аппаратурой. На опре­
деленных этапах становите.я невозможным решать новые задачи
старыми средствами или, как говорят, на основе старой элемен­
тиои базы, например с помощью электронных ламп или диск­
ретных транзисторов. Основными факторами, лежащими в осно­
ве смены элементной базы, явл.яются: надежность, габариты и
масса, стоимость и мощность.
Особенностью изделий микроэлектроники является высокая
степень сложности вьmолняемых функций, длл чего создаются
схемы, в которых количество компонентов исчисляется миллио­
нами. Отсюда ясно, что обеспечить надежность функционирова­
ния при соединении компонентов вручную - задача невыполни­
мая. Единственным способом ее решения являете.я применение
качественно новых высоких технологий.
Для изготовления интегральных схем используется группо­
вой метод производства и планарная технологи.я.
Групповой метод производства заключаете.я в том, что,
во-первых, на одной пластине полупроводникового материала
одновременно изготавливаете.я большое количество интеграль­
ных схем; во-вторых, если позволяет технологический процесс,
то одновременно обрабатываются десятки таких пластин. По­
сле завершения цикла изготовления ИС пластина разрезается в
двух взаимно-перпендикулярных направлениях на отдельные
кристаллы 1 , каждый из которых представляет собой ИС.
Планарная технология - это такая организация техноло­
гического процесса, когда все элементы и их составляющие со­
здаются в интегральной схеме путем их формирования через
плоскость2•
1 По-английски ch1p (чип).
2 По-английски плоскость - plane.


1.2. Интегральные схемы _________________________1_3

таллов Хна пластине можно достичь двумя путями: увеличени­
ем размера пластины и уменьшением размеров отдельных эле­
ментов. Эти оба направления используются разработчиками.
В заключение заметим, что все константы, входящие в фор­
мулу, не являются ни постоянными, ни зависимыми друг от
друга, поэтому анализ на минимум стоимости на самом деле яв­
ляется сложным и многофакторным.

1.2. Интегральные схемы
В процессе развития микроэлектроники (МЭ) номенклатура
ИС непрерывно изменялась. Главный тип ИС в настоящее вре­
мя - полупроводниковые ИС. Им и будет посвящено основное
содержание этого пособия.
Классификация ПС. Классификация ИС может производи­
ться по различным признакам, ограничимся здесь лишь одним.
По способу изготовления и получаемой при этом структуре раз­
личают два принципиально разных типа интегральных схем:
полупроводниковые и пленочные.
Полупроводпиковая ИС - это микросхема, элементы кото­
рой выполнены в приповерхностном слое полупроводниковой
подложки (рис. 1.2). Эти ИС составляют основу современной
микроэлектроники.

Трапзистор
Кремний

Рис, 1.2. Структура элементов полупроводвнковой ИС

Плепочпая ИС - это микросхема, элементы которой выпол­
неньr в виде разного рода пленок, нанесенных на поверхность
диэлектрической подложки (рис. 1.3). В зависимости от спосо­
ба нанесения пленок и связанной с этим их толщиной различа­
ют топкоплепочные ИС (толщина пленок до 1-2 мкм) и тол
стопленочные ИС (толщина пленок от 10-20 мкм и выше).


12

Глава 1. Предмет м11Rро.1лектрои11ки

Одна или несколько технологических операций при изготов­
лении ИС заключается в соединении отдельных элементов в схе­
му и присоединении их к специальным контактньrм площадкам.
Поэтому необходимо, чтобы выводы всех элементов и контакт­
ные площадки находились в одной плоскости. Такую возмож­
ность обеспечивает планарная технология.
Финальная операция - корпусирован,ие - это помещение
ИС в корпус с присоединением контактных площадок к нож­
кам ИС (рис. 1.1).
Т RT
ТДIТДТД
TIRTiRTRTR
ТдlТ Д Т Д Т Д Т

ис

R!.l���T_!l_! ��

тд,тд,тдтдтд
T RT RTRTRT
-д+тд Гтдтд_т_
, RTIRTRT
тдт
а)

6)

в)

Рис. 1.1. Иллюстрацил изготовленил простейшей интегральной схемы:

а - кремпиевал пластина с •комплектами• из двух транзисторов, диода
и резистора; б - межсоединенил элементов внутри «комплекта•
(планарна.я ·rехнолоrия); в - готовая ИС в корпусе

Стоимость D одной ИС (одного кристалла) упрощенно можно
вычислить следующим образом:
D = _1_ А + В +
{
ХУ
Z

с}

где А - затраты на научно-исследовательские и опытно-конст­
рукторские работы по созданию ИС; В- затраты на технологи­
ческое оборудование, помещение и др.; С - текущие расходы на
материалы, электроэнергию, заработную плату, в пересчете на
одну пластину; Z - количество пластин, изготовляемых до
амортизации основных производственных фондов; Х - количе­
ство кристаллов на пластине; У - отношение годных ИС к ко­
личеству, запущенному в производство в начале его.
Кроме очевидных комментариев относительно затрат, нужно
отметить следующее. Увеличение У достигается созданием все
более современной технологии, пожалуй, наиболее сложной и
чистой среди многих новейших производств. Роста числа крис-


14

Глава 1, Предмет микроэпектропхк11

индуктивности

:z:
'1
о
о

Стекло

Рис. 1.3. Структура элементов пленочной ИС:
1- верхняя обкладка; 2 - нижняя обкладка; 3 - диэлектрик;
4 - соединительная металлическая полоска

Поскольку до сих пор никакая комбинация напыленных
пленок не позволяет по.11учить активные элементы типа транзи­
сторов, пленочные ИС содержат только пассивные элементы
(резисторы, конденсаторы и т.п.). Поэтому функции, выполня­
емые чисто пленочными ИС, крайне ограничены. Чтобы прео­
долеть эти ограничения, пленочную ИС дополняют активными
компонентами (отдельными транзисторами или ИС), распола­
гая их на той же подложке и соединяя с пленочными элемента­
ми. Тогда получается ИС, которую называют гибридной.
Гибридная ИС (или ГИС) - это микросхема, которая пред­
ставляет собой комбинацию пленочных пассивных элементов и
активных компонентов, расположенных на общей диэлектри­
ческой подложке. Дискретные компоненты, входящие в состав
гибридной ИС, называют навесными, подчеркивая этим их обо­
собленность от основного технологического цикла получения
пленочной части схемы.
Еще один тип �смешанных• ИС, в которых сочетаются по­
лупроводниковые и пленочные интегральные элементы, назы­
вают совмещенными.
Совмещенная ИС - это микросхема, у которой активные
элементы выполнены в приповерхностном слое полупроводни­
кового кристалла (как у полупроводниковой ИС), а пассивные
нанесены в виде пленок на предварительно изолированную по­
верхность того же кристалла (как у пленочной ИС).
Совмещенные ИС выгодны тогда, когда необходимы вьrсо­
кие номиналы и вьrсокая стабильность сопротивлений и емко-


15

.!:.2· Иитеrральвые схемы

стей; эти требования легче обеспечить с помощью пленочных
элементов, чем с помощью полупроводниковых.
Во всех типах ИС межсоединения элементов осуществляют­
ся с помощью тонких металлических полосок, напыленных
или нанесенных на поверхность подложки и в нужных местах
контактирующих с соединяемыми элементами. Процесс нане­
сения этих соединительных полосок называют металлизацией,
а сам «рисунок•> межсоединений - металлической разводкой.
Полупроводниковые ИС. В настоящее время различают следу­
ющие полупроводниковые ИС: биполярные, МОП (металл-оки­
сел-полупроводник) и БИМОП. Последние представляют собой
сочетание первых двух, и в них комбинируются положительные
их качества.
Технология полупроводниковых ИС основана на легирова­
нии полупроводниковой (кремниевой) пластины поочередно до­
норными и акцепторными примесями, в результате чего под
поверхностью образуются тонкие слои с разным типом прово­
димости и р-п-переходы на границах слоев. Отдельные слои ис­
пользуются в качестве резисторов, а р-п-переходь1 - в диод­
ных и транзисторных структурах.
Легирование пластины приходится осуществлять локально,
т.е. на отдельных участках, разделенных достаточно большими
расстоянил.'IIИ. Локально� легирование осуществляется с помо­
щью специальных масок с отверстиями, через которые атомы
примеси проникают в пластину на нужных участках. При изго­
товлении полупроводниковь�х ИС роль маски обычно играет
пленка двуокиси кремния Si02, покрывающая поверхность кр_ем­
ниевой пластины. В этой пленке специальными методами грави­
руется необходимая совокупность отверстий различной формы
или, как говорят, необходимый рисунок (рис. 1.4). Отверстия в
масках, в частности в окисной пленке, называют окнами.
Окна

Маска

S1
Рис. 1.4. Окисная маска с окнами для локального легирования


16

Глава 1. Предмет микроэлектроники

Теперь кратко охарактеризуем составные части (элементы)
полупроводниковых ИС. Основным элементом биполярных ИС
является п-р-п-транзистор: на его изготовление ориентируется
весь технологический цикл. Все другие элементы должны изго­
тавливаться, по возможности, одновременно с этим транзисто­
ром, без дополнительных технологических операций.
Основньrм элементом МДП ИС является МДП-транзистор.
Изготовление других элементов также подстраивается под ба­
зовый транзистор.
Элементы биполярной ИС необходимо тем или иным спосо­
бом изолировать друг от друга с тем, чтобы они не взаимодейст­
вовали через кристалл.
Элементы МОП ИС не нуждаются в специальной изоляции
друг от друга, так как взаимодействие между смежными
МОП-транзисторами не имеет места. В этом - одно из главных
преимуществ МОП ИС по сравнению с биполярными.
Характерная особенность полупроводниковых ИС состоит в
том, что среди их элементов отсутствуют катушки индуктивно­
сти и, тем более, трансформаторы. Это объясняется тем, что до
сих пор не удалось использовать в твердом теле какое-либо фи­
зическое явление, эквивалентное электромагнитной индукции.
Поэтому при разработке ИС стараются реализовать необходи­
мую функцию без использования индуктивностей, что в боль­
шинстве случаев удается. Если же катушка индуктивности или
трансформатор принципиально необходимы, их приходится ис­
пользовать в виде навесных компонентов.
Размеры кристаллов у современных полупроводниковых ИС
достигают 20 х 20 мм2• Чем больше площадь кристалла, тем бо­
лее сложную, более многоэлементную ИС можно на нем размес­
тить. При одной и той же площади кристалла можно увеличить
количество элементов, уменьшая их размеры и расстояния
меж�у ними.
Функциональную сложность ИС принято характеризовать
степенью интеграции, т.е. количеством элементов (чаще всего
транзисторов) на кристалле. Максимальная степень интегра­
ции составляет 10 6 элементов на кристалле. Повышение степе­
ни интеграции (а вместе с нею и сложности функций, выполня­
емых ИС) - одна из главных тенденций в микроэлектронике.


1.2. Интегральные схемы

17

Для количественной оценки степени интеграции используют
условный коэффициент k � lgN. В зависимости от его значения интег­
ральные схемы назыв аются по-разному:
k ::; 2 (N ::; 100) - интеr·ральная схема (ИС);
2 ::; k ::; 3 (N ::; 1000) - интегральная схема средней степени интеграции (СИС);
3::; k::; 5 (N::; 10 5 ) - большая интегральная схема (БИС);
k > 5 (N > 10 5 ) - сверхбольшая интегральная схема (СБИС).
Ниже приведены английские обозначения и их расшифровки:

IC - Integrated Circuit;
MSI - Medium Scale Integration;
LSI - Large Scale Integration;
VLSI - Very Large Scale Integration.

Кроме степени интеграции, используют еще такой показа­
тель, как плотность упаковки - количество элементов (чаще
всего транзисторов) на единицу площади кристалла. Этот пока­
затель, который характеризует главным образом уровень тех­
нологии, в настоящее время составляет до 500-1000 элемен­
тов/мм 2.
Гибридные ИС. Пленочные, а значит, и гибриднь1е ИС в за­
висимости от технологии изготовления делятся на толсто- и
тонкопленочные.
Толстопленочные ГИС (обозначим их ТсГИС) изготавливают­
ся весьма просто. На диэлектрическую пластинку-подложку на­
носят пасты разного состава. Проводящие пасты обеспечивают
межсоединения элементов, обкладки конденсаторов и выводы к
штырькам корпуса; резистивные - получение резисторов; диэ­
лектрические - изоляцию между обкладками конденсаторов и
общую защиту поверхности готовой ГИС. Каждый слой должен
иметь свою конфигурацию, свой рисунок. Поэтому при изготов­
лении каждого слоя пасту наносят через свою маску - трафа­
рет - с окнами в тех местах, куда должна попасть паста данно­
го слоя. После этого приклеивают навесные компоненты и сое­
диняют их выводы с контактными площадками.
Тонкопленочнь1е ГИС (обозначим их ТкГИС) изготавливают­
ся по более сложной технологии, чем ТсГИС. Классическая
тонкопленочная технология характерна тем, что пленки осаж­
даются на подложку из газовой фазы. Вырастив очередную
пленку, меняют химический состав газа и тем самым электро­
физические свойства следующей пленки. Таким образом пооче-


18

Глава 1. Предмет микроэлектроники

редно получают проводящие, резистивные и диэлектрические
слои. Конфигурация (рисунок) каждого слоя определяется либо
трафаретом, как в случае ТсГИС, либо маской, подобно окис­
ной маске в полупроводниковых ИС (см. рис. 1.4).
Навесные элементы в ТкГИС, как и в ТсГИС, приклеивают
на поверхность готовой пленочной части схемы и соединяют с
соответствующими контактными площадками элементов.
Степень интеграции ГИС не может оцениваться так же, как
в случае полупроводниковых ИС. Тем не менее существует тер­
мин большая ГИС (или БГИС), который означает, что в состав
ГИС в качестве навесных компонентов входят не отдельные
транзисторы, а целые полупроводниковьiе ИС.

1.3. Особенности интегральных схем
как нового типа электронных приборов

....

Поскольку ИС, подобно транзистору, представляет собой кон­
структивное единое целое, выполняет определенную функцию и
должна удовлетворять определенным требованиям при испыта­
ниях, поставках и эксплуатации, она относится к разряду элект­
ронных приборов. Однако по сравнению с диодом, транзистором
и т.п. ИС является качественно новым типом прибора.
Первая - главная особенность ИС как электронного прибо­
ра состоит в том, что она самостоятельно выполняет законченную, часто весьма сложную функцию, тогда как элементарные
электронные приборы выполняют аналогичную функцию толь­
ко в ансамбле с другими компонентами. Например, отдельный
транзистор не может обеспечить усиление сигнала или запоми­
нание информации. Для этого нужно из нескольких транзисто­
ров, резисторов и других компонентов собрать (спаять) соответ­
ствующую схему. В микроэлектронике же указанные функции
выполняются одним прибором - интегральной схемой: она мо­
жет быть усилителем, запоминающим устройством и т.п.
Второй важной особенностью ИС является то, что повыше­
ние функциональной сложности этого прибора по сравнению с
элементарными не сопровождается ухудшением какого-либо из
основных показателей (надежность, стоимость и т.п.). Более
того, все эти показатели улучшаются.
Поскольку габариты и масса простых и средних ИС близки
к габаритам и массе дискретных транзисторов, можно считать,


1.3. Особеввости ввтегральвых схем

19

что в первом приближении выигрыш по этим показателям при
переходе от дискретных схем к интегральным определяется
степенью интеграции и может достигать сотен и тысяч раз 1 .
Поскольку надежность работы полупроводникового прибора
в аппаратуре определяется прежде всего количеством паяных и
(в меньшей степени) сварных соединений, то ИС, у которых
межсоединения элементов осуществляются путем металлиза­
ции (т.е. без пайки и сварки), обладают заведомо повышенной
надежностью по сравнению с дискретными схемами, выполня­
ющими ту же функцию. По мере увеличения степени интегра­
ции этот выигрыш возрастает.
Поскольку все элементы ИС изготавливаются в едином тех­
нологическом цикле, то количество технологических операций
по их изготовлению не намного превышает количество опера­
ций по изготовлению отдельного транзистора. Поэтому стои­
мость ИС при прочих равных условиях близка к стоимости од­
ного транзистора. Значит, в зависимости от степени интегра­
ции (или, точнее, от плотности упаковки), стоимость одного
элемента ИС по сравнению со стоимостью аналогичного диск­
ретного компонента может быть в сотни раз меньше. Такое же
соотношение имеет место между стоимостью ИС и стоимостью
аналогичной схемы, выполненной на дискретных компонентах.
Третья особеuность ИС состоит в предпочтительности актив­
ных элементов перед пассивными - принцип, диаметрально
противоположный тому, который свойствен дискретной транзи­
сторной технике. В последней активные компоненты, особенно
транзисторьr, наиболее дорогие, и потому оптимизация схемы
при прочих равных условиях состоит в уменьшении количества
активных компонентов. ВИС дело обстоит иначе: у них задана
стоимость не элемента, а кристалла; поэтому целесообразно раз­
мещать на кристалле как можно больше. элементов с минималь­
ной площадью. Минимальную площадь имеют активные элемен­
ты - транзисторы и диоды, а максимальную - пассивные. Сле­
довательно, оптимальная ИС - это ИС, у которой сведены к
минимуму количество и номиналы резисторов и, особенно, кон­
денсаторов.

1 Точный выигрыш в габаритах и массе трудно оценить теоретическим расче­
том, так как ИС имеют другие типоразмеры корпусов и большее число выво­
дов, чем элементарные компоненты.


20

Глава 1. Предмет микроэлектроники

Четвертая особенность НС связана с тем, что смежные эле­
менты расположены друг от друга на расстоянии, измеряемом в
мкм или долях мкм. На таких малых расстояниях различие
электрофизических свойств материала маловероятно, а следова­
тельно, маловероятен и значительный разброс параметров у
смежных элементов. Иначе говоря, параметры смежных элемен­
тов взаимосвязаньr - коррелированы. Эта корреляция сохраня­
ется и при изменении температуры: у смежных элементов тем­
пературные коэффициенты параметров практически одинаковы.
Корреляция между параметрами смежных элементов использу­
ется при проектировании некоторых ИС с целью снизить влия­
ние разброса параметров и изменений температуры.
Гибридные ИС тоже представляют собой тип электронных
приборов. Однако наличие навесных компонентов делает их ме­
нее специфичными, чем полупроводниковые ИС. Остается в
силе фундаментальная черта всякой ИС - функциональная
сложность прибора, что, как и при использовании полупровод­
никовьrх ИС, качественно меняет структуру электронной аппа­
ратуры. Спецификой ГИС как прибора могут быть либо высокие
номиналы резисторов и конденсаторов, недостижимые в полу­
проводниковых ИС, либо прецизионность резисторов, либо, на­
конец, повышенная функциональная сложность. ГИС - это гиб­
кий, дешевый, оперативно проектируемый тип ИС, хорошо при­
способленный к решению специальных, частнь1х задач.

1.4" Краткий исторический обзор
История микроэлектроники -- часть истории технического
прогресса последних лет. Участники ее - в первую очередь
творческие работники - ученые, изобретатели и инженерьr.
Результаты развития микроэлектроники в значительной степе­
ни увеличили возможности науки и техники, ускорили многие
процессьr, связанные с научными исследованиями и разработ­
кой новых высоких технологий, существенно повысили произ­
водительность труда во многих отраслях промышленности,
фантастически расширили возможности информационных сис­
тем и оказали серьезное влияние на прогресс развития челове­
чества в целом. Иногда используется даже новое название со­
временного периода истории человечества -- век информатиза­
ции, и в этом тоже огромный вклад микроэлектроники.


1.4. :Краткий исторический обзор

21

Первым стартовым шагом к микроэлектронике, несомненно,
был переход от электронных вакуумных ламп, в которых при­
менялся принцип управления электронными потоками в вакуу­
ме, к твердотельным приборам, где использовалось управление
движением подвижных носителей в полупроводнике. Этот шаг
был сделан в лаборатории Bell Telephone Laboratories в 1948 г.
и заключался в изобретении транзистора.
Конкуренция между вакуумными электронными лампами и
транзисторами сопровождалась бурными дебатами среди специ­
алистов и, в первую очередь, связана с большим количеством
успешно действующей электронной аппаратуры, главным эле­
ментом которой была электронная лампа. Производственный
цикл такой аппаратуры был хорошо отлажен и она приносила
большую прибыль производителям. Еще две основные причины
способствовали этому. Главная заключалась в несовершенстве
технологии изготовления транзисторов, приводящей к нестаби­
льности характеристик прибора, недостаточной его надежности
и высокой стоимости. Другая связана с неприятием нового при­
бора большинством специалистов, воспитаннь1х на применении
в электронике вакуумных ламп. Недостатки первых образцов
транзисторов укрепляли уверенность радиоинженеров в прави­
льности их сомнений относительно транзисторов.
Первые транзисторы были точечными и, в дополнение к ука­
занным вьrше недостаткам, обладали высоким уровнем шумов.
Материалом для их изготовления был, в первую очередь, герма­
ний. Переход от точечных транзисторов к плоскостным по вре­
мени совпал с переходом от германия к кремнию и был осущест­
влен в 1953 г. на фирме Texas Instrument Incorporation. Крем­
ниевый транзистор с вьrраженными р-п-переходами позволил
увеличить мощность транзистора. Позднее процесс изготовле­
ния транзистора, основанный на диффузии, позволил наладить
групповое производство транзисторов, что немедленно сказалось
на уменьшении стоимости этих приборов. В 1956 г. трем амери­
канским ученым, Шокли, Бардину и Браттейну, была присуж­
дена Нобелевская премия по физике за исследования полупро­
водников и открытие транзисторного эффекта. К этому времени
уже стало ясно, что во многих отраслях применение транзисто­
ров сильно потеснит или даже заменит электронную лампу.
Второй - решающий шаг - появление интегральных схем.
Первая интегральная (биполярная) схема была изготовлена в


22

Глава 1. Предмет микроэлектроники

1961 г. на фирме Fairchild Semiconductor и представляла собой
триггер, состоящий из четырех биполярных транзисторов и двух
резисторов. Уже в 1963 г. фирмой RCA была выпущена первая
МОП интегральная логическая схема, в которой было 16
МОП-транзисторов. Быстрому распространению интегральных
схем способствовала хорошо отработанная технологическая база
при групповом производстве транзисторов.
Таким образом, с момента изобретения транзистора до изго­
товления первых интегральных схем, поступивших на рынок,
прошло чуть более 10 лет и далее последовало очень быстрое
развитие микроэлектроники.
В начале своего пути транзисторы применялись, главным об­
разом, для военных целей, так же как, впрочем, и предшество­
вавшие им электронные лампы, и последующие за ними интег­
ральные схемы. Кроме того, они способствовали развитию тех­
ники радиовещания и телевидения, а впоследствии и
компьютерной техники уже для более широкого применения.
Было бы, однако, совершенно неправильным отдать полно­
стью приоритет технологии в микроэлектронике, хотя, несомнен­
но, именно в технологии было занято наибольшее количество со­
трудников и вложены наибольшие капиталы. На самом деле по­
нимание физических процессов в электронике начиналось с
фундаментальных работ прошлого века, выполненных такими
известными учеными как Фарадей и Максвелл в области экспе­
римента и теории электричества и магнетизма; Попов и Маркони
по передаче сигналов через эфир; Флеминг, получивший в начале
нашего века патент на электронную лампу, и последующего ши­
рокого развития связи, радиовещания и телевидения. Все эти ра­
боты подготовили появление новых отраслей промышленности и
рынков сбыта для продуктов ее производства.
Для понимания и развития работ в области физики твердого
тела исключительную роль сыграли исследования Макса План­
ка, опубликовавшего в 1906 г. квантовую гипотезу, объясняв­
шую поведение электронов в твердом теле. Для количественного
объяснения этого же явления послужило квантово-механиче­
ское уравнение Э. Шредингера, которое было им опубликовано в
1926 г. Таким образом, теоретическое понимание электрических
явлений и процессов в полупроводниках предшествовало конк­
ретному применению этих процессов, воплощенных в приборы в
виде интегральньrх схем.


23

1.5. Зак.uочеиве

1.5. Заключение
Первые этапы развития микроэлектроники были характер­
ны главным образом прогрессом в области технологии ИС. На
этих этапах совершенствовались методы изоляции элементов,
методы повышения степени интеграции, способы монтажа на­
весных компонентов и т.п. Что касается схемотехники (т.е.
конфигурации схем, подлежащих интеграции), то на первых
порах она заимствовалась из арсенала дискретной транзистор­
ной электроники.
Однако вскоре стало ясно, что качественно новой технологи­
ческой реализации, свойственной ИС, должны соответствовать
адекватные схемные решения. Далеко не все схемы, считавши­
еся типичными в дискретной транзисторной электронике, ока­
зались приемлемыми в микроэлектронике. И наоборот, многие
схемы, которые в дискретной транзисторной электронике счи­
тались <•экзотическими� и не имели широкого распростране­
ния, в микроэлектронике оказались приемлемыми и даже оп­
тимальными. Поэтому схемотехника ИС отнюдь не совпадает с
обычной транзисторной схемотехникой.
В процессе развития микроэлектроники появилось немало
специфических элементов ИС, которые не имеют аналогов в
транзисторной схемотехнике и не выпускаются в качестве ди­
скретных полупроводниковых приборов (например, многоэмит­
терный транзистор, приборы с зарядовой связью и др.). Интег­
ральные схемы, в которых используются такие специфические
элементы, не могут быть даже промоделированы на дискр�т­
ных компонентах.
Все сказанное говорит о том, что микроэлектроника как об­
ласть науки и техники ни в коем случае не сводится к техноло­
гии ИС. Она интегрирует в себе три равнозначньrх аспекта: фи­
зический, технологический и схемотехнический. Знание этих
трех аспектов микроэлектроники позволяет разработчику ИС
трезво оценивать как новые варианты элементной базы или
схемных решений (с точки зрения их технологической реализа­
ции), так и новые варианты технологических процессов (с точ­
ки зрения их пригодности для реализации данных элементов и
данных схем).


24

Глава 1. Предмет микро:Jлектроввки

Контрольные вопросы
1. Что такое интегральная схема?
2. В чем состоят основные преимущества приборов, выподнен­
ных на ИС, по сравнению с приборами, выполненными на
дискретных схемах?
3. Поясните смысл понятия •микроэлектроника».
4. Дайте классификацию :ИС.
5. Какие сложности возникают при применении полупроводниковых ИС?
6. Что такое совмещенная ИС?
7. Как характеризуется функциональная сложность ИС?
8. Как характеризуют уровень технологии изготовления ИС?
9. Дайте определение понятия 4биполярная ИС>>.
10. Дайте определение МДП ИС.
11. Что такое гибридная ИС?
12. Каким образом в ИС достигается высокая надежность?
13. Каковы особенности схемотехнических решений в микро­
электронике?
14. Что называют функциональной сложностью ИС?
15. Перечислите три главных аспекта развития микроэлектро­
ники и покажите связь между ними.
16. В чем сущность группового метода прорзводства?
17. Что достигается увеличением размера кристалла и пласти­
ны?
18. В чем заключаются недостатки планарной технологии?


----------- r.naвa 2
Полупроводники

2.1. Введение
В первом приближении полупроводники выделяют из дру­
гих веществ по значению удельного электрического сопротив­
ления р. Считают, что удельное сопротивление металлов менее
10-4 Ом• см, полупроводников - в диапазоне от 10-3 до 10 9 Ом• см,
диэлектриков - более 10 10 Ом• см. Такая чисто количествен­
ная классификация весьма условна, особенно применительно к
полупроводникам и диэлектрикам, между которыми по суще­
ству нет принципиальных различий. Что касается полупровод­
ников и металлов, то главное различие между ними заключает­
ся в том, что у металлов удельное сопротивление возрастает с
ростом температуры, а у полупроводников - падает.
Из числа полупроводников наиболее подходящим для изго­
товления интегральных схем оказался 1'ремний. Он быстро вы­
теснил германий. Поэтому ниже в большинстве примеров и ил­
люстрациях будут использоваться электрофизические парамет­
ры кремния. В последнее время все большее количество ИС
изготавливается из арсенида галлия.

2.2. Структура полупроводников
Площадь современных ИС порядка 10-500 мм 2, площади их
элементов порядка 10· 2- 10- 4 мм 2, а линейные размеры отдель­
ных электродов доходят до О, 1 мкм. Ясно, что в пределах таких
площадей и расстояний исходнал полупроводниковая пластина
должна быть достаточно однородной и обладать контролируе­
мыми свойствами. Если же имеются дефекты и неоднородно­
сти, то они должны быть локализованы и их должно быть до­
статочно мало. Тогда в брак уйдет ограниченное количество
ИС, которые оказались расположенньrми на этих дефектных
участках. Поэтому однородности и бездефектности полупровод­
ников в микроэлектронике уделяется весьма большое внима­
ние.


_2_6_________ ____ ________Г_ла_ва 2. Полупроводввкв
Кристаллическая решетка. Полупроводники, как прави­
ло, - твердые тела с регулярной кристаллической структу­
рой - мопокристаллы. Их кристаллическая решетка состоит
из множества повторяющихся и при­
мыкающих друг к другу элемептар­
п ых ячеек той или иной формы и раз­
мера. В случае простейшей кубиче­
ской решетки (Ge, NaCl и др.) ребро
элементарной ячейки - куба - есть
постояппая решетки а (0,4-0,6 нм).
Кубическая решетка типа алмаза
(Si, Ge) состоит из тетраэдров (рис.
2 .1 ); расстояние между смежными
Рис. 2.1. Структура кристал- ат омами около 0, 2 5 нм.
лической решетки типа
Связь атомов в кристаллической
алмаза
решетке кремния и ряда других полупроводников обусловлена специфи­
ческими обменными силами, возникающими в результате по­
парного объединения валентных электронов у смежных ато­
мов. Такая св.язь (при которой каждый из атомов остается
нейтральным) называется ковалептпой или просто валептпой.
Регулярность (периодичность) структуры кристалла приво­
дит к зависимости его свойств от направления вJ кристалличеu
скои
решетке - к апизотропии. оценивать направление, т.е.
«ориентироваться1> в кристаллической решетке принято с помо­
щью кристаллографических плоскостей. Эти плоскости обозна­
чают трехзначными ипдексами Миллера. Для обозначения ин­
дексьr Миллера заключают в кругльrе скобки: (111), (100) и т.п.
Происхождение индексов Миллера показано на рис. 2.2, а приме­
нительно к простейшей кубической решетке. Отрезки, отсекаемые
данной плоскостью на осях координат, измеряют в единицах постоян­
ной решетки: х = la, = та, z = па, где l, т, п - целые числа. Затем
обратные величины Г , т -i, п-I приводят к общему наименьшему зна­
менателю и знаменатель отбрасывают; тогда числители образуют ин­
дексы Миллера для данной плоскости.

f

Заметим, что каждой кристаллографической плоскости
свойственна своя плотность атомов на единицу площади. На­
пример, если �посмотреты на кристалл с кубической решеткой
перпендикулярно плоскостям (100), (110) и (111), то располо­
жение атомов в поле зрения будет таким, как показано на


27

2.2. Структура полупроводников
2

2

а)

х

х

х
(111)

у

6)

•41

•з

6

7

2

•в

•5

•31 •2

.4

•5 •86 •7

•
•5

•з
.1
8

•6

•2
•7

Рис. 2.2. Кристаллографические плоскости: а - происхождение индексов
Миллера; 6 - расположение атомов в кристаллографических плоскостях

рис. 2.2, б (для ясности узловые атомы пронумерованы). Наи­
большая плотность атомов соответствует плоскости (111), наи­
меньшая - плоскости (100). У кремния плоскость (111) явля­
ется плоскостью спайности: по ней, как правило, распростра­
няются трещины и происходит раскалывание кристалла.
Для разных кристаллографических плоскостей оказываются
разными многие свойства и параметры кристалла: оптические
свойства, скорость травления и др. Поэтому пластины для изго­
товления ИС шлифуют точно по заранее заданной кристаллогра­
фической плоскости.
Искажения кристаллической решетки. Структура кристал­
ла никогда не бывает идеальна - ни в объеме, ни тем более на
поверхности. Всегда имеются дефекты решетки и дислокации:
Дефекты решетки могут иметь вид пустого узла (дефект по
Шоттки) или совокупности пустого узла и междуузельного
атома (дефект по Френхелю). Это - дефекты точечного типа
(рис. 2.3, а, б).
2

-

,,

'
, :]
I

I \

п

\

а)

'

\ I

,

�
б)

I

в)

Рис. 2.3. Точечные дефекты кристаллической решетки: а - дефект
по Шоттки; 6 - дефект по Френкелю; в - примесные дефекты


Глава 2. Полупроводяики

28

Любой реальный полупроводник содержит примеси - либо
паразитные, от которых не удается избавиться при очистке,
либо полезные, которые вводятся специально для получения
нужных свойств кристалла. Каждый примесный (т.е. чужерод­
ный) атом равносилен точечному дефекту решетки. Примесные
атомы (рис. 2.3, в) могут располагаться либо в междуузлиях ре­
шетки (примесь внедрения - 1), либо в самих узлах - вместо
основных атомов (примесь замещения - 2). Последний вариант
более распространен.
Дислокации, т.е. смещения плоскостей решетки, бывают ли­
нейные (краевые) и винтовые (спиральные). Первые - резуль­
тат неполного (не по всей глубине) сдвига решетки: появляется
незаконченная полуплоскость атомов (рис. 2.4, а). Вторые результат полного (по всей глубине) сдвига некоторого участка
решетки (рис. 2.4, 6).

-

--

Рис. 2.4. Дислокации в кристаллической решетке:
а - линейные; 15 - винтовые

Наличие дислокаций приводит к дефектам ИС. Поэтому ко­
личество дислокаций на пластине полупроводника ограничива­
ют.
Предельным случаем беспорядочных дислокаций можно
считать поликристалл, состоящий из множества монокристал­
лических зерен (микрокристаллов) с разной ориентацией, тесно
примыкающих друг к другу. В поликристаллах отсутствует ре­
гулярность структуры и свойственная ей анизотропия свойств.
Поэтому поликристаллы не стали основой для наиболее от­
ветственных - активных элементов ИС и играют в микроэлект­
ронике вспомогательную роль.
Кроме поликристаллических (зернистьrх) твердьrх тел, су­
ществуют аморфные, т.е. совершенно однородные, бесструктур­
ные. Из-за плохой воспроизводимости и стабильности свойств


2.2. Ст,руктура попуnр_ов о_дя_и_к_ов_ _____.___ ._______ . ·---··--;�
_

аморфные полупроводники на практике находят лишь узкоспе­
циальное применение.
Помимо дислокаций, в пластинах полупроводника имеют
место макроскопические дефекты: микротрещины, поры (пузы­
рьки) и т.п. Все это - потенциальные причины брака в ИС.
Поверхность кристалла. У атомов, расположенных на повер­
хности кристалла, часть ковалентных связей неизбежно нару­
шается из-за отсутствия •соседей• по другую сторону границы
раздела. Количество нарушенных связей зависит от кристал­
лографической ориентации поверхности. Например, для крем­
ния в плоскости (111) оказывается оборванной одна из четырех
связей, а в плоскости (100)
две (рис. 2.5).
(111)

(100)

tlll1] ���
а)

6)

Ряс. 2.5. Нарушение ковалентных связей на поверхности кристалла:
а - в плоскости (100), б - в плоскости (111)

Нарушение ковалентных связей влечет за собой нарушение
энергетического равновесия на поверхности. Равновесие восста­
навливается разными путями: может измениться расстояние
между атомами в приповерхностном слое, т.е. структура эле­
ментарных ячеек кристалла; может произойти захват - адсор­
бция - чужеродных атомов из окружающей среды, :которые
полностью или частично восстановят оборванные связи; может
образоваться химическое соединение (например, окисел), не
имеющее незаполненных связей на поверхности, и т.п. В лю­
бом случае структура тонкого приповерхиостного слоя (тол­
щиной несколько нанометров и менее) отличается от струк­
туры основного об-ъема кристалла.

Как следствие, электрофизические параметры приповерхно­
стного слоя заметно отличаются от параметров объема, причем
этот вывод не зависит от того, граничит ли кристалл с вакуу­
мом, воздушной средой или другим твердым телом. Поэтому
приповерхностный или граничный слой (часто говорят просто
- поверхность или границу) следует рассматривать как осо­
бую область кристалла. Эта область играет важную роль в


30

Глава 2. Полупроводники

микроэлектронике, поскольку элементы планарнь1х ИС распо­
ложены непосредственно под поверхностью, а размеры рабочих
областей часто соизмеримы с толщиной граничных слоев.
Поверхность кристалла, разумеется, может быть загрязнена
самыми различными веществами: остатками кислот или щело­
чей, использованных при ее обрабоТ1<е, жировыми пятнами и т.п.

2.3. Носители заряда
Электропроводность имеет место в том случае, когда имеют­
ся свободные носители заряда, которые могут перемещаться
под действием электрического поля или градиента концентра­
ции. Рассмотрим происхождение свободных носителей заряда в
полупроводниках.
Беспримесный и бездефектный полупроводник с идеальной
кристаллической решеткой называют собствеппым полупровод·
пиком. При температуре абсолютного нуля в нем нет свободных
носителей заряда и он является идеальным изолятором. По мере
нагрева в кристалле возникает колебательное движение узловых
атомов решетки. В корпускулярной интерпретации носителями
энергии механических колебаний решетки являются квантовые
частицы фопопы - аналоги световых фотонов.
С повышением температуры кристалла количество и энер­
гия фононов возрастают и они разрывают ковалентные связи
между атомами решетки. При этом одновременно образуются
свободные электроны и незаполненные связи - дырки вблизи
того атома, от которого оторван электрон (рис. 2.6). Процесс об­
разования электронно-дырочных пар под действием фононов
носит название термогеперации.
Незаполненная связь заполняется одним из валентных элек­
тронов смежного атома. На месте этого электрона образуется
новая дырка, и этот процесс повторяется. Следовательно, дыр·
ка ведет себя подобно частице с положительным элемептар·
ным зарядом.
Это очень удобное представление позволяет рассматривать
электрический ток в полупроводнике состоящим из двух ком­
понент - электронного и дырочного, при этом используются
одинаковые, давно известные из электротехники выражения.
Правда, некоторые параметры носителей заряда оказываются
разными.


Z.3. Носители заряда

31
Свободный
электрон

Св ободный
электрон

Связанный
э лектрон

Дырка
а)

Рис. 2.6. Процесс
образования дырки

Свободная
дЬiрка

6)

Рис. 2.7. Замещение примесными атомами
основньzх атомов решетки:
а - донорная примесь (образуются свободный
электрон и неподвижный положительный ион);
6 - акцепторная примесь (образуются свободная
дырка и неподвижный отри цательный ион)

Нарушение ковалентных св.язей и генерация пар элект­
рон-дырка могут происходить как под действием фононов,
так и других квантов энергии, например, под действием света,
рентгеновских и у-лучей. Специфика этих факторов по сравне­
нию с нагревом состоит лишь в том, что их действие локаль­
ное: оно ограничено по глубине проникающей способностью, а
по поверхности - площадью пучка. Иначе говоря, облучение
полупроводника эквивалентно его локальному нагреву. Если
площадь пучка превышает размеры кристалла и кристалл до_­
статочно тонкий (прозрачный для излучения), то результат об­
лучения по существу такой же, как при нагреве.
Проводимость собственного полупроводника, обусловленную
парными носителями теплового происхождения, называют соб·
ственной проводимостью.

Проводимость, обусловленную наличием примесных атомов,
называют примесной проводимостью. Примеси, характерные
для кремния, являются примес.ями замещения.
Если ввести в кремний атом пятивалентного элемента (на­
пример, фосфора, сурьмы или мышь.яка), то четыре из п.яти ва­
лентных электронов этого элемента вступят в связь с четырьмя
электронами соседних атомов кремния (рис. 2. 7, а) и образуют
устойчивую оболочку из восьми электронов. Дев.ятый электрон


32

Глава 2. Полупроводники

в этой комбинации оказывается слабо связанным с ядром пяти­
валентного элемента; он легко отрывается фононами и делается
свободным. При этом примесный атом превращается в непо­
движный ион с единичным положительным зарядом.
Свободные электроны примесного происхождения добавля­
ются к собственным свободным электронам. Поэтому проводи­
мость полупроводника становится преимущественно электрон­
ной. Такие полупроводники называются электропными или
п типа. Примеси, обусловливающие электронную проводи­
мость, называют донорпыми.
Если ввести в кремний атом трехвалентного элемента (на­
пример, бора, галлия или алюминия), то все три его валентных
электрона вступят в связь с четырьмя электронами соседних
атомов кремния (рис. 2. 7, б).Для образования устойчивой вось­
миэлектронной оболочки нужен дополнительный электрон. Та­
ковым оказывается один из валентных электронов, который от­
бирается от ближайшего атома кремния. В результате образует­
ся незаполненная связь
дырка, а атом примеси
превращается в неподвижный ион с единичным отрицатель­
ным зарядом.
Дырки примесного происхождения добавляются к собствен­
ным дыркам, так что проводимость полупроводника становит- •
ся преимущественно дырочной. Такие полупроводники называ­
ют дырочпыми или р-типа 1• Примеси, обусловливающие ды­
рочную проводимость, называют акцепторными.
Отрыв •лишнего•> электрона от донора и •недостающего,>
электрона для акцептора требует некоторой энергии - энергии
ионизации или активации примеси. Поэтому при нулевой тем­
пературе Т = О К ионизация не имеет места, но в рабочем диа­
пазоне температур (от -60 °С и выше) и, в частности, при ком­
натной температуре (Т = 15-25 °С) примесные атомы ионизиро­
ваны практически полностью.
Поскольку в примесных полупроводниках концентрации
электронов и дырок резко различны, принято называть носите­
лей преобладающего типа основными, а носителей другого
1 Буквы п (от negat1ue) ир (от pos1t1ue) общеприняты в полупроводниковой фи­
зике и технике для обозначения величин, связанных соответственно с электро­
нами и дырками. Для величин, характеризующих собственный полупровод­
ник, использу ется буква 1 (от mtrmsic).


2.4. Энергетические уровни и зоны

33

типа - кеосковкыми. В полупроводнике п-типа основные носи­
тели - электроны, а в полупроводнике р-типа - дырки.

2.4. Энергетические уровни и зоны
Количественный анализ полупроводников и полупроводни­
ковых приборов базируется на зонной теории твердого тела.
Зонная структура. Твердое тело представляет собой множе­
ство атомов, сильно взаимодействующих друг с другом благо­
даря малым межатомным расстояниям. Поэтому вместо сово­
купности дискретных энергетических уровней, свойственных
отдельному атому, твердое тело характеризуется совокупно­
стью экергетических зон.
Верхняя разрешенная зона называется зоной проводимости,
нижняя - валентной зоной. В полупроводниках и диэлектри­
ках они разделены запрещенной зоной. Отличие диэлектриков
от полупроводников состоит главным образом в значительно
большей ширине запрещенной зоны. При нулевой абсолютной
температуре валентная зона всегда полностью заполнена элект­
ронами, тогда как зона проводимости либо заполнена только в
нижней части, либо полностью пуста. Первый случай свойст­
вен металлам, второй - полупроводникам и диэлектрикам.
При температуре, отличной от абсолютного нуля, ситуация
несколько изменяется.
Энергетические диаграммы на рис. 2.8 построены для энер­
гии электрона. Когда энергия электрона увеличивается, элект­
рон занимает более высокое положение в зонной диаграмме.,
Если же говорить об увеличении энергии дырки, то это будет
соответствовать, очевидно, продвижению дырки вглубь валент­
ной зоны. Энергия электрона и дырки измеряется в элект­
рон-вольтах (эВ).
Ширина запрещенной зоны равна
(2.1)

где ч>с и q>., - соответственно энергетические уровни для зоны
проводимости и потолка валентной зоны.
На рисунке 2.9 показаны основные параметры зонных диа­
грамм полупроводников для температуры, отличной от абсо2--3423


•

34

Глава 2. Попупроводники

III

6)

а)

в)

Рис. 2.8. Зонные диаграммы металла, диэлектрика и полупроводника:

а - металл (зоны перекрыты и даже небольшая добавка энергии приводит

к движению электронов); (5 - диэлектрик (очень большой энергетический
зазор между зонами, проводимость невозможна); в - собственный полупро­
водник (расстояние между зонами не очень велико - появляются электро­
ны в зоне проводимости и равное количество дырок в валентной зоне,
возможна конечная проводимость); I - зона проводимости,
II - валентная зона, III - запрещенная зона

лютного нуля. Ширина запрещенной зоны зависит от темпера­
туры:
(2.la)

<!> з = <!> зо - Е зТ ,

где <р30 - ширина зоны при Т = О,
Т - абсолютная температура,
Е 3 - температурная чувствительность.
Для кремния Б 3 = 3 • 10-4 В/0С, а при комнатной температуре
<р 3 ""1,11 В.
Энергию, соответствующую середине зоны, называют электроста тическим потенциалом проводника
<!>Е

<р,

q,,
(j)3

<рЕ

q, .,

1
1

а)

(('р

<рЕ

q, .,

(2.16)

=½(<р е + <р ., ).

t
1

(р3

1

6)

q,,
(рр

<рЕ

t

�3

1

-------l<pp

<р"
в)

Рис. 2.9. Значения энергий в зонной диагрщ,�ме для
а) собственного; 6) электронного; в) дырочного полупроводников;
q,F ·- уровень Ферми (см. разд. 2.5)


35

2.4. Эиерrетические уровии и зоиы

Приведенные выше качественные соображения относитель­
но примесных полупроводников могут быть проиллюстрирова­
ны еще раз качественно на зонных диаграммах. Электрические
уровни примесей показаны на зонных диаграммах 0 (положи­
тельно заряженные ионы-доноры) и 0 (отрицательно заряжен­
ные ионы-акцепторы), рис. 2.10.
l:)
l:)
Эsie:::::эSiE:

�

� -

А

А

Э Si е:::::э Р Е:

l:)
ЭSi

�

Э Si

А

l:)

е:::::э Si Е:
+

е:::::э В

А

----- (j)c

2"'
-----<ри
а)

Е:

[j)E

000000

+ + + + + + (j)u

6)

Рис. 2.10. Схематическое атомистическое изображение и зонная диаграмма
примесных полупроводников:
а - полупроводник п-типа, 6 - полупроводник р-типа (1 - ионы доноров;
2 - ионы акцепторов; - - электроны; + - дырки)

•

В полупроводнике одновременно присутствуют электроны и
дырки, порожденные двумя причинами: 1) возбуждением соб­
ственного полупроводника п, и р,; 2) возбуждением донорных и
(или) акцепторных примесей. При этом полные концентрации
носителей заряда для примесного полупроводника будут п = пп
+ п, и р = р, (донорный); р = Рп + Р, и п = п, (акцепторный); при
полной ионизации примесей п п = Nд - количеству доноров, а
Рр = NА• т.е. количеству акцепторов. Обычно вследствие малой
энергии возбуждения эти величины значительно выше собст­
венных концентраций, т.е. пп >>п, и Рп >>р, концентрации
основных носителей определяются выражениями п = Nд (на са­
мом деле п = N д - NА, но Nд > > Nд) для донорного полупро­
водника и р = N А для акцепторного полупроводника.


_З_6____________________Г_лав_11_ _2. Полупроводиикк

2.5. Распределение носителей в 3онах
проводимости
Разрешенные зоны содержат огромное количество уровней
(1022 - 1023 в 1 см3 ), на каждом из которых могут находиться
электроны. Фактическое же количество электронов зависит от
концентрации доноров и от температуры. Чтобы оценить фак­
тическую концентрацию носителей в полупроводнике, нужно
знать распределение уровней и вероятность заполнения этих
уровней.
Энергетическое распределение электронов в твердом теле
определяется статистикой Ферми-Дирака. Принципиальный ре­
зультат функции распределения Ферми-Дирака дает вероят­
ность того, что электрон занимает уровень, соответствующий по­
тенциалу qi:
т
1 + е 'Р

(2.2)

где <i>т = kT - температурный потенциал, Т - абсолютная тем­
пература, k - постоянная Больцмана, q>F - уровень Ферми.
Можно определить уровень Ферми как потенциал, вероят­
ность заполнения которого электроном равна в точности одной
второй. Функции распределения Ферми-Дирака симметричны
относительно уровня Ферми. Если энергетические состояния в
зоне проводимости и валентной зоне одинаковы, то уровень Фер­
ми находится посередине запрещенной зоны. Это случай собст­
венного полупроводника (рис. 2.11, а). В полупроводнике п-типа
концентрации электронов в зоне проводимости больше, чем в
случае собственного полупроводника (рис. 2.11, 6), а в полупро­
воднике р-типа - меньше (см. рис. 2.11, в).
Для потенциалов в несколько единиц kT выше или ниже
уровня Ферми, когда экспонента значительно больше единицы,
распределение Дирака-Ферми можно заменить распределением
Максвелла-Больцмана. При этом вероятность заполнения уров­
ня в зоне проводимости определяется как

(2.3)


37

2.5. Распределеиие 11ос11телей в зоиах проводимости
ер

(1)

F = _l
п 2

о
ере

-

1/2

Fп

- - - -

ер!:
epv

1

ере
epF

+ + + + +

а)

о

1/2

---

-

Fп

epF

ерЕ
(j)v

---

1

о

1/2

ер,
(j)E
(l)p

+

6)

(j)v

+ + + + +
в)

Р11с. 2.11. Фующия распределения Ферми-Дирака для собственного,
п- и р-типов полупроводников: а -собственный полупроводник;
6 - полупроводник п-типа; в - полупроводник р-типа

Вероятность незаполнения уровня в валентной зоне (т.е. на­
личия дырки на этом уровне) определяется аналогичной функ­
цией
(2.4)

Обозначим через Р(<р) плотность уровней в зоне проводимости
вблизи уровня <р. Тогда Р(_ <р) d <p будет количеством уровней в диа­
пазоне d <p . Умножив это количество на вероятность заполнения
этих уровней Fn (<р), получим концентрацию свободных электро­
нов с энергиями от <р до <р + d<p . Полную концентрацию свобод­
ных электронов п получим путем интегрирования по всей шири­
не зоны проводимости. Если принять зависимость P(<p)-h, то

(2.5)
Здесь Nc - так называемая эффективная плотность уров­
ней (состояний) в зоне проводимости:
N c = 0,5. 10 1б (т п /т)3/2тз12,
где т п - эффективная масса электрона.


38

Глава 2. Попупроводиики

Аналогичным методом получается выражение для концент­
рации дырок:
- <Рг�
p =Nve <Рт
(2.6)
Здесь Nii - эффективпая плотность уровней (состояпий) в
валептпой зоне:
NV = О 5 1016(т /m )3/2 Т3 12 '
'

р

(2.7)

где тР - эффективная масса дырки. Для кремния отношение
NcfN0 = 2,8. Часто для простоты полагают Nc = N".
Перемножая левые и правые части в формулах (2.5) и (2.6) и
учитывая, что (j) 3 = ч> с - q>v , нетрудно представить произведение
концентраций электронов и дырок следующим образом:
пр= NcNve-,p,/q,т.

(2.8)

Как видим, при пеиз.менной температуре произведение коп
цеnтраций - величина постоянная, т.е. увеличение одной из
концентраций сопровождается уменьшением другой.
В собственном подупроводнике концентрации электронов и
дырок одинаковы. Обе они обозначаются через п, и называются
собственными концептрациями. Подставляя п = п, и р = п, в
(2.8) и извлекая квадратный корень, получаем выражение для
собственной концентрации:

(2.9)
Отметим полную зависимость собственной концентрации от
ширины запрещенной зоны и температуры.
Соотношение (2.8) часто записывают в более компактной
форме через собственную концентрацию:
2
np=n,.
(2.10)
Используя выражения (2.5) и (2.6), полагая для простоты
Nc = Nii и учитывая, что q>E =½<ч>с + q>v ), нетрудно представить
отношение концентраций электронов и дырок в виде:
п/р = е

_ 3.!<Рс<Р�
<Рт

(2.11)


2.5 Распределение носителей в зоиах проводимости

39

Подставим в левую часть (2.11) значение р = п� /п из (2.10) и
прологарифмируем обе части; тогда уровень Ферми запишется
через концентрацию свободных электронов следующим обра­
зом:
<рр == IPE + <рт ln(n/n,).
(2.12а)
Если подставить в (2.11) значение п = п,2/р из (2.10), то уро­
вень Ферми запишется через концентрацию дырок:
<р F == <р Е

-

\Рт ln(p/n,).

(2.126)

Вторые члены в правых частях (2.12), характеризующие
концентрации носителей, называются химическим потенциа
лом. Следовательно, уровень Ферми является суммой электри­
ческого и химического потенциалов. Отсюда еще одно его на­
звание - электрохимический потенциал.
Одно из фундаментальных положений в фязике полупровод­
ников формулируется следующим образом: уровень Ферми оди
наков во всех частях равновесной системы, какой бы разнород
ной она ни была. Это положение можно записать в виде двух
равносильных выражений:
<рр = const,
grad (<рр) = О.

(2.12в)

Из условия (2.12в) в одномерном случае следует, что если
концентрация электронов изменяется вдоль координаты х, то
возникает электрическое поле
dn/dx
=
Е <рт
.
п
Таким образом, в неоднородно-легированных полупроводни­
ках смещение подвижных носителей, обусловленное градиен­
том концентрации, уравновешивается внутренним электриче­
ским полем. Иногда его называют встроенным, а возникающее
при этом равновесие называют больцмановским.
Движение носителей в электрическом поле называют дрей
фом. Плотность дрейфового тока определяется известным вы­
ражением
J = аЕ,
где cr - удельная проводимость.

(2.13)


40

Глава 2. Полупроводники

Поскольку в полупроводниках имеется два типа подвижных
носителей, удельная проводимость складывается из двух со­
ставляющих - электронной и дырочной:
cr = qnµ ,.

+

(2.14)

qpµ Р,

где µ ,. и µР - подвижности соответствующих носителей.
Главной составляющей в формуле (2.14) является та, кото­
рая связана с основными носителями. Составляющая, связан­
ная с неосновными носителями, обычно не существенна. В соб­
ственном полупроводнике обе составляющие равноценны.
Для оценки удельной проводимости, а значит, и дрейфового
тока необходимо прежде всего знать концентрации электронов
и дырок.
Казалось бы, значения пир можно найти по формулам (2.5)
и (2.6). Однако для этого нужно знать положение уровня Фер­
ми в запрещенной зоне. Между тем уровень Ферми, как и хи­
мический потенциал, является функцией концентрации. Сле­
довательно, расчет концентрации должен предшествовать опре­
делению уровня Ферми. Эту задачу можно решить,
руководствуясь условием нейтральности.
Исходя из условия нейтральности, запишем для электронно­
го полупроводника следующее соотношение:
(2.15)
где N; - концентрация положительных донорных ионов (име­
ется в виду эффективная концентрация). Выражая концентра­
цию дырок через концентрацию электронов с помощью (2.9) и
решая получившееся квадратное уравнение относительно п, на­
ходим концентрацию электронов в виде:

пп =

(2.lба)

Аналогичным путем можно найти концентрацию дырок в
дырочном полупроводнике:
2

N:

+п, +-.

2

(2.166)


2.5. Распределение носителей в зонаJ_С _l J.) ��
___________41
_ :! ОВ и__м_о_ст_и

Индексы п и р означают принадлежность к полупроводнику
,с соответствующим типом проводимости.
Рабочий температурный диапазон примесных полупроводни­
ков ограничен снизу температурой полной ионизации примесей
(для кремния -70... -100 °С), а сверху - критической темпера­
турой, при которой примесный полупроводник превращается в
собственный. В этом диапазоне формулы (2.16) можно упрос­
тить, заменяя эффективную концентрацию примесных ионов N*
эффективной концентрацией примесных атомов N (поскольку в
рабочем диапазоне практически все атомы примеси ионизирова­
ны) и пренебрегая собственной концентрацией п, (поскольку в
рабочем диапазоне она существенно меньше концентрации при­
меси). Тогда концентрации основных носителей запишутся в
виде:
(2.17а)
Рр

=

(2.176)

Na .

Концентрации неосновных носителей легко определить, вос­
пользовавшись соотношением (2.10):
Рр = ni2/Nд ,
пр = n,2/Na-

(2.18а)
(2.186)

Критическую температуру Т.,_Р можно найти следующим об­
разом:
Т,,

а

5800 {

1

?-у
N N

c v

(2.19)

aN

где N - концентрация примеси, а Nс и Nv зависят от темпера­
туры.
Полагая а = 0,1 и N = 10 16 см·3 и задаваясь параметрами для
:кремния 1р 3 = 1,11 В, Nc = 2,8 · 1019 см-3 и Nv = 1,0 • 1019 см-3,
получим
Ткр = 273(___!0__ - 1}
4,5lnp

(2.20)

где удельное сопротивление р = 0,85 Ом• см соответствует кон­
центрации N = 1016 см-3.


42

Глава 2. Полупроводники

Из выражений (2.18) следует, что при низких температурах
концентрация неосновных носителей очень мала. Так, если
Nд = 2 • 10 17 см~3, то при комнатной температуре в кремнии
концентрация дырок согласно (2.18а) составляет всего
2000 см- 3, т.е. на 14 порядков (!) меньше, чем концентрация
электронов. Однако с повышением температуры концентрация
неосновных носителей возрастает очень резко - пропорциона­
льно п, 2, т.е. несравненно быстрее, чем даже концентрация соб­
ственных носителей. Так, в кремнии рост температуры на 5о·с
сопровождается увеличением концентрации неосновных носи­
телей примерно на 3 порядка.
Столь же сильно влияют на концентрацию неосновных носи­
телей такие факторы, как свет и разного рода ионизирующие
излучения. Поэтому в тех полупроводниковых приборах и эле­
ментах ИС, работа которых основана на неосновных носителях,
эти факторы необходимо по возможности исключать. С другой
стороны, в специальных случаях влияние этих факторов мож­
но использовать для построения фоточувствительных прибо­
ров, дозиметров излучения и т.п.
Как известно, в свободном пространстве (вакууме) электро•
ны под действием электрического поля совершают равноуско­
ренное движение.
В твердом теле движущиеся электроны непрерывно испыты­
вают столкновения с узлами кристаллической: решетки, приме­
сями и дефектами, ·r.e., как говорят, испытывают рассеяние.
Равноускоренное движение под действием поля возможно толь­
ко в коротких интервалах между столкновениями, на длике
свободкого пробега. После каждого столкновения электрон, гру­
бо говоря, должен заново •набиратм скорость. В результате
средняя дрейфовая скорость электронов и дырок оказывается
вполне определенной величиной, пропорциональной напряжен­
ности поля:
v =µЕ.
Коэффициент пропорциональности µ ест" подвижкость но­
сителей, измеряемая в единицах см 2 /В с. При напряженности
поля 1 В/см подвижнос'Iь численно равна скорости.
В связи с различием эффективных масс электронов и дырок
их подвижности тоже различаются. Как правило, подвижность
электронов больше подвижности дырок (у кремния почти в 3


2.5. Распределение носителей а зонах проводимости

43

раза). Чем больше подвижность, тем больше скорость движе­
ния носителей и тем выше быстродействие полупроводникового
прибора.
Подвижность зависит от ряда факторов, важнейшими из ко­
торых являются температура, концентрация примесей и напря­
женность поля. Эти зависимости необходимо иметь в виду при
разработке полупроводниковых приборов и элементов ИС.
Зависимость подвижности от температуры определяется ме­
ханизмом рассеяния носителей. Если преобладает рассеяние на
узлах решетки, то
(2.21)
если же преобладает рассеяние на ионах примеси, то
(2.22)
Значения µ0 относятся к исходной (например, комнатной)
температуре Т0 , а значения µ - к температуре Т (имеются в
виду абсолютные температуры)1. Показатель степени с зависит
от материала и типа проводимости. Для кремния (электронного
и дырочного) с о::%·
Учет двух процессов приводит к следующему выражению
для подвижности
1
1
1
-=-+-.
µ µL µ I

(2.23)

Результирующая подвижность близка к меньшей из двух
составляющих µL и µ1. Для кремния при температурах
Т > О 0С меньшей оказывается составляющая µL; поэтому за­
висимость �1(Т) описывается формулой (2.21): подвижность
уменьшается с ростом температуры. При температурах
Т < -50 °С меньшей оказывается составляющая µ1 ; поэтому
зависимость µ(Т) описывается формулой (2.22); подвижность
уменьшается с уменьшепием температуры. В диапазоне ра­
бочих температур -60 ... +125 °С подвижность может изменя­
ться в 4·-5 раз, что, конечно, существенно.

1 Индексы L и I происходят от Latt1ce (решетка) и Ion (ион).


44

Глава 2. ПолупровоДJО[Gи

Запишем общее выражение дш1 удельной проводимости при­
менительно к собственному и примесным полупроводникам.
Для собственного полупроводника п = р = п, и, следовательно,
(2.24)

Температурная зависимость собственной проводимости опре­
деляется температурной зависимостью собственной концентра­
ции п, , см. (2.9). Эта зависимость, как уже отмечалось, очень
сильная - экспоненциальная. На рис. 2.12,а функция cr, (1/Т)
для кремния представлена в полулогарифмическом масштабе;
приведен также масштаб в 0 С. Как видим, в рабочем диапазоне
-60 ... +125 °С собственная проводимость кремния меняется на
5 порядков. -У материалов с меньшей шириной запрещенной
зоны (например, у германия) изменение о, будет меньше, хотя
сами значения cr, будут больше из-за большей собственной кон­
центрации.
cr,/cr,0
4

10

10
10

1

__________ J_
ь

2

11-'----�-�--�
2

10

-2
-2

250

5

1

100

20 -40 -70
а)

т:с

10

8
3

ь

,а
\

\1

10 /Т
N1

6)

Рис. 2.12. Зависимость относительной удельной проводимости кремник от
температуры, cr O и cr0 - проводимости при +20'С
а - собствеnпый кремний, б - примесный кремний

Для примесных полупроводников - электронного и дыроч­
ного - пренебрегая в выражении (2.14) составляющими, свя­
занными с неосновными носителями, и используя соотношения
(2.17), получаем
(2.25а)
(2.256)


�.6. Эффект �ОЛЯ ______________________4_5

В рабочем диапазоне температуры концентрации Nд и Nа
можно считать постоянными. Следовательно, в этом диапазоне
температурная зависимость проводимости примесного полупро­
водника определяется температурной зависимостью подвижно­
сти.
На рис. 2.12, б показаны две кривые (cr/o-0)(1/T) для разной
концентрации примеси (N2 > N1 ). Для сравнения штриховой
кривой 1 показана часть функции а, (1/Т), заимствованной из
рис. 2.12, а. Точки а соответствуют критической температуре
(2.19), при которой примесный полупроводник превращается в
собственный, поэтому левее точек а кривые а сливаются с
штриховой кривой cr,. Точки Ь соответствуют температуре
ионизации примеси; правее этих точек (т.е. при более низких
температурах) концентрация ионизированных примесных ато­
мов убывает и соответственно уменьшается удельная проводи­
мость.
Как видим, в рабочем диапазоне зависимость cr(T) для при­
месных полупроводников несравненно слабее, чем для собст­
венного. Кроме того, она имеет (;обратный» характер: с ростом
температуры а не увеличивается, а уменьшается.
Штриховой кривой 2 показана зависимость cr(l/T) для очень
большой концентрации примеси, т.е. для вырожденного полу­
проводника. Зависимость эта очень слабая, что подтверждает
близость вырожденных полупроводников к металлам и оправ­
дывает их название - полуметаллы.

2.6. Эффект поля
Эффектом поля называют изменеН,uе ,сонцентрации носите­
лей (а, значит, и проводимости) в приповерхностном слое полу
проводника под действием электри11,еского поля. Слой с повы­

шенной (по сравнению с объемом) концентрацией основных но­
сителей называют обогащенным, а слой с пониженной их
концентрацией - обедненны.м.
Пусть между металлической пластинкой и полупроводни­
ком, разделенными диэлектриком (например, воздухом) задано
напряжение И (рис. 2.13). Ясно, что в системе МДП (металл диэлектрик - полупроводник) протекание тока невозможно.
Поэтому такая система равновесна и представляет собой своеоб­
разный конденсатор, у которого одна из обкладок полупровод-


46

Глава 2. ПолуnрОВОДIIИКВ

метал л

виковая. На этой обкладке бу­
дет
наведен такой же заряд,
-как и на металлической. Одна­
ко в отличие от металла за
ряд
в полупроводнике не сосре­
х
о
-и
доточивается
на поверхности.
+
а распространяется на неко•
торое расстояние в глубь крис­
х
талла.
Электрическое поле, создан­
ное напряжением И, распредеРис. 2.13. Эфф ект поля в стру ктур е ляется между диэлектриком и
м еталл-диэлектрик-полупроводник полупроводником. Поле в диэлектрике Ед постоянное (так
как в диэлектрике нет объемных зарядов), а поле в полупровод­
нике заведомо непостоянное, так как заряд спадает от поверх­
ности в глубь полупроводника.
Знак заряда в полупроводнике зависит от полярности прило­
женного напряжения.
При отрицательной полярности
(рис. 2.13) наведенный заряд положительный. В дырочном по­
лупроводнике положительный заряд обусловлен дырка.�и, кото­
рые притянулись к поверхности, а в электронном полупроводни­
ке - ионами доноров, от которых оттолкнулись электроны,
компенсировавшие их заряд. Значит, в первом случае происхо­
дит обогащение, а во втором - обеднение приповерхностного
слоя основными носителями. При положительной полярности
напряжения, наоборот, в электронном полупроводнике происхо­
дит обогащение приповерхностного слоя электронами, а в ды­
рочном -- обеднение дырками и «обнажение• отрицательных
акцепторных ионов.
Протяженность подвижных зарядов в обогащенном слое на­
зывают длиной Дебая или дебаевской длиной, а протяженность
неподвижных ионных зарядов - глубиной обедненного слоя.
Обе эти величины рассматриваются ниже. Обогащенные и обед­
ненные слои оказываются те-м тоньше, чем больше концентра­
ция примеси, а значит, и концентрация основных носителей.
Иначе говоря, тонкие слои свойственны низкоомным полупро­
водникам, а толстые - высокоомным.
Если принять потенциал в объеме полупроводника равным
нулю, то потенциал поверхности будет отличен от нуля благоЕд

-

++
+ +
++ + Полупро
водник
: ++
d
,_

-

..


47

2.6. Эффект поля

даря наличию зарядов между объемом и поверхностью. Раз­
ность потенциалов между поверхностью и объемом называют
поверхностным потенциалом и обозначают через <р8 •
Следует заметить, что-в отсутствие внешнего напряжения
поверхностный потенциал не падает до нуля, а имеет конечную
равновесную величину q> 30 • Она обусловлена наличием поверх­
ностных состояний, которые способны захватывать или отда­
вать электроны на сравнительно длительное время. Еще одним
фактором, влияющим на величину q>80, является контактная
разиость потенциалов между металлом и полупроводником.
Внешнее напряжение, необходимое для того, чтобы скомпенси­
ровать равновесный поверхностный потенциал, называется на­
пряжением спрямления зон и обозначается через UF (от Flat
Band - плоские зоны).
Как уже отмечалось, электрическое поле распределяется
между диэлектриком и полупроводником. Поле в диэлектрике
возрастает при уменьшении расстояния d. Расстояние d не мо­
жет быть произвольно малым: при условии d < 10 нм диэлект­
рик становится проницаемым для подвижных носителей благо­
даря туннельному эффекту. При этом структура МДП пере­
стает быть аналогом конденсатора: обмен носителями через
диэлектрик вызывает протекание тока, а значит, нарушает рав­
новесное состояние. Распределение потенциала в области объ­
емного заряда можно оценить с помощью одномерного уравне­
ния Пуассона
d2 <р
'А,
--=--(2.26)
2
dx
i:oi:'
где л. - плотность заряда; i: 0 - электрическая постолнная; i: относительная: диэлектрическая проницаемость полупроводни­
ка.
В общем случае плотность заряда в полупроводнике записы­
вается следующим образом:
'А, = q(p + N д

*

-п

- Nа

*

(2.27)
"
где N*
д и N*
а - концентрации ионизированных примесеи.
Концентрации свободных носителей в правой части (2.27)
связаны с величиной электростатического потенциала ч>Е · Что­
бы установить эту связь, воспользуемся вь1ражениями (2.12).
),


48

Глава 2. Полупроводники

Пусть в глубине полупроводника, где заряды и поле отсутству­
ют, концентрации электронов и дырок равны п0 и р0, а электро­
статический потенциал равен <f>Eo· Соответствующие величины
вблизи поверхности обозначим просто через п, р и ({) Е. Подста­
вим в (2.12а) сначала значения п0 и <f> E o• а затем пи q>E и при­
равняем правые части (поскольку в равновесной системе q, F
const). В результате получим
Ч>в -q>EO =ip,ln(n0/n).
Примем для простоты q> ЕО = О (это соответствует заземлению
полупроводника на рис. 2.13). Тогда концентрация п выразит­
ся через q> Е следующим образом:
(2.28а)
Аналогичным путем, с помощью (2.126), можно выразить
/
концентрацию р через q> Е:
(2.286)
Заменим в формулах (2.28) величину ({) Е на -q>, т.е. перейдем
от энергетических потенциалов к электрическим. После этого,
подставляя концентрации пир в правую часть (2.27) и далее плотность заряда л. в уравнение Пуассона, получам нелинейное
дифференциальное уравнение, которое в общем случае не имеет
аналитического решения. Однако в двух важных частных слу­
чаях, когда можно пренебречь либо концентрацией ионизиро­
ванных примесей (обогащенные слои), либо концентрацией
свободных носителей (обедненные слои), аналитические реше­
ния существуют. Эти случаи рассмотрены ниже.
Эффект поля в собственном полупроводнике. Подставим в
правую часть (2.27) концентрации (2.28) и заменим <f> E на -41
Далее, учитывая, что полупроводник собственный, положим
п0 = р0 = п, и N/ = N/ =О.Тогда плотность заряда приводится
к виду
л. = -2qn,sh(q,/(J) т ).
Подставим полученное значение "л. в правую часть (2.26), по­
делим обе части на (J)т и введем безразмерную переменную
Ф = q,/ (J)т. После этого уравнение Пуассона примет вид:
d2 Ф
l
(2.29)
2- sh(Ф),
2 =dx
l D,


2.6. Эффект поля

49

:::-:,,,.

�

где
(2.30)

lDt =

- дебаевская длина в собственном полупроводнике. Для крем­
ния l Dt :::: 14 мкм.
Рассмотрим простейший случай, когда 1 (P s l < (J)т, т.е. IФ1 < 1.
В этом случае можно положить sh Ф:::: Фи (2.29) превращается
в линейное дифференциальное уравнение 1-го порядка. Для
граничных условий <р(СХ)) = О и <р(О) = (j)s решение имеет вид:
(2.31)
Из (2.31) следует, что дебаевская длина - это расстояние,
на котором потенциал уменьшается в е
q>
раз по сравнению с максимальным зна­
чением <р 3 на поверхности.
Зная функцию ср(х), легко получить
функции Е(х), л(х), п(х) и р(х). Все они
показаны на рис. 2.14 для той же поляр­
ности напряжения, что и на рис. 2.13.
.,,,.х
х
Показана также зонная диаграмма полу­
проводника, где кривая q>E(x), а значит,
и все другие :тергетические уровни яв­
ляются зеркальным отображением кри­
вой q>(x). Искривление энергетических
зон вблизи границы полупроводник-диэ­
лектрик - характерная особенность эф­
фекта поля.
Если изменить полярность напря­
жения, то знак объемного зарлда изме­
нитс л и зоны искривятся в другую сто­
рону - �вниз». Однако при обеих по­
лярностях приповерхностный слой в
w ..х
собственном полупроводнике оказыва­
Рис. 2.14. Эффект поля
етсл обогащенным (либо электронами, в собственно полупровод­
м
либо дь1рками).
нике. зонная диаграмма,
Величину поверхностного потенциа­ распределение потенциала,
ла можно найти из условия непрерыв- поля, заряда и концентра-

�-t

�- t

ций носителей


50

Глава 2. Полупроводники

ности электрической индукции на границе полупроводник-диэ­
лектрик:

(2.32а)
где Е п и Е д - относительные диэлектрические проницаемости
полупроводника и диэлектрика.
Поле в диэлектрике посто.янное, поэтому (рис. 2.13)

Ед (О)=(И-q>.)/d;

(2.326)

поле в полупроводнике на границе с диэлектриком (рис. 2.14)
определяете.я функцией <р(х):

_/

(2.32в)

математические
Опуская
выкладки, приведем зависи­
мость q> 8 (И) в виде кривых на
0,5
12
рис. 2.15. Из этих кривых вид­
1
но, что поверхностный потен­
5
8
10
циал составляет тем большую
4
долю приложенного напр.яжени
я, чем тоньше диэлектрик
0
50
100 v/111т
5
10
20
(чем меньше параметр а). При
всех реальных значениях тол­
Рис. 2.15. Зависимость поверхност­
щины диэлектрика и прило­
ного потенциала в собстве11ном по­
лупроводнике от толщины днэлект- женного напряжения поверх­
ностный потенциал не превырика и напряжения на металличе­
ском :электроде
дес.ятых
нескольких
шает
долей вольта.
Примесный полупроводник. Особенностью эффекта поля в
примесных полупровоцниках по сравнению с собственными яв­
л.яетс.я возможность получени.я как обогащенных, так и обедненнь1х слоев.
Режим обогащеии.я соответствует такой полярности прило­
женного напр.яжения, при которой основные носители притя­
гиваютс.я к поверхности. Этот случай близок к рассмотренному
на рис. 2.14, но отличается меньшим искривлением зон
(рис. 2.16, а). Меньшее искривление зон обусловлено тем, что
примесный полупроводник богат подвижными носителями и

��:S:::::=-...J--....L.--L-


51

2.6. Эффект поля

потому даже небольшой поверхностный потенциал обеспечи'
ет необходимый заряд вблизи поверхности.
(j)

lo

q,,

�

(/)с

�

1

1

Ч'р V

q,v
а)

15)

ИнвеrсиОН.;­
НЫИ СЛОИ
в)

Рис. 2.16. Эффект поля в примесных полупроводниках: а - режим обога­
щения; 6 - режим обеднения, в - образование инверсионного слоя

При условии q> 8 < 2ч> т потенциал в примесном полупровод ­
нике описьrвается выражением (2.31), но дебаевская длина
имеет вид
(2.33)

где N - концентрация ионизированной примеси (донорной или
акцепторной).
Поскольку N » п1 , дебаевская длина в примесных полупро­
водниках гораздо меньше, чем в собственных. Кроме того, она
практически не зависит от материала. Полагая N = 10 16 см-З,
получаем из (2.33) типичное значение l D ""0,04 мкм. Как ви­
дим, поле проникает в примесные полупроводники на ничтож­
ную глубину.
Если применить формулу (2.33) к металлам (хотя это не со­
всем правомерно), то при свойственных им огромных концент­
рациях свободных носителей 1022- 1023 см- 3 дебаевская длина
lD лежит в пределах десятых долей нанометра, что соответству­
ет 1-2 межатомным расстояниям. Подобная оценка хорошо ил­
люстрирует тот известный факт, что зарядьr в металле всегда
сосредоточены на поверхности, внутри металла заряды и
электрические поля отсутствуют.
Режим обеднекия соответствует такой полярности прило­

женного напряжения, при которой основные носители отталки­
ваются от поверхности. В этом случае поверхностный потенци­
ал может иметь гораздо большие значения, чем в режиме обо-


52

Глава 2. Полупроводники

гащения (рис. 2.16,6). Отталкивание основнь1х носителей, как
уже отмечалось, приводит к появлению некомпенсированного
объемного заряда примесных ионов.
Предположим, что граница обедненного слоя резкая и рас­
положена на расстоянии l0 от поверхности. Плотность объемно­
го заряда в обедненном слое примем постоянной и равной qN,
где N - концентрация ионизированной примеси. Подставляя
значение л, =qN в уравнение Пуассона (2.26) и используя гра­
ничные значения Е (l 0) = О и <p(l0) = О, получаем после двукрат­
ного интегрирования:

Положив в этом выражении х = О и (р(О) = <р 5, найдем протя­
женность (толщину) обедненного слоя:
(2.34)
Хотя структура выражений (2.34) и (2.33) одинакова, между
ними есть и существенная разница: дебаевская длина зависит
только от свойств материала, тогда как толщина объемного за­
ряда зависит еще и от приложенного напряжения, поскольку
от него зависит потенциал <р 8 (см. рис. 2.15). Обычно величина
l0 в несколько раз превышает величину lD .
С ростом напряжения основные носители продолжают от­
талкиваться (а обедненный слой расширяться), но одновремен­
но к поверхности притягиваются неосновные носители. Когда
нарастающий заряд неосновных носителей превысит заряд
оставшихся основных, измепится тип проводимости npuno
верхпостного слоя. Этот случай характеризуют термином ин
версия типа проводимости, а слой, образованный неосновны­
ми носителями, называют инверсиопным слоем (рис. 2.16, в).
С точки зрения зонной теории образование инверсионного
слоя объясняется тем, что вблизи поверхности уровень электро­
статического потенциала пересекает уровень Ферми. Тем са­
мым на приповерхностном участке уровень Ферми оказывается
в той половине запрещенной зоны, которая соответствует пре­
обладанию неосновных носителей. Толщина инверсионного
слоя составляет всего 1-2 нм, т.е. 3-4 постоянных решетки.


53

2.7. Рекомбинация носителей

Из рис. 2.16, в видно, что инверсионный слой образуется
при значении поверхностного потенциала -(ч>F - ч>Ео), Дальней­
шее увеличение внешнего напряжения сопровождается даль­
нейшим увеличением потенциала ч> 8 до тех пор, пока уровень
Ферми не пересечет границу разрешенной зоны (рис. 2.16, в валентной). После этого граничный слой превращается в полу­
металл, а потенциал ч> s практически не меняется и сохраняет
значени е
(2.35)

В обычных случаях максимальный поверхностный потенци­
ал составляет 0,6-1,0 В.

2.7. Рекомбинация носителей
Процессы генерации и рекомбинации носителей заряда не­
отъемлемы друг от друга, хотя и противоположны по содержа­
нию. Хотя в последующем изложении будут обсуждаться толь­
ко процессы рекомбинации, на трех иллюстрациях приводятся
оба процесса.
На рис. 2.1 7 условно изображены процессы генерации
�с
�с
и рекомбинации, совершаю­
т
с
щиеся непосредственньrм пе­ ве
реходом из зоны в зону.
Рассмотрим случай, когда ��v
свет
примесь характеризуется глу· е@ @
@@е
а) б) R)
а) 6) в)
бокими уровнями, располо­
женными вблизи середины за- Рис. 2.17. Прямые переходы из зо ы
н
nрещенной зоны (на рис. 2.18 в зону J - генерация носителей за
и 2.19). Энергия активации в ряда, II - рекомбинация носитедей
этом случае достаточно боль- заряда (а - начальное состояние,
шая, поэтому атомы таких б - переход, в - конечн ое состояие
примесей практически не н )
ионизируются, соответственно не меняются концентрации свободных носителей. Тем не ме­
нее роль глубоких уровней может быть весьма существенной:
они представляют собой так называемые ловушки или центры
захвата подвижных носителей.

-Г
l

-=+�l

! �"


54

Глава 2. Полупроводинки

®-...-®--(j)c
,

□ 6c::J(j)л

-----(j)c

+

c::J c::J c::J (рл
+

а)

6)

Ia

в)

а)

6)

16

в)

+

а)

6)
Па

в)

c::J

? c::J(j)"

!
е е е
а)

6)
II6

(J)v

в)

Рис. 2.18. Ia - захват элеRтрона; 16 - отдача электрона; Па - захват
дырки; Ilб - отдача дырки (а - начальное состояние; б - переход;
в - конечное состояние; (J) л - энергетический уровень ловушки)

На рис. 2.18 показаны процессы захвата и отдачи электрона
и дырки ловушкой при одноступенчатых процессах.
Электрон, попавший из разрешенной зоны на ловушку, на­
ходится на ней в течение некоторого времени - времени релак­
сации. На рис. 2.19 показаны
'Ре
'Ре двухступенчатые процессы.
�
'
Вероятность двухступенча­
+
1
тых процессов гораздо боль­
ше, чем одноступенчатых,
',
�
++
+
рассмотренных выше. Позто'l'v
му в присутствии ловушек
'l'v
процессы генерации-рекомби11
нации идут значительно ин­
Рве. 2.19. I - двухступенчатая ре­
тенсивнее и время жизни но­
комб11нация; П - двухступенчатая
сителей
оказывается значитеци
енера
я
г
льно меньше.
Захват электронов глубокими уровнями особе1шо характе­
рен для поверхности полупроводника, которая богата поверх­
ностными состояниями. В зависимости от времени релаксации
поверхностные состояния деллг на быстрые и .медленные. Бы­
стрые состоянля характерны временами релаксации порядка
10-6 с, а медленные - временами порядка 10- 3 с и более,
вплоть до нескольких секунд. Рекомбинация, противодействуя.
накоплению носителей, обусловливает их равновесные концен­
трации. Благодаря рекомбинации свободные носители имеют
конечное время жизни, а этот параметр во многом определяет
длительность переходных процессов.

с:!:; у,

ь'
l

+

1


2.7. Рекомбинация носителей

55

Механизмы рекомбинации. Различают непосредственную
рекомбинацию и рекомбинацию на примесных центрах.
Непосредственной рекомбинацией называют переход элект­
рона из зоны проводимости непосредственно в валентную зону,
где он занимает один из вакантных уровней, т.е. •уничтожает•>
дырку. Разумеется, при таком переходе должна выделяться
энергия qq> 3 - такая же, какая была ранее затрачена на пере­
вод электрона из валентной зоны в зону проводимости. Энергия
может выделяться либо в виде фотона (излучательная рекомби­
нация), либо в виде фонона (безызлучательная рекомбинация).
В большинстве полупроводников, в том числе и в кремнии, ве­
роятность излучательной рекомбинации на несколько порядков
меньше, чем безызлучательной 1.
Однако вероятность безызлучательной непосредственной ре­
комбинации сама по себе тоже очень мала, поскольку сравните­
льно большая энергия qq> 3 (порядка 1 эВ) редко может воплоти­
ться в одном фононе, а ее одновременное распределение между
двумя фононами маловероятно. Таким образом, непосредствен1юя рекомбинация в целом не является главным механизмом
рекомбинации в полупроводниках.
Главную роль играет рекомбинация на примесных центрах.
Речь идет о глубоких уровнях, расположенных вблизи середи­
ны запрещенной зоны, которые называют ловушками (см.
рис. 2.18). Данный вид рекомбинации - двухэтапный: сначала
электрон переходит из зоны проводимости на уровень ловуш­
ки, а затем с уровня ловушки в валентную зону. На каждом
этапе выделяется энергия, близкая к½ qq> 3 , т. е. вдвое меньше,
чем при непосредственной рекомбинации. Это обстоятельство
резко повышает вероятность передачи энергии фонону, что и
объясняет преимущественное значение данного механизма ре­
комбинации.
Роль ловушек могут играть не только примесные атомы, но
и различные дефекты решетки. Поэтому повышенная ско­
рость рекомбинации свойственна, в частности, поликристал-

Это объясняется тем, что электрон, возвращаясь в валентную зону, должен от­
цать не только энергию, но и импульс. Поскольку фотон не способен воспри11.ять сколько-нибудь заметный импульс, необходимо, чтобьt в процесс вклю­
чалась еще третья частица - фонон, а такая комбинация встречаете.я крайне
ре дко.


_____Глава 2. Полупровод!f_ики

56

лам (у которых дефектами являются все грани между отдель­
ными зернами) и приповерхностным слоям любого монокрис­
таллического полупроводника (где неизбежны нарушения
периодичности решетки и разрывы ковалентных связей).
Рекомбинация равновесных носителей. Вероятность непо­
средственной рекомбинации электрона с одной из дырок в еди­
ницу времени можно записать следующим образом:
r = а ЭФl>vТ,
где сrэФФ - эффективное сечение захвата; V т - средняя тепло­
вая скорость электронов 1• Величину r называют коэффициен­
том рекомбинации. Умножив коэффициент r на концентрацию
дырок, получим полную вероятность рекомбинации электрона
в единицу времени (с любой из имеющихся дырок). Обратная
величина будет средним интервалом между актами рекомбина­
ции, т.е. средним временем жизни электронов при непосредст­
венной рекомбинации:
(2.36а)
Путем аналогичных рассуждений получаем среднее время
жизни дырок:
(2.366)
В формулах (2.36) индекс «О• присвоен равновесным кон­
центрациям. Таким обозначением будем пользоваться и в даль­
нейшем.
Если умножить вероятность рекомбинации одного электрона
р
г 0 на концентрацию электронов п0 , получится общее количест­
во актов рекомбинации в единицу времени, т.е. скорость непо

средственной рекомбинации:

Ro = rnoPo-

(2.37)

1 Оче видно, что неподвижный электрон никогда не •встретится• с дыркой; чем
больше скорость электрона, тем более вероятна такая •встреча•. Что касается
сечения захвата, то оно характеризует тот объем вокруг дырки, попав в кото­
рый, электрон неизбежно притянется к ней, несмотря на инерцию своего дви­
жения.


2.7. Рекомбинация иоситепей

57

Из формул (2.36) ясно, что равновесные времена жизни
электронов и дырок в общем случае резко различны из-за раз­
личия концентраций п0 и р0 , причем время жизни неосновных
носителей всегда меньше, чем основных.
Заменяя в правой части (2.36) произведение rn 0 на 1/'rp или
rp0 на 1/rn, запишем скорость.рекомбинации еще в одной рас­
пространенной форме:
(2.38)
Непосредственная рекомбинация. В неравновесном состоя­
нии полупроводника концентрации свободных носителей отли­
чаются от равновесных значений:
п = п0 + Лп;

(2.39а)

Р = Ро + Лр.

(2.396)

Неравновесные концентрации п и р могут быть больше и ме­
ньше равновесных, т.е. знаки приращений Лп и L\p в формулах
(2.39) могут быть как положительными, так и отрицательны­
ми. Приращения Лп и Лр называют избыточпыми копцептра­
циями. Для сохранения нейтральности полупроводника избы­
точные концентрации электронов и дырок должны быть одина­
ковыми:
Лп =Лр.
(2.40а)
Более того, при изменениях избыточных концентраций ней­
тральность тоже должна сохраняться, отсюда - условие равен­
ства скоростей изменения концентраций:
dn/dt = dp/dt.

(2.406)

Из выражений (2.40) следует, что анализировать порознь
поведепие избыточпых электронов и избыrnо•тых дырок не
имеет смысла, так как функции Лп(t) и Лр(t) совпадают. Поэ­

тому ниже рассматривается только поведение электронов.
Предположим, что по какой-то причине нарушено равенство
между скоростями генерации и рекомбинации электронов. Тог­
да электроны будут накапливаться (или рассасываться) со ско­
ростью, равной разности скоростей генерации и рекомбинации:
dnjdt = g - r(пр),

(2.41)

где g - скорость генерации; r(np) - скорость рекомбинации.


Глава 2. ПопупроводИИКJI

58

Запишем скорость генерации в виде:
g == go + Лg = r(noPo) + Лg,

(2.42)

где g0 - равновесное значение, равное равновесной скорости
рекомбинации (2.37).
Преобразуем рекомбинационный член в правой части (2.41),
подставляя (2.39) и учитывая (2.40):
2
r(пр) = r[n 0 p 0 + Лп{n 0 + Ро) + Лп ] .

Положим Лп << п 0 + р 0 ; это дает основание пренебречь чле­
ном Лп 2 и линеаризовать уравнение (2.41). Далее концентра­
ции п 0 и р0 в круглых скобках выразим через времена жизни с
помощью (2.36), тогда

2-)

r(np) = r(n 0 p 0 ) + л.J __!__ +
'\ Т п Тр

Наконец, введем эквивалентное время жизни т в форме со­
отношенил
1

1

1

т

т,.

'р

-=-+-.

(2.43)

После этого скорость рекомбинации запишется следующим
образом:
r(np) == r(n 0 p0) + Лп/т.
Подставляя в (2.41) полученное значение r(np), а также ско­
рость генерации g из (2.42), получаем уравнение накопления
избыточных носителей в виде:
dn/dt == L\g - Лп/т.

(2.44)

Если принять Лg = О, получаем уравнение рассасывания:
dn/dt = -L\n/т.

(2.45)

Решением уравнения рассасывания является экспоненциаль­
ная функция
Лп(t) = Лп(О)е -t/т,

(2.46)


2.7. Рекомбинация носителей

59

где Лп(О) .--- начальное значение избыточной концентрации. За­
висимость (2.46) позволяет определить время жизни как ин·
тервал, в течение которого избыточная концентрация умень­
шается в е раз.
Из структуры выражения (2.43) следует, что величина 1
близка к минимальной из двух ее составляющих т n и 1Р. Сле­
довательно, эквивалентпое время жизни избыточных носите­
лей определяется временем жизни неосповных носителей. У
электронных полупроводников т "" 1Р, у дырочных 1 "" т n •
Рекомбинация на ловушках. При ловушечном механизме
рекомбинации скорость рассасывания избыточных носителей
описывается формулой Шокли-Рида:
пр - noPo
_d_n == _
dt
(п + п1 )тР + ( р + р1 )т п

(2.47)

Здесь п 1 и р1 - параметры с размерностью концентрации, за­
висящие от расположения уровня ловушек в запрещенной
зоне 1 ; т Р и т п - времена жизни неосновных носителей:
= 1/(rп N t ) ;

(2.48а)

т Р == 1/(rp N t ) ,

(2.486)

'п

где N1 - концентрация ловушек.
Формулы (2.48) имеют ту же структуру, что и (2.36). Однако
при непосредственной рекомбинации времена жизни различа­
лись из-за различия в концентрациях носителей, а в данно�
случае они различаются из-за различия в коэффициентах ре­
комбинации.
Приравнивая правые части (2.47) и (2.45), легко получить
время жизни т. Подставляя значения пир из (2.39), учитывая
(2.40а) и полагая Лп << п 0 + р 0 [такое же условие было принято
при выводе (2.44)), получаем
(2.49)

1 Концентрации п, ир, на несколько порл,цков меньше концентрации основных
носителей. Однако собственную концентрацию они м:оrут превышать в десят­
ки раз.


·
2_7_Р_е�С>�бииация иосител_еи_---------------�
--- 61
,
100
10

10

4

10

2

2
10
а)

4

10

-50

О

50

100 150

Т,°С

6)

Рис 2.20. Зависимость времени жизни носителей от концентрации
примеси (а) и от температуры (6)

ция 1(Т) не нарастающая, а спадающая, так как концентрация
nt увеличивается медленнее, чем п1 • На рис. 2.20, 6 показаны
примеры функции 1(Т) для разных концентраций примеси. Как
видим, тем пературная зависимость време ни жизни наиболее
существенна в слабо легированных пол упроводниках ( для
кремния при N < 10 14-10 15 см-3). В сильно легированных (низ­
коомных) полупроводниках эта зависимость второстепенная.
В заключение отметим, что типичные значения времени
жизни для кремния составляют 0,1-1 мкс. Если специально ле­
гировать кремний «ловушечной>> примесью (чаще всего золо­
том), то время жизни уменьшается до 10 нс и менее.
Поверхностная рекомбинация. В принципе процессь1 ре­
комбинации в приповерхностном слое полупроводника не от­
личаются от процессов в объеме. Однако приповерхностный
слой имеет особую зонную структуру, а значит, и количест­
венно иные параметры, чем объем. Это нельзя не учитывать
nри анализе и проектировании полупроводниковых приборов
и ИС, тем более, что активные области ИС расположены вбли­
зи поверхности. Учитывая специфику приповерхностного
слоя, обозначим поверхностное время жизни через т s, а объем­
ное через т v.
Если рабочий участок элемента ИС расположен полностью в
приповерхностном слое или полностью в объеме кристалла, то
при анализе нужно использовать соответственно параметр т s
или т v . Однако, если (как обычно бывает) рабочий участок «вы­
ходит на поверхность,>, т.е. частично расположен в объеме, а
частично в приповерхностном слое, то принято пользоваться


60

Глава 2. Полупроводники

Для электронного полупроводника при выполнении свойст­
венных ему неравенств п 0 >> р 0 и п 0 >> п 1 р1 из (2.49) следует:
t "'tP . Для дырочного полупроводника пр� выполнении анало­
гичных неравенств следует: t = 'п . Значит, при ловушечной ре­
комбинации, как и при непосредственной, время жизни избы
тоttных носителей определяется временем жизни неосновных
носителей.

Зависимость времени жизни от концентрации ловушек сле­
дует из выражений (2.48): чем больше концентрация ловушек,
тем меньше время жизни.
Зависимость времени жизни от концентрации примеси рас­
смотрим на примере электронного полупроводника, у которого
время жизни характеризуется первым слагаемым в правой час­
ти (2.49):
( 2.50)
Если концентрация доноров достаточно велика, то
п 0 >> р 0 n1 • Тогда время жизни не зависит от концентрации
примеси: t ::::: tР. С уменьшением концентрации доноров нера­
венство п 0 >> п 1 нарушается и время жизни растет. В пределе,
когда концентрация доноров приближается к нулю, полупро­
водник становится собственньzм и время жизни достигает мак­
симального значения:
't

п
"'_t_, >> 'р ·
2n 1

Р

(2.51)

Аналогичные результаты получаются для дырочного полу­
проводника. Характер функции t(N) показан на рис. 2.20, а.
Как видим, у сильно легировапиых полупроводииков время
жизни меньше, чем у слабо легированных и собственного.

Зависимость времени жизни от температуры обусловлена
резким возрастанием концентрации n 1 по закону, близкому к
(2.9). Когда величина n1 делается сравнимой с п 0 , время жизни
начинает увеличиваться, а при условии n 1 > п0 зависимость т(Т)
практически совпадает с экспоненциальной функцией n i (T).
Быстрый рост времени жизни замедляется вблизи критической
температуры, когда полупроводник превращается в собствен­
ный. Для собственного полупроводника согласно (2.51) функ-


. _П о_л_,_уп-=---р_ов_о_д__
и _
62 ___________________Г_л_а_ ва_2__
и _к и

так называемым эффективным временем
определяется следующим образом:

жизни т, которое
(2.52)

Именно этот параметр имеют в виду, когда анализируют
транзисторы и другие элементы ИС.
Поскольку, как правило, , 8 < т 11 (из-за большой концентра­
ции ловушек вблизи поверхности), то эффективное время жиз­
ни ближе к величине т s. Последняя, однако, труднее поддаетсл
расчету и измерению, чем т ., . Поэтому широкое распростране­
ние для характеристики поверхностной рекомбинации получил
особый параметр - скоростr. поверхностной рекомбинации s
(см/с), которал легче поддается измерению, чем время жизни
т 8• Скорость поверхностной рекомбинации существенно зави­
сит от способа и качества обработки поверхности кристалла. Ее
типичные значения лежат в широких пределах от 100 до
104 см/с и более.
Физический смысл параметра s состоит в следующем. Если
избыточная концентрация носителей создана вблизи приповер­
хностного слоя (где интенсивность рекомбинации выше, чем в
объеме), то значительная часть избыточных носителей напра­
вится к поверхности, чтобы скомпенсировать убыль носителей
в приповерхностном слое. Следовательно, между объемом и
приповерхностным слоем возникает поток носителей, скорость
которого и определяется параметром s.
Связь между скоростью поверхностной рекомбинации s и
приповерхностным временем жизни т s в общем случае устано­
вить трудно. Эта задача решена только в двух частных, хотя и
важных случаях: для бруска бесконечной длины и для тонкой
пластинки, у которой толщина равна d, а площадь бесконечно
большая. В последнем, практически наиболее интересном слу­
чае получаетсл соотношение:

(2.53)
где D - коэффициент диффузии носителей, а величина ТJ опре­
деляетсл трансцендентным уравнением
ТJ tg11

= sd/(2D).


2.8. Закоиы движеияи иосителей в полупроводниках

63

При условии s < D/d соотношение между величинами s и тs
переходит в явное:
т s = d/2s.

(2.54)

На практике токи, связанные с движением избыточных но­
сителей из объема к поверхности, удобно рассчитывать без ис­
пользования параметра т s, поскольку плотность тока, обуслов­
ленного таким движением, весьма просто связана со скоростью
поверхностной рекомбинации:
(2.55)

Вообще говоря, этот ток является паразитным и его следует
уменьшать, уменьшая скорость поверхностной рекомбинации
всеми доступными средствами.

2.8. Законы движения носителей

в полупроводниках

В общем случае движение носителей заряда обусловлено
двумя процессами: диффузией под действием градиента кон­
центрации и дрейфом под действием градиента электрического
потенциала. Поскольку имеются два типа носителей - элект­
роны и дырки, полный ток состоит из четырех составляющих:
(2.56)

где индексы «др•> и <•диф» относятся соответственно к дрейфо­
вым и диффузионным составляющим тока.
При анализе удобнее пользоваться не токами, а плотностями
токов J, что и сделано в формуле (2.56). Там, где это не вызыва­
ет недоразумений, будем для краткости называть величину J
током.
Составляющие тока. В одномерном случае, когда движение
носителей происходит только вдоль оси х, дрейфовые составля­
ющие записываются следующим образом:
Uп )др = qnµ n E = -qпµ п (д<р/дх);

(2.57а)

(Jp ) др = qnµ РЕ= -qnµ р(д<р /дх).

(2.576)

Для диффузионных составляющих нужно вместо градиента
электрического потенциала использовать градиенты химическо-


64

Глава 2. Полупроводm1кн

го потенциала соответствующих носителей. Химические потен­
циалы - это вторые слагаемые в правых частях формул (2.12).
Продифференцируем эти слагаемые по х и подставим результа­
ты вместо величины Ев выражения (2.57). Тогда диффузионные
составляющие токов запишутся следующим образом:
(2.58а)
(2.586)
Коэффициенты D n и DP , которые вошли в выражения (2.58),
называются коэффициентами диффузии электронов и дырок.
Эти величины играют при диффузии ту же роль, что и подвиж­
ности при дрейфовом механизме движения. Связь между коэф­
фициентами диффузии и подвижностями выражается форму
лой Эйнштейна:
(2.59)
Сравнивая выражения (2.57) и (2.58), можно заметить, что
дрейфовые составляющие токов пропорциональны концентра­
циям носителей, тогда как диффузионные не зависят от кон­
центраций, а определяются только градиентами концентрации.
Уравнения непрерывности. Выражения (2.57) и (2.58), гово­
рят о том, что для оценки цолного тока (2.56) необходимо, кро­
ме распределения потенциала <р(х), знать еще и распределения
концентраций п(х) и р(х).
В общем случае концентрации зависят не только от коорди­
наты, но и от времени, т.е. мы имеем дело с функциями двух
переменных: n(x;t) и p(x;t). Эти функции являются решениями
так называемых уравнений непрерывности потока. Для элект­
ронов и дырок уравнения непрерывности записываются в сле­
дующем общем виде:
п - n0 1
dn = g - -�
' (.Jn );
Л
- + - div
dt
т
q

(2.60а)

1
р Ро
dp
-=
(. ) '
Лg----+- d.iv;
Р

(2.606)

dt

т

q


2.8. Законы движения носителей в полупроводниках

65

где п - п 0 == Лп и р - р0 = Лр - избыточные концентрации,
Лg - скорость генерации носителей под действием внешних
факторов, например, света; т - время жизни избыточных носи­
телей.
Легко заметить, что уравнения непрерывности обобщают
уравнение накопления носителей, которое было получено при
анализе процессов рекомбинации [см. (2.44)]. Обобщение состо­
ит в том, что при наличии тока в правую часть, помимо генера­
ционного и рекомбинационного членов, добавляется еще один
фактор, изменяющий концентрацию: дивергенция вектора по­
тока (J/q).
В одномерном случае

Используя эту операцию для всех четырех составляющих
тока, описываемых выражениями (2.57) и (2.58), подстав­
ляя полученные значения в (2.60) и опуская генерационный
член Лg, запишем уравнения непрерывности в следующей
форме:
(2.61а)
2

др
Р - Ро
д Р
др
дЕ
-=---+D
--µ
Е�рµ -.
2
дt

т

Р

дх

Р

дх

Р

дх

(2.616)

Последние слагаемые в правых частях (2.61) связаны с на­
личием объемных зарядов 1 • В условиях нейтральности эти сла­
гаемые отсутствуют. Третьи слагаемые не связаны с наличием
объемных зарядов и в ряде случаев должны учитываться, на­
пример, если имеется внутреннее электрическое поле, свойст­
венное неоднородным полупроводникам.

1 При наличии объемных зарядов, помимо уравнений непрерывности, прихо­
дится д,ля анализа привлекать еще уравнение Пуассона (2.26).

3-3423


66

Глава 2. Полуnроводи11Кя

Если поле отсутствует или его влиянием можно заведомо
пренебречь, полагаем Е = О. Тогда общие уравнения непрерыв­
ности (2.61) упрощаются:
2
д
п = _ п - п0 + D д п.
дt
п дх2,
т

(2.62а)

2
др=-_Р-Ро +D др_
дt
Р дх2
т

(2.626)

Уравнения (2.62) называются уравнениями диффузии. Они
широко используются при анализе полупроводниковых прибо­
ров.
Диффузия носителей. Пусть на поверхность полупроводни­
ка падает рассеянный пучок света (рис. 2.21). Тогда в тонком
приповерхностном слое, в который проникает свет, будут гене­
рироваться
электронно-дырочные
--..е--..
пары. Между поверхностью и объе­
-<Э--t-е--мом возникнут градиенты концентра­
� -<Э--­
ции
электронов и дырок и избыточ­
--- е..­
.... 1@..ные носители начнут диффундировать
вглубь полупроводника. Такое совме­
-лр
стное движение обоих типов носите­
лей называют би олярпой или амби­
п
диффузией.
пол.ярпой
Если бы подвижности (а значит, и
х
коэффициенты диффузии) у электроРис. 2.21. Биполярно.я
нов и дырок были одинаковы, то они
диффузия; эффект Дембера
двигались бы в виде единого нейтрального потока. На самом же деле по­
движности носителей различны, поэтому у электронного пото­
ка будет тенденция «обогнаты дырочный поток. В результате
небольшого взаимного сдвига потоков образуется небольшой
объемный заряд и соответствующее электрическое поле; это
поле тормозит поток электронов и ускоряет поток дырок. В
конце концов устанавливается стационарный режим, при кото­
ром избыточные электроны и дырки распределены в виде сдви­
нутых относительно друг друга «облачков». Эти •облачка» дви­
гаются синхронно, так что результирующий ток отсутствует.
Концентрация носителей в «облачках» спадает с удалением от
поверхности благодаря рекомбинации.


2.8. Законы движения иосителеii в полупроводниках

67

Описанные явления извес тны под названием эффекта Дем­
бера, а электрическ()е поле и разность потенциалов, свойствен­
ные этому эффекту, называют демберовским полем и демберов­
ским папряжением. Эффект Дембера существенен только при
больших избыточных концентрациях и больших удельных со­
противлениях полупроводников.
На практике главную роль играет монополярпая диффузия1,
характерная тем, что в припо0верхностный слой полупро­
-Ф
0водника тем или иным спосо­ /
- -Ф
0
...е
-00-�---е
бом ВВОДй:ТСJI ТОЛЬКО один тип
0- ...е
носителей - неосновных (рис.
2.22). Процесс введения неос­
лп.Др
новных носителей называется
- Лn
ипжекцией.
-- - Лр
Пусть для определенности
осуществляется
инжекция
х
электронов в дырочный полу­
Инжектирован­
проводник.
х
ные электроны благодаря гра­
диен ту концентрации будут
диффундировать вглубь крис­
х
талла, т.е. появится электрон­
ный ток. Заряд избыточнь1х
электронов практически мгно­
венно (со временем диэлект­
Е
рической релаксации) будет
компенсирован таким же заРис. 2.22. Моиополярная диффузия;
рядом дырок,. пр итягиваемых инже1щия
носителей: 1 - омическое
из глубоких слоев. В резульполе; z _ демберовское поле
тате вблизи инжектирующей
поверхности образуется квазинейтральное электронно-дырочное �облачко», почти такое
же, как при биполярной диффузии. Несмотря на это внешнее
сходство, монополярная диффузия принципиально отличается
от биполярной следующими особенностями:

Гг

1 Учитывая большую распространенность монополярной диффузии, прилагате­
льное •монополярная• обь1чно опускают.


Глава 2. Полупроводив:ки

68

а наличие тока предполагает, что полупроводник является
элементом замкнутой цепи; значит, помимо демберовского
поля (сосредоточенного вблизи инжектирующей поверхно­
сти) во всей толще полупроводника действует •обычное� омическое поле, обусловленное приложенным напряжением
(рис. 2.22);
о потоки электронов и дырок направлены в разные стороны:
электроны двигаются вглубь кристалла, а дырки в сторону
инжектирующей поверхности - в район электронно-дыроч­
ного <,облачка,>, где происходит интенсивная рекомбинация
и необходимо пополнение основных носителей;
о в связи с постоянством полного тока его электронная и ды­
рочная составляющие меняются в разные стороны: с удале­
нием от поверхности электронный ток убывает (из-за реком­
бинации), а дырочный ток растет; поэтому вдали от поверх­
ности дырочная составляющая - главная и имеет чисто
дрейфовый характер (дырки двигаются в поле, созданном
внешним напряжением); наоборот, в непосредственной бли­
зости от поверхности ток почти чисто электронный и обу­
словлен диффузией, так как напряженность поля здесь
близка к нулю (рис. 2.22).
Строгое решение задачи о распределении носителей при
диффузии затруднительно. Обычно эту задачу решают в так на­
зываемом диффузионном приближении и для малых избыточ­
ных концентраций или, как говорят, для низкого уровня ин­
жекции.
Диффузионное приближение означает, что для анализа ис­
пользуются уравнения диффузии (2.62), несмотря на заведомое
наличие электрического поля. Справедливость диффузионного
приближения оценивают в каждом конкретном· случае.
Уровнем инжекции принято называть отношение концентра­
ции избыточных носителей к равновесной концентрации основ­
ных носителей или, что то же самое - к концентрации приме­
си:
(2.63)
Низким уровнем инжекции считается значение б << 1. При
этом действительно неравенство
Лп <<по+ Ро,

(2.64)


2.8. Законы движения носителей в полупроводниках

69

которое уже использовалось при выводе формул (2.43) и (2.49).
Условие низкого уровня инжекции обеспечивает линейность
уравнений диффузии. В условиях нейтральности Лп ""Лр, поэ­
тому выражения (2.63) и (2.64) действительны для обоих типов
носителей.
Анализ процессов диффузии. Если интерес представляют
только избыточные концентрации (как обычно и бывает), то до­
статочно использовать одно из двух уравнений диффузии, по­
скольку второе дает такой же результат в силу условия нейтра­
льности (Лп ""Лр). На самом деле функции Лп(х) и Лр(х) неско­
лько различаются из-за различия в коэффициентах диффузии
D n и DP, т.е. из-за эффекта Дембера. Однако в диффузионном
приближении электрическими полями (в том числе и демберов­
ским) пренебрегают.
Найдем избыточную концентрацию Лп из уравнения (2.62а).
Для этого подставим п = п 0 + Лп и опустим индекс п у коэффи­
циента диффузии. Кроме того, поделим обе части на D. Тогда
уравнение диффузии принимает вид
д2 (Лп) Лп 1 с(Лп)
·
8Т-L2 = D �

(2.65)

Стационарный вариант уравнения получается, если в правой
части положить с(Лп)/дt = О:
2
d (Лп) _ Лп =О.
2
2
L
dx

(2.66)

Величина L, входящая в уравнения (2.65) и (2.66), выража­
ется следующим образом:

L = .fih.

(2.67)

Это - так называемая средпяя диффузионная длина. Она
характеризует то среднее расстояние, на которое носители
успевают продиффундировать за время жизни. Поэтому отно­
шение L/'t есть средняя скорость диффузии носителей. Диф­
фузионная длина - одна из фундаментальньrх величин в полу­
проводниковой физике и технике. Для кремния типичные зна­
чения L составляют 5-20 мкм в зависимости от времени
жизни.


70

Глава 2. Полупроводяики

Стационарное уравнение (2.66) - это обыкновенное линей:­
ное уравнение 2-го порядка. Его решение представляет собой:
сумму экспонент:
(2.68)
где коэффициенты А1 и А 2 определяются из граничных усло­
вий:. Примем Лп(оо) = О, т.е. предположим, что вдали от инжек­
тирующей: поверхности избыточные концентрации отсутствуют
и эта часть полупроводника находится в равновесном состоя­
нии. При таком граничном условии А 1 = О. Полагая х = О, по­
лучаем А2 = Лп(О); следовательно, распределение избыточной:
концентрации экспоненциальное (рис. 2.23, а):
Лп(х) = L\n(0)e -x/L.

(2.69)

Из этого выражения и из рис. 2.23, а следует, что на рассто­
янии диффузионной длины избыточная концентрация умень­
шается в е раз. На участке длиной (3-4) L концентрация умень­
шается в 20-50 раз, т.е. становится пренебрежимо малой по
сравнению с граничной.
Лп (х)
Лп (О)

п,Лп
по

х

о
L

Лп (0)

х
а)

б)

Рис. 2.23. Стационарное распределение избыточных носителей при инжек­
ции (а) и экстракции (6 )

Дифференцируя (2.69), получаем градиент концентрации
)
Лп(О -x/L
--=---е
dx
L
d(Лn

)

(2. 70а)

Как видим, градиент концентрации, а значит, и диффуз­
ионный ток спадают по мере удаления от поверхности вглубь


71

Контрольные вопросы

кристалла. Градиент имеет максимальное (по модулю) значе­
ние при х = О, т.е. на инжектирующей поверхности:
d(Лп) 1
_ Лn(О)
- L- .
� х= О -

(2. 706)

Нестационарное уравнение (2.65) - это линейное дифферен­
циальное уравнение 2-го порядка в частных производных.
Качественные выводы относительно переходного процесса
состоят в следующем.
В начальный момент, когда L(O) = О, градиент концентра­
ции вблизи инжектирующей поверхности согласно (2. 706) ока­
зывается бесконечно большим, и, следовательно, избыточные
носители будут диффундировать в кристалл с очень большой
с:коростью. По мере нарастания величины L(t) градиент кон­
центрации на поверхности уменьшается и скорость диффузии
становится все меньше. В конце концов при t "" 2т достигается
стационарный режим. Исходя из таких соображений, на
рис. 2.24 показаны примерные кривые распределения концептрации для нескольких момен­ Лn (х, t)
тов переходного процесса.
Лп (О)
До сих пор избыточная кон­
центрация Лп считалась поло­
жительной, поскольку в резу­
льтате инжекции появляются
дополнительные носители. Од­
нако может быть и обратный
oL..:..�......::,...��""""----a►
х
процесс, когда из приповерх­
Рис.
2.24.
Распределение
инжектир
о­
ностного слоя полупроводни:ка
ванных носителей во время переходотбирается часть равновесных
ного процесса
носителей.
Очевидно, что избыточная концентрация в случае экстрак­
ции будет отрицательной (рис. 2.23, б), так как количество но­
сителей уменьшается по сравнению с равновесным состоянием.

Контрольные вопросы
1.
2.
3.
4.

Для чего служат индексы Миллера?
Какие вы знаете дефекты кристаллической решетки?
В чем заключается специфика поверхности кристалла?
Что такое примесь замещения?


72

Глава 2. Полупроводяики

5. Что такое основные и неосновные носители?
6. Нарисуйте энергетические зоны металла, полупроводника и
диэлектрика. В чем их отличие?
7. Напишите условия электронейтральности.
8. Чем отличается распределение Ферми-Дирака от распреде­
ления Максвелла�Больцмана? Почему можно использо­
вать второе распределение без больших погрешностей?
9. Что такое собственная концентрация?
10. Сформулируйте основное положение физики полупроводников в равновесной системе.
11. Запишите уравнение для дрейфа носителей.
12. Как подвижность зависит от температуры?
13. В чем отличие зависимости проводимостей собственного и
примесного полупроводника от температуры?
14. Что называют эффектом поля и какое практическое исполь­
зование в микроэлектронике он имеет?
15. Опишите явление эффекта поля в собственном полупровод­
нике.
16. Чем отличается режим обогащения от режима обеднения и
как можно их достичь в примесном полупроводнике?
17. Поясните образование инверсионного слоя.
18. Расскажите о различных типах рекомбинации заряда.
19. Чем отличается непосредственная рекомбинация от реком­
бинации на примесных центрах?
20. Какая разница между излучательной и безызлучательной
рекомбинациями'?
21. Что такое скорость рекомбинации?
22. Чем определяется эквивалентное время жизни неосновных
носителей?
23. Что такое поверхностная рекомбинация и какой параметр
вводится для ее определения?
24. Напишите выражение для дрейфовых составляющих тока.
25. Запишите формулы для диффузионных составляющих токов.
26. Что такое уравнение непрерывности потока?
27. В чем заключается разница между биполярной и амбиполярной
диффузией? Как определить среднюю скорость диффузии?


r.naвa 3
Полупроводниковые переходы
и контакты

3.1. Введение
Однородные полупроводники и однородные полупроводни­
ковые слои находят весьма узкое применение: они непосредст­
венно используются только в виде разного рода резисторов.
Основные же элементы ИС (и основная масса дискретных полу­
проводниковых приборов) представляют собой сугубо неодно­
родные структуры. Два важнейших варианта таких струк­
тур - так называемый р-п-переход (контакт двух полупровод­
ников с разным типом проводимости) и структура МП (контакт
металла с полупроводником).
Ниже наиболее подробно рассматриваются р-n,-переходъr,
без которых немыслима современная микроэлектроника, а так­
же контакты МП, которые могут выполнять как функции дио­
дов, так и функции обычных омических контактов. Последние
неизбежны в любой ИС. Заключительный параграф посвящен
явлениям, которые обусловлены контактом полупроводника с
диэлектриком (в первую очередь - контакту кремния с дву­
окисью кремния). Эти явления влияют на характеристики
р-п-переходов и особенно существенны при использовании эф­
фекта поля.

3.2. Электронно-дырочные переходы
Комбинация двух полупроводниковых слоев с разным типом
проводимости (рис. 3.1, а) обладает выпрямляющими или вен­
тильными свойствами: она гораздо лучше пропускает в одном
направлении, чем в другом. Полярность напряжения, соответ­
ствующая б6льшим токам, называется прямой, а меньшим обратной. Обычно пользуются терминами прямое и обратное
напряжение, прямой и обратный ток.


74

Глава 3. Полуnроаодиикоаые переходы и контакты

Выпрямительн!>Jе свойства рассматриваемой структуры по­
зволяют использовать ее в качестве полупроводникового диода.
На рис. 3.1, б показаны симво­
лическое обозначение диода, на­
правление прямого тока и по­
лярность прямого напряжения.
Поверхность, по которой контактируют слои р и п, называет­
ся металлурги-ческой границей,
Рис. 3.1. Полупроводниковый диод;
а
прилегающая к н:ей. область
а - упрощенна.я структура;
объемных
зарядов - электрон6 - условное обозвачеяие
но-дырочным переходом или
других
р-п-переходом.
Два
(внешних) контакта в диоде - невыпрямляющие, поэтому их
называют омическими.
Струttтура р-n-перехода. Электронно-дырочные переходы
классифицируют по резкости металлургической границы и по
соотношению удельных сопротивлений слоев.
Ступен-чатыми переходами называют переходы с идеаль­
ной границей, по одну сторону которой находятся доноры с по­
стоянной концентрацией Nд• а по другую - акцепторы с посто­
янной концентрацией Na. Такие переходы наиболее просты для
анализа.
Плавными перехода.ми называют такие, у которых в районе
металлургической границы концентрация одного типа примеси
постепенно уменьшается, а другого типа - растет. Сама метал­
лургическая граница в этом случае соответствует равенству
примесных концентраций (Nд = Na)·
По соотношению концентраций примесей в р- и п-слоях пе­
реходы делят на сим.метри-чные, несим.метри-чные и односто­
ронпие. Симметричные переходы характерны условием
Nд п "' Nар, где Nд п и Nар - концентрации примесей в соответ­
ствующих слоях.
Симметричные переходы не типичны для полупроводнико­
вой техники.
В случае резкой асимметрии, когда концентрации примесей
(а значит, и основных носителей) различаются на 1-2 порядка
и более, переходы называют односторонними и обозначают
символами п+-р илир +-п, где верхний индекс•+• соответству­
ет слою со значительно большей концентрацией.


75

3.2. Злектр о11Ио-дырочm.1е переходь1

На рис. 3-2 показана электрическая структурар-п-перехода.
Для наглядности разница в концентрациях основных носите­
лей п" 0 и Рр0 принята меньщей, чем это имеет место в действи­
телънос-rи.
р·слой

р-слой

п-сл ой

х
�+���<р
Ф0Ф0Ф
��<i'�-�
���<i'+�
ФФФ0Ф

ФФGН�.)(f)

Ф Донор
- Электрон

++ + + +

00000
++ + + + +
00000
- +
+ + + + +
00000
+
• + + + -+
00000
+
0 Акцептор
+ Дырка

а)

х

х

000:
-+- -10-

ф(t,)(у:ф
- - _, +
0 0 0:0 +

0ё0[00ёё:@­
Ф@Ф:Ф

:+ +

000:00
+
' 1·f- +

000:00
'
+

000:00
+ : ... +
000:00
+
:-

+

Переход

Переход

6)

в)

Рис. 3.2. Электрическая струк-rура р-п-перехода: а - начальное состояиие
моев; 6 - объемные заряды в реальном переходе; в - объемные заряды в
идеализир ованном переходе

На самом деле они отличаются на несколько порядков, поэ­
тому на графиках чаще всего для концентраций используется
логарифмический масштаб. Поскольку концентрация электро­
нов в слое п значительно больше, чем в слое р, часть электро­
нов диффундирует из слоя п в слойр. При этом в слое р вблизи
металлургической границы окажутся избыточные электроны.
Эти электроны будут рекомбинировать с дырками до тех пор,
пока не будет выполнено условие равновесия (2.10). Соответст­
венно концентрация дырок в этой области уменьшится и •обна­
жатся• некомпенсированные отрицательные заряды акцептор­
ных атомов. Слева от металлургической границы .обнажатся•
некомпенсированные положительные заряды донорных ато­
мов, от которых ушли электроны (рис. 3.2, 6). Аналогичные
рассуждения можно провести для дырок, которые диффунди­
руют из слоя р в слой n. Однако в одностороннем переходе, в
котором Рро <<n" 0, перемещение дырок мало существенно, так


76

Глава 3. Полупроводниковые переходы и контакты

как их градиент концентрации несравненно меньше градиента
концентрации электронов.
Образовавшиеся объемные заряды и связанные с ними поля
обеспечивают равновесие в области р-п-перехода. Область объ­
емных зарядов называют обедненным слоем, имея в виду резко
пониженную концентрацию подвижных носителей в обеих ее
частях.
В большинстве случаев р-п-переход можно идеализировать
так, как показано на рис. 3.2, в, т.е. полностью пренебречь на­
личием свободных носителей в переходе и считать границы пе­
рехода идеально резкими. Такая идеализация упрощает реше-·
ние многих задач.
Переход в целом нейтрален: положительный заряд в левой
части равен отрицательному заряду в правой части. Однако
плотности зарядов резко различны (из-за различия в концент­
рациях примесей). Поэтому различны и протяженности обед­
ненных слоев: в слое с меньшей концентрацией примеси (в на­
шем случае в р-слое) область объемного заряда значительно
шире. Как говорят, несимметричный переход сосредоточен в
высокоомном слое.
На рис. 3.3 показано распределение носителей в полулога­
рифмическом масштабе, более удобном для количественных
оценок и сравнений. Следует
р.п
обратить
внимание на TO'l'
о
101s п-слой
Р·сл й
факт, что внутри р-п-перехода
1014
имеется участок с собственной,
п,
т.е.
минимальной концентра­
1010
цией носителей. Поэтому об­
ласть перехода является наибо­
лее высокоомной частью всей
диодной структуры. Удельное
сопротивление в этой области
на несколько порядков превы­
шает удельные сопротивления
нейтральных n· и р·областей.
х
На рис. 3.4 показаны зон­
й
Рис. 3.3. Распр еделение
ител е
нос
диаграммы р-п-перехода
ные
в несимметричномй п ереходей ый
до
и
после
воображаемого �со­
к
л
с
н
н
иче и и и е
по
огарифм
лул
прикосновения�
слоев. Как ви­
(
масштабы)
дим, единство уровня Ферми в


77

3.2. Электровио-дь1рочиые переходы

равновесном р-n-переходе приводит к искривлению зон в райо­
не металлургической границы. В результате образуются раз­
ность потенциалов (потенциальный барьер) и электрическое
поле, свойственное равновесию.
п-слой

р-слой

а)

б}

Рис. 3.4. Зонная диаграмма слоев (а) и р-п-перехода в равновесном
состоянии (6)

Анализ равновесноrо p-n-nepexoдa. Высота равновесного
потенциального барьера определяется разностью электростати­
ческих потенциалов в р- и п-слоях (рис. 3.4, б):
(3.1)
Потенциалы <р Ер и <рЕп легко получить из выражений (2.12),
подставляя соответственно р = Рро и п = n no (индексы n и р обо­
значают принадлежность к тому или иному слою, а индекс О равновесное состояние). Тогда
(3.2а)
Если положить n no =N д и Рр о =Na (где Nд и Na - эффек­
тивные концентрации примесей), то
Л<р 0 = <J)т ln(N д N afn;2 ).
(3.2б)
Очевидно, что при прочих равнь1х условиях равновесная вы­
сота потенциального барьера тем выше, чем меньше собствен­
ная концентрация (т.е. чем больше ширина запрещенной зоны
полупроводника). Подставляя в (3.2б) Nд = 10 19 см-3, Na = 10 16
см-з и значение ni = 2 • 10 10 для кремни.я, получаем для ком­
натной температуры Л<р 0 = 33<рт "'0,83 В.
Используя соотношение (2.10), заменим в формуле ( 3.2а)
одну из концентраций основных носителей (nпо или Рро) на кон­
центрацию неосновных (р по или пр0 ). При этом оказывается,


78

Глава 3. Полупроводяиковые переходы и коятакты

что равновесная высота потепциального барьера определяется
отношением концентраций одпотипных носителей (электро­
нов или дырок) по обе стороны перехода, на его границах:
Л<j>
0 = <j>т ln(n110 /np o );
\

(3.3а)

Лq>о = (l)т ln,Pp o!Pn o ).

(3.36)

Эти варианты записи мы используем позднее при анализе
неравновесного состояния перехода.
Чтобы рассчитать равновесную ширину перехода, воспользу­
емся
идеализированным распределением зарядов (см.
рис. 3.2, в). При таком распределении (рис. 3.5, а) плотности за­
ряда в каждой из двух частей перехода постоянны (рис. 3.5, 6):
в левой части (в п+-слое) л п = qNд ;
в правой части (в р-слое) лР = -qN а.
Подставляя эти значения в уравнение Пуассона (2.26) и ин­
тегрируя его дважды для каждой из двух частей перехода, полу­
чаем линейное распределение на­
+
п -слой
р-слой
пряженности Е и квадратичное рас­
пределение электрического потенци­
Ц
а)
ала
q> (рис. 3.5, в, г).
N
Функция Е(х) имеет вид:
х
N Х=О
б)

в)

А.

Е

� I kr ..
+q д

�е
�

х

1 ГqN

qN

Е(х) = __
д Оп + х);

е0е

(3.4)

q,,.
Z)

q,

Ч'р

х

Ряс. 3.5. Распределение кон­
центрации примесей (а ), плот­
ности объемного заряда (б),
напряженности поля (в) и по­
тенциала (г) в ступенчатом
п•-р-переходе

Приравнивая значения Е(х) при
х = О (на металлургической грани­
це), получаем соотношение между
составляющими ширины перехода
в п- и р-слоях:
(3.5)
В несимметричном (и тем более
одностороннем) переходе типа п +-р
выполняется неравенство Nд >> N а.


3.2. Злектроиио-дырочиые переходы

79

Значит, l n << lp и полная ширина перехода близка к составляю­
щей в высокоомном слое: 10 о:: lP .
Функция q,(x) имеет вид:

Приравнивая значения q,(x) при х = О и учитывая, что
<рJ п - (J>p = Лq, 0, получаем:
•

11

Для несимметричных переходов одним из слагаемых можно
пренебречь. Например, для п+-р-перехода, у которого l n << lP ,
можно пренебречь первым слагаемым и положить lP = 1 0 • Поэ­
тому, опуская для общности индексы, запишем ширину потен­
циального барьера в несимметричном переходе следующим об­
разом:
(3.6)
где N - концентрация примеси в высокоомном слое перехода.
Полагая Лq, 0 = 0,8 В и N = 1016 см- 3, получаем для кремния
l 0 о:: 0,3 мкм.
При анализе плавных переходов считают, что на коротком
участке (в пределах ширины перехода) распределение эффек­
тивной концентрации примеси линейное. Тогда и плотности
объемных зарядов в переходе можно считать линейными функ­
циями координаты х (рис. 3.6). В этом случае решение уравне­
ния Пуассона приводит к квадратичной функции Е(х) и куби­
ческой функции q>(x). Используя эти функции так же, как и
выше для ступенчатого перехода, можно получить ширину рав­
новесного плавного перехода в следующем виде:

(3.7)


80

Глава 3. Полупроводниковые переходы и коятакты

1

N

�

�N
1

Е

1

..х

1

�

х

q>

х

Рис. 3.6. Распределе•
ние концентрации
примесей, эффектив­
ной концентрации до­
норной примеси, плот­
ности объемного заряда, напряженности
поля и пот енциала в
плавном п•-р-переходе

и

где N' - градиент эффективной концент­
рации. Поскольку градиент одинаков в
обеих частях перехода, то и ширина l 0 де­
лится поровну между п- и р-слоями, т.е.
плавный переход симметричен.
Что касается высоты равновесного по­
тенциального барьера, то она определяется
формулой (3.2б), если под Nд и Na пони­
мать эффективные концентрации приме­
сей на соответствующих границах перехо­
да.
Анализ неравновесноrо р-п-nерехода.
Если подключить источник э1д.с. И междУ
р· и п-слоями, то равновесие перехода на­
рушится и в цепи потечет ток. Выше уже
подчеркивалось, что удельное сопротивле­
ние обедненного слоя намного выше, чем
удельные сопротивления нейтральных
слоев. Поэтому внешнее напряжение прак­
тически полностью падает на переходе, а
значит, изменение высоты потенциального
барьера равно значению приложенной
э.д.с.
Когда э.д.с. И приложена плюсом к
р-слою,
высота барьера уменьшается
(рис.3.7, а):
Лq> == лч>о - И.
+

+

(3.8)

и

р

р

и

а)

6)

Рис. 3.7. Смещение перехода в прямом (а) и обратном (б) направлениях


81

:,J,2. Электронно-дырочные переходь1

Напряжение такой полярности является прямым. При отри­
цательном потенциале на р-слое высота барьера увеличивается
(рис. 3. 7, б) и знак минус в формуле (3.8) следует изменить на
плюс. Напряжение такой полярности является обратным. В да­
льнейшем прямые напряжения будем считать положительны­
ми, а обратные - отрицательными.
Вместе с высотой потенциального барьера меняются его ши­
рина и граничные концентрации носителей.
Подставляя значение Лq, из (3.8) в (3.6), получаем ширину
неравновесного барьера в виде:
l

===

2Е0Е(Лq,0 - И)
qN

(3.9)

(!

Как видим, переход сужается при прямом напряжении
(U>O) и расширяется при обратном (U<O).
Изменение высоты потенциального барьера сопровождаете.я,
вообще говоря, изменением всех четырех граничных концент­
раций. Однако поскольку концентрации основных носителей
значительно больше, чем неосновных, можно считать, что ме­
няются только последние. Поэтому заменим в правых частях
формул (3.3) концентрации про на пр и Рпо на Р п , а в левых час­
тях - величину Лq, 0 на Лq,. После этого, подставляя значения
Лq, 0 из (3.3), нетрудно установить связь между граничными
концентрациями неосновных носителей в равновесном и нерав­
новесном состояниях перехода:
пр =nрО е

ИN

т '•

(3.l0a)

И l'l'т

Р,,, = Рпое
(3.106)
., При прямых напряжениях граничные концентрации оказы­
ваются больше равновесных. Значит, в каждом из слоев появ­
ляются избыточные носители, т.е. происходит инжекция (см.
рис. 2.23а). При обратных напряжениях граничные концентра­
ции уменьшаются по сравнению с рав:tювесными, т.е. имеет
место экстракция (см. рис. 2.236).
Избыточные концентрации на границах перехода найдем,
вычитая из пр и Р ,., соответственно np0 и р"0:
U
Лпр =np0(e /q,т -1);
И

Лрп = Р"о(е /q,т -1).

(3.lla)
(3.116)


82

ГJiава 3. Полупроводниковые переходы и контакты

Поделив (3.lla) на (3.116), заменив в правой части концент­
рации неосновных носителей концентрациями основных с по­
мощью соотношения (2.9) и считая концентрации основных но­
сителей равными концентрациями соответствующих примесей,
получим
(3.12)
Отсюда следует, что у несимметричных переходов концент­
рация избыточных носителей в высокоомном слое (с малой кон­
центрацией) гораздо больше, чем в низкоомном. Можно ска­
зать, что в несимметричных переходах инжекция имеет одно­
сторонний характер: главную роль играют носители,
инжектируемые из низкоомного (сильно легированного) слоя в
высокоомный.
Инжектирующий слой (с меньшим удельным сопротивлени­
ем) называют эмиттером, а слой с большим удельным сопро­
тивлением, в который инжектируются неосновные для него но­
сители, - базой.
При обратных напряжениях, т.е. в режиме экстракции, гра­
ничные концентрации согласно (3.10) меньше равновесных и
могут быть сколь угодно малыми. При этом избыточные кон­
центрации согласно (3.11) - отрицательны, по модулю они не
превышают равновесных значений про и Р по ·
Вольт-амперная характеристика p-n-nepexoдa. На рис. 3.8
показана структура токов в переходе. В общем случае
(рис. 3.8, а) ток состоит из электронной и дырочной составляю­
щих (нижние индексы п и р), а каждая из них, в свою очередь,
из инжекционной и рекомбинационной составляющих (верхние
индексы •и� и •Р� ). Последние обусловлены рекомбинацией
носителей в области объемного заряда, на пути в смежный
слой. Рекомбиционные составляющие электронного и дырочно­
го токов, разумеется, одинаковы. Эти составляющие иногда иг­
рают важную роль, однако при выводе идеализированной
вольт-амперной характеристики мы ими пренебрежем и будем
пользоваться структурой, показанной на рис. 3.8, б.


3'а. Электро11110-дырочвые переходы

и

83

+

и

1

п+

<F-

{ i:

1

rип

I"
п

I

.,

-

rир

I"
р

Эмиттер Переход

+

-1

-/ о
6)

Баэа

а)

х

Рис. 3.8. Структура тока в п'-р-переходе с уче-rом (а) и без учета (б)
рекомбинации в области объемного заряда

Эта структура характерна тем, что электронная и дырочная
составляющие одинаковы в обоих слоях, т.е. не претерпевают
изменений в области перехода.
Для расчета инжекционых составляющих воспользуемся
тем обстоятельством, что на границах перехода электрическое
поле равно нулю (рис. 3.5, в), а значит, токи инжектированных
носителей чисто диффузионные. Диффузионные токи рассчи­
тываются по формулам (2.58). Запишем граничные градиенты
концентраций в форме (2. 706), считая, что ширина перехода
l = О (см. выше), т.е. базовая и эмиттерная границы перехода
совпадают. Тогда:
_ ЛпР .
d(Лп) 1
-----,
z=O

dx

Ln

d(Лp)I

т·

_ Лрп

� %=0

р

Знак плюс для дырочного градиента обусловлен тем, что
дырки инжектируются из базы в эмиттер, т .е. в направлении
отрицательных значений х (см. рис. 3.8). Подставляя эти гра­
диенты в (2.58) и используя значения (3.11), получаем элект­
ронную и дырочную составляющие тока в виде
]. = - qDn п

"

L"

рО

(e U/ч,r -1)·,

(3.13а)
(3.136)


Глава 3 Полупроводииков:ь1е перех оды и контакты

84

Знаки минус обусловлены только тем, что ось х направлена
от отрицательного полюса э.д.с. И к положительному
(рис. 3.8). С физической точки зрения токи протекают от �плю­
са>> к «минусу•, т.е. являются положительными. Суммируя ве­
личины J n и Jp , умножая их сумму на площадь перехода S и
опуская знак минус, запишем ВАХ р-п-перехода в виде
И

I =l о (е /q>т -1),

(3.14)

где
(3.15)
одна из
Формула (3.14)
важнейших в транзисторной
электронике. Ее начальный уча­
сток представлен на рис. 3.9 в
40
относительных единицах. ВАХ,
определяемую формулой (3.14),
30
называют идеальной, так как
при ее выводе были опущены
20
многие привходящие факторы.
Реальные ВАХ отличаются от
идеальной, но соответствующие
10
выражения оказываются не то­
-4
-2
лько менее наглядными, чем
2
о
4 UNт (3.14), но и сложными для прак­
тического использования. ПоэР11с 3.9. Вольт амперпая
характеристика идеализированного тому при анализе И расчете ПО·
р-п перехода (диода)
лупроводниковых приборов все­
гда пользуются формулой (3.14).
Ток I0, определяющий �масштаб• ВАХ, называется тепло
вым током, поскольку он имеет тепловое происхождение и,
как увидим, сильно зависит от температуры. Из формулы
(3.14) видно, что при достаточно большом обратном напряже­
нии (а именно, при JUj > З<рт) величина обратного тока равна
- [0 и не зависит от напряжения. Таким образом, можно ска­
зать, что тепловой ток определяет величину обратного тока для
идеальной ВАХ. Кроме того, тепловой ток влияет на многие
важные параметры р-п-переходов и транзисторов; поэтому рас­
смотрим его подробнее.
1/10

50


3.2. Электрояяо-дьtрочяые переходы

85

В несимметричных переходах составляющие тока J n и Jp су­
щественно различаются из-за различия избьrточных концент­
раций [см. (3.12)]. Соответственно различаются и составляю­
щие теплового тока. Для п +-р-перехода главной является элек­
тронная составляющая, т.е. первое слагаемое в правой части
(3.15). Запишем эту составляющую, заменяя про на п12/Рро со­
гласно (2.10) и полагая Рр о = N а. Для общности опустим индек­
сы, тогда
1 0 =(qDS/LN)n12 •
(3.16)
Если N = 10 16 см-3 и L = 10 мкм, то для кремния при ком­
10
натной температуре плотность теплового тока Jo ""2 10А/см 2 • -У современных интегральньrх транзисторов площади
баз составляют не более 210-5 см2 , а площади эмиттеров - до
10-5 см 2 и менее. Поэтому при комнатной температуре типич­
ным значением теплового тока у интегрального кремниевого
перехода можно считать 10 = 10-15 А.
Температурная зависимость теплового тока определяется ве­
личиной п�. Используя формулу (2.9), запишем тепловой ток в
виде
1О -1 00 e'l',l'l'r

(3.17)

Небольшие изменения температуры приводят к резкому из­
менению теплового тока.
Прямая ветвь БАХ. При напряжениях И > О зависимость
I(U) настолько крутая, что получить нужный ток, задавая на­
пряжение, очень трудно: малейшее изменение напряжения вы­
зывает существенное изменение тока. Поэтому для р п-перехо­
дов характерен режим заданного прямого тока. Чтобы исследо­
вать зависимость U(I), запишем ВАХ (3.14) в следующей форме:
И=q>т

ln (�

+1}

Для кремниевых переходов с их ничтожным тепловым то­
ком можно пользоваться выражением

И= <i>т ln(I/J о).

(3.18)


86

Глава 3. Полуnроводииковые переходы и коитакты

Если диапазон изменения прямых токов составляет до 2-х по­
рядков и более, то прямое напряжение в этом диапазоне может
меняться существенно. Однако на практике диапазон токов ред­
ко бывает таким широким. Тогда прямое напряжение в рабочем
диапазоне меняется очень незначительно.
Различают два режима работы перехода - нормальный,
когда ток порядка миллиампера, и микрорежим, когда ток по­
рядка микроампера.
В зависимости от диапазона токов прямые напряжения не­
сколько различаются, но в пределах диапазона их можно счи­
тать постоянными и рассматривать как своего рода пара­
метр открытого кремниевого перехода. Для этого параметра
введем специальное обозначение И* и будем называть его на­
пряжением открытого перехода. При комнатной температуре
будем считать, что в нормальном режиме И* = О, 7 В, а в микро­
режиме И* = 0,5 В. Напряжение И* зависит от температуры
при неизменном токе.
Одной из особенностей реальной ВАХ является омическое
падение напряжения в слое базы. Действительно, если базовый
слой имеет достаточно большое сопротивление r6, то внешнее
напряжение, вообще говоря, не полностью падает на р-п-пере­
ходе, а распределяете.я между ним и слоем базы. Тогда прямое
напряжение вместо формулы (3.18) будет выражаться суммой
(3.19)

Один из важнейших параметров прямой ветви ВАХ - диф­
ференциальное сопротивление перехода. Для начального (невы­
рожденного) участка его легко получить из выражения (3.18):
rр-п = dИ/dl = IPтl I.
(3.20)
Физический смысл этого параметра становится ясным, если
заменить дифференциалы dU и dJ конечными приращениями,
тогда
ЛИ= Лlrp -n·

Значит, rp -n есть сопротивление для приращений тока Лl,
малых по сравпению с постоянной составляющей тока I, опре­
деляющей величину rp -n.
Типичным значением, которое полезно запомнить, является
rр -п = 25 Ом, соответствующее току I = 1 мА.


3.2. Электр0иио-дырочи1,1е переходы

87

Обратная ветвь БАХ. Как отмечалось, реальный обратный
ток перехода намного превышает величину I0, предсказывае­
мую выражением (3.15). Причиной этого является, прежде все­
го, генерация электронно-дырочных пар в области обратносме­
щенного перехода. Составляющую обратного тока, обусловлен­
ную этим явлением, называют током термогенерации.
Процессы генерации и рекомбинации носителей происходят
во всех частях диода - как в нейтральных слоях n и р, так и в
области перехода. В равновесом состоянии скорости генерации
и рекомбинации везде одинаковы, поэтому направленных пото­
ков носителей нет. Когда к переходу приложено обратное на­
пряжение, область перехода дополнительно обедняется носите­
лями. Поэтому рекомбинация здесь замедляется и процесс ге­
оказывается неуравновешенным. Избыточные
нерации
генерируемые носители уносятся электрическим полем в ней­
тральные слои: электроны в п-слой, дырки в р-слой. Эти пото­
ки и образуют ток термогенерации Iс ;
IG - IGO е-<i>,/.!'Рт

(3.21)

Ток термогенерации зависит от обратных напряжения и
температуры, он на 4-5 порядков больше тока I0•
Пробой перехода. Различают три вида (механизма) пробоя
р·п-перехода при достаточно больших обратных напряжениях:
туннельный, лавинный и тепловой. Первые два связаны с уве­
личением напряженности электрического поля в переходе, а
третий - с увеличением рассеиваемой мощности и соответст­
венно температуры.
В основе туннельного пробоя лежит
р-слой
п-слой
туннельный эффект, т.е. «просачива­
ние� электронов сквозь тонкий потен­
циальный барьер (рис. 3.10).
В основе лавинного пробоя лежит
tразмножение� носителей в сильном
электрическом поле, действующем в
области перехода. Электрон и дырка,
ускоренные полем на длине свободного
пробега, могут разорвать одну из кова­
лентных связей нейтрального атома по­ Рис. 3.10. Туннельный про­
бой (зонная диаграмма)
лупроводника. В результате рождается


88

Гпава 3. По.лупроводи11ковые переходы и коитакты

новая пара электрон-дырка и процесс повторяется уже с участи­
ем новых носителей. Обратный ток при этом, естественно, возра­
стает. При достаточно большой напряженности поля, когда ис­
ходная пара носителей в среднем порождает более одной новой
пары, ионизация приобретает лавинный характер. Граничное
значение пробивного напряжения, выше которого пробой лавин­
ный, а ниже - туннельный, составляет около 5 В.
В основе теплового пробоя лежит саморазогрев перехода при
протекании обратного тока. С ростом температуры обратные
токи резко возрастают, соответственно увеличивается мощ­
ность, рассеиваемая в переходе; это вызывает дополнительный
рост температуры и т.д. Характерной особенностью БАХ при
тепловом пробое является наличие участка с отрицательным
дифференциальным сопротивлением: dU/dl < О.
Барьерная еМJtость. Полупроводниковый диод инерционен
по отношению к достаточно быстрым изменениям тока или на­
пряжения, поскольку новое распределение носителей устанав­
ливается не сразу. Как известно, внешнее напряжение меняет
ширину перехода, а значит, и величину объемных зарядов в пе­
реходе. Кроме того, при инжекции ш1и экстракции меняются
заряды в области базы. Следовательно, диод обладает емко­
стью, которую можно считать подключенной параллельно
р-п-переходу.
Эту емкость принято разделять на две составляющие: барь­
ерн.ую емкость, отражающую перераспределение зарядов в пе­
реходе, и диффузион.н.ую емкость, отражающую перераспреде­
ление в базе. Такое разделение в общем условное, но оно удобно
на практике, поскольку соотношение обеих емкостей различно
при разных полярностях приложенного напряжения. При пря­
мом напряжении главную роль играют избыточньrе заряды в
базе и соответственно - диффузионная емкость. При обратном
напряжении избыточные заряды в базе малы и главную роль
играет барьерная емкость.
Заметим заранее, что обе емкости нелинейны: диффузионная
емкость зависит от прямого тока, а барьерная - от обратного
напряжения. Нелинейность диффузионной емкости настолько
существенна, что ее использование при решении практически
важных задач не упрощает анализ по сравнению с непосредст­
венным использованием уравнений непрерывности. Поэтому мы
эту емкость не рассматриваем. Что касается барьерной емкости,


3.3. Контакты полупроводиик-мета.цд

89

то она, несмотря на нелинейность, является удобным парамет­
ром и заслуживает рассмотрения.
Примем распределение зарядов в переходе ступенчатым. Бу­
дем по-прежнему считать переход несимметричным, типа п + -р.
Тогда протяженность отрицательного заряда в р-базе можно
считать равной всей ширине перехода: lP = l. Запишем модуль
этого заряда:
IQl=qNSl,

где N - концентрация примеси в базе; S - площадь перехода.
Такой же (но положительный) заряд будет в эмиттерном
п+ -слое.
Представим, что эти заряды расположены на обкладках во­
ображаемого конденсатора. Емкость конденсатора обычно опре­
деляют как Q/U. Однако в данном случае заряд обусловлен не
только внешним напряжением И, но и равновесной высотой ба­
рьера Л<j> 0, см. (3.9). Поэтому заряд IQI нужно делить на величи­
ну Лq> = Лс:р 0 - И. В транзисторной электронике чаще пользуют­
ся дифференциальной барьерной емкостью, которую получают,
дифференцируя заряд IQI по напряжению Лq>. Учитьrвая (3.9),
получаем удельную барьерную емкость (на единицу площади):
(3.22)
Так как напряжение обратное, т.е. имеет отрицательный
знак, удобно пользоваться модулем обратного напряжения:
(3.23)

3.3. Контакты полупроводник-металл
Исторически первыми полупроводниковыми приборами
были диоды, основанные на контакте полупроводника с метал­
лом (точ.еч.но·контактные диоды). Их применение основыва­
лось на экспериментально обнаруженном факте - выпрямле­
нии слабых переменных сигналов при соприкосновении метал­
лической иглы с кристаллами некоторых естественных
полупроводниковых минералов. В интегральных схемах кон-


90

Глава 3. Полуnроводииковъrе переходы и контакты

такты металла с полупроводником находят двоякое примене­
ние: либо в качестве невыпрямляющих - омических контак­
тов (соединения элементов ИС), либо в качестве специфических
выпрямляющих контактов (диодов Шоттки).
Структура и свойства контактов металл-полупроводник за­
висят в первую очередь от взаимного расположения уровней
Ферми в том и другом слое. На рис. 3.11 вверху показаны зон­
ные диаграммы разделенных слоев, а внизу - зонные диаграм­
мы соответствующих контактов (после <�соприкосновения• сло­
ев и установления равновесия).
Металл

Полупроводник
р-типа

Металл

Полупроводник
п типа
'Рм

'Рм

fPs
'Рр,,.

'Ps

�----

'Рр,,.

---

<i'Fn

'Ррр

+
+
+

Ч,р

'Р,о
а)

б)

Рис. 3.11. Зонные диаграммы выпрямляющих контактов металла
с полупроводником а - контакт с полупроводником р типа,
б - контакт с полупроводником п-типа

Выпрямляющие контакты. На рис. 3.11, а показаны зонные
диаграммы для случая, когда <p Fm > <pFp. Такое соотно шение
означает, что заполненность зоны проводимости в полупровод­
нике меньше, чем заполненность такого же энергетического
участка в металле. Поэтому после .соприкосновения» слоев
часть электронов перейдет из металла в полупроводник р-типа.
Появление дополнительных электронов в приповерхностном


3.3. Коятакты полупроводник-металл

91

слое полупроводника приводит к усиленной рекомбинации. В
результате уменьшается количество основных носителей - ды­
рок, и вблизи границы с металлом «обнажаются• некомпенси­
рованные отрицательные ионы акцепторов. Появляется элект­
рическое поле, которое препятствует дальнейшему притоку
электронов и обеспечивает больцмановское равновесие в облас­
ти контакта. Энергетические уровни оказываются искривлен­
ными (<вниз•.
На рис. 3.11, б показаны зонные диаграммы для случая
<р Fm < <р Fn , когда после соприкосновения слоев электроны пере­
ходят из полупроводника п-типа в металл. Соотве'!"ственно вбли­
зи границы с металлом «обнажаются• некомпенсированные по­
ложительные ионы доноров, а зоны искривляются «вверх•.
Область искривления зон (т.е. область объемных зарядов) в
обоих случаях имеет протяженность, определяемую формулой
(2.34), обычно 0,1-0,2 мкм.
Контакты такого рода в настоящее время создаются напыле­
нием металла на полупроводник в вакууме.
Обмен электронами между металлом и полупроводником
обычно характеризуют не разностью «исходных• уровней Фер­
ми, а разностью работ выхода. Работой выхода электрона из
твердого тела называют энергию, необходимую для вьrлета за
пределы кристалла (т.е. для термоэмиссии). На зонных диа­
граммах работа выхода есть энергетическое •расстояние• меж­
ду уровнем свободного электрона вне твердого тела и уровнем
Ферми. На рис. 3.11 работы выхода из металла и из полупро­
водника обозначены соответственно через <рм и <р 8 • Разность ра­
бот выхода <р мs = <р м - <р s , выраженную в вольтах, называют
контактной разностью потенциалов.
В зависимости от соотношения работ выхода <р м и <р s элект­
роны переходят в тот или иной слой. Если (J)м < (J)s (т.е.
<р мs < О), то электроны переходят из металла в полупроводник
(рис. 3.11, а), если же (J)м > (J)s (т.е. (j)мs > О), то электроны пе­
реходят из полупроводника в металл (рис. 3 .11, б). Такой кри­
терий более нагляден, чем использованный в начале раздела,
тем более, что контактные разности потенциалов для типовых
комбинаций металлов и полупроводников приводятся в литера­
туре.
Степень искривления энергетических зон вблизи поверхно­
сти (рис. 3.11) характеризуется величиной равновесного повер-


92

Глава 3. Полупроводниковые переходь1 и контакты

хностного потенциала qi so. Если пренебречь ролью поверхност­
ных состояний, то величина q> so будет равна контактной разно­
сти потенциалов Ч' мs .
Оба контакта, показанные на рис. 3.11, характерны наличи­
ем обедненных слоев в приконтактном слое полупроводника.
Здесь концентрация основных носителей меньше по сравнению
с равновесной, сохранившейся вдали от контакта. Следователь­
но, такой приконтактный слой обладает повышенным удельным
сопротивлением и поэтому определяет сопротивление всей сис­
темы.
Потенциальный барьер в приконтактном слое называют ба·
рьеро.м Шоттки. Его высота qi so является аналогом величины
Лqi 0 в р-п-переходе. В зависимости от полярности приложенно­
го внешнего напряжения потенциал qis и соответственно сопро­
тивление приконтактного слоя будут меняться.
Так, если напряжение приложено плюсом к металлу, а ми­
нусом к полупроводнику, то потенциальный барьер в контакте
на рис 3.11, а повышается. Тогда приконтактный слой еще бо­
льше обедняется основными носителями - дырками и, следо­
вательно, будет иметь повышенное сопротивление по сравне­
нию с равновесным. Значит, напряжение с этой полярностью
является для данного контакта обратным. В контакте на
рис. 3.11, б при той же полярности напряжения потенциаль­
ный барьер понижается, приконтактный слой обогащается
основными носителями - электронами и его сопротивление бу­
дет меньше равновесного. Значит, напряжение с этой полярно­
стью является для данного контакта прямым.
Таким образом контакты, показанные на рис. 3.11, облада­
ют выпрямляющими свойствами и могут быть основой диодов.
Диоды, использующие барьеры Шоттки, называют диода.ми
Шоттки.
Вариантом выпрямляющих контактов является контакт, в
котором вблизи границы с металлом образуется инверсионный
слой, т.е. слой с противоположным типом проводимости.
Зонная диаграмма контакта, содержащего инверсионный
р-слой, показана на рис. 3.12. Этот случай характерен для силь­
ного искривления зон, т.е. для больших контактных разностей
потенциалов qi мs, когда вблизи границьr уровень электростати­
ческого потенциала пересекает уровень Ферми. Толщина инвер­
сионного слоя, как уже отмечалось, не превышает 1-2 нм.


93

3.3. Контакты полупроводяяк-меташ1

Диоды Шоттки. Важнейшей

Металл

Полупроводник

особенностью диодов Шоттки по
сравнению с р-п-переходом явля­
ется отсутствие инжекции не­
осковных носителей. Эти диоды,
как говорят, работают ка осков­
кых носителях. Отсюда следует,
что у диодов Шоттки отсутст­

вует

диффузионкая

емкость,

Инверсионный

р-слой
связанная с накоплением и рас­
сасыванием неосновных носите­ Рис. 3.12. Зонная ди аграмма :кон­
лей в базе. Отсутствие диффузи­
такта, при :котором обраауется
инверсионный слой
онной емкости существенно по­
вышает быстродействие диодов
при изменениях токов и напряжений, в том числе при пере­
ключениях с прямого направления на обратное и с обратного на
прямое. Время таких переключений определяется только барь­
ерной емкостью и у диодов с малой площадью может состав­
лять десятые и сотые доли наносекунды. Соответствующие ра­
бочие частоты лежат в пределах 3-15 ГГц.
Не менее важной особенностью диодов Шоттки является
значительно меньшее прямое напряжение по сравнению с на­
пряжением на р-п-переходе. Это объясняется тем, что ВАХ у
диодов Шоттки описывается той же формулой (3.14), что и у
р-п-переходов, но тепловой ток существенно больше, посколь­
ку диффузионная скорость D/L, характерная для р-п-перехода
[см. (3.16)], у диода Шоттки заменяется на среднюю тепловую
скорость носителей Vт - Последняя превышает величину D/L
примерно на 3 порядка. В таком же отношении различаются и
тепловые токи. Тогда из формулы (3.18) следует, что прямое
напряжение у диодов Шоттки будет примерно на 0,2 В меньше,
чем р-п-перехода. Типичным для диодов Шоттки являются
прямые напряжения 0,4 В. Что касается обратных токов, то
они могут составлять, в зависимости от площади, до 10-11-10-12
А, т.е. близки к реальным обратным токам кремниевых р-п-пе­
реходов, определяемым термогенерацией.
Еще одна особенность диодов Шоттки состоит в том, что их
прямая ВАХ строго подчиняется экспоненциальному закону
(3.14) в очень широком диапазоне токов - на протяжении не­
скольких декад, например, от 10-12 до 10-4 А. Отсюда следует


Глава 3. Полуп роводниковые переходы и контакты

94

возможность использования диодов Шоттки в качестве преци­
зионных логарифмирующих элементов в соответствии с соотно­
шением (3.18).
Качественные барьеры Шоттки образуются в кремнии при
контакте с такими металлами, как молибден, нихром, золото,
платина (точнее, сплав платины с кремнием - силицид плати­
ны), а также алюминий - основной материал для металлиза­
ции вис.
Невыпрямляющие контакты. Пусть для контакта металла с
полупроводником р-типа имеет место неравенство q,мs > О, а
для контакта с полупроводником п-типа - неравенство Ч> мs <0
(рис. 3.13). Как уже известно, в первом случае электроны будут
переходить из полупроводника в металл и зоны искривятся
«вверх!), а во втором случае электроны будут переходить из ме­
талла в полупроводник и зоны искривятся «вниз•>.
Металл Полуп роводни к Мета лл Полупров одник
п-типа
р-типа
Q>s

-

+-

q,F

++---

а)

6)

Рис. 3.13. Зонные диаrраммы невыпрямляющих конта ктов металла с по лу­
проводником: а - контакт с полупроводником р-типа; 6 - контакт с полу­
проводником п-типа

В таких контактах вблизи границы в полупроводнике на­
капливаются основные носители, т.е. получаются обогащенные
слои. Их протяженность составляет сотые доли микрометра.
Как видно из рис. 3.13, мы приняли очень небольшие контакт­
ные разности потенциалов, поэтому искривление зон незначи-


3.4. Граница полупроводник-диэлектрик

95

тельное и полупроводники остаются невырожденными. Если
принять значения ([>мs = 0,1-0,2 В и более, то искривление зон
будет значительно сильнее и вблизи границы уровень Ферми
будет проходить через соответствующую разрешенную зону. На
этом участке полупроводник превращается в полуметалл с ни­
чтожным удельным сопротивлением.
Наличие обогащенного слоя означает, что сопротивление си­
стемы в целом определяется нейтральным слоем полупроводни­
ка и, следовательно, не зависит ни от величины, ни от полярно­
сти приложенного напряжения. Такие невыпрямляющие ком­
бинации металла с полупроводником называют омическими
контактами.
Омические контакты осуществляются в местах присоедине­
ния выводов к полупроводниковым слоям. Получение омиче­
ских контактов - задача не менее важная, чем получение вы­
прямляющих контактов. Помимо двусторонней проводимости,
важным свойством омического контакта является ничтожное
время жизни избыточных носителей в обогащенном слое. Поэто­
му при анализе полупроводниковых приборов обычно считают,
что концентрации избь1точных носителей на омическом контак­
те равны нулю.
В микроэлектронике в настоящее время наиболее распро­
страненным металлом для омических контактов является алю­
миний.

3.4. Граница полупроводник-диэлектрик
Приповерхностнь1й слой полупроводника - это особая об­
ласть. Имеет кристаллическую структуру, содержит адсорбиро­
ванные примеси, характерен наличием особых энергетических
уровней и т.п. Соответственно, приповерхностному слою свой­
ственны свои значения подвижности, времени жизни и других
электрофизических параметров.
Общая характеристика границы Si-Si02• Свойства среды, с
которой граничит полупроводник, оказывают влияние на свой­
ства приповерхностного слоя. Примером могут служить грани­
цы (контакты) полупроводников с металлами, рассмотренные в
предыдущем разделе. Как было показано, наличие металла на
поверхности полупроводника приводит к образе,ванию в по­
следнем обедненных или обогащенных слоев. Аналогичные


96

Глава 3. Полупроводииковь1е переходы и контакты

процессы имеют место на границе полупроводника с диэлект­
риком.
Особый интерес представляет граница кремния с двуокисью
кремния, поскольку поверхность всех современных полупро­
водниковых ИС защищается окисным слоем. Кроме того, в
структурах МДП (рис. 2.13), выполненных на основе кремния,
в качестве диэлектрика тоже, как правило, используется слой
Si0 2 • Поэтому ниже, говоря о границе полупроводник-диэлект­
рик, будем подразумевать структуру Si-S10 2 •
Главная особенность слоев (пленок) двуокиси кремния, ис­
пользуемых в ИС, состоит в том, что они всегда содержат при­
меси донорного типа. Наиболее распространенными примеся­
ми такого типа являются натрий, калий и водород. Все они со­
держатся в типовых растворах, которыми обрабатывают
поверхности кремния и его окисла.
Донорные примеси, свойственные пленке S10 2 , сосредоточе­
ны вблизи границы с кремнием. Поэтому в пленке Si0 2 на гра­
нице с кремнием образуется тонкий слой положительно заря­
женных донорных атомов, а отданные ими электроны перехо­
дят в приповерхностный слой кремния. Последствия такого
перехода зависят как от типа проводимости полупроводника,
так и от концентрации донорных примесей в диэлектрике. По­
скольку донорные атомы сосредоточены в очень тонком слое
диэлектрика, объемная концентрация (см- 3) оказывается неу­
добным параметром и вместо нее используют поверхностную
концентрацию (см-2). Характерными значениями поверхност­
ной концентрации доноров в двуокиси кремния являются
Nд 8102 = (0,5-2,0) · 10-12 см-2•
Если кремний имеет проводимость п-типа, то электроны, пе­
решедшие в него из окисла, обогащают его приповерхностный
слой основными носителями: образуется так называемый n-ка­
нал (рис. 3.14, а). Если же кремний имеет проводимость р-ти­
па, то электроны, перешедшие в него из окисла, либо обедняют
приповерхностный слой, •обнажаю> отрицательные ионы ак­
цепторов (рис. 3.14, 6), либо образуют наряду с обедненным
слоем тонкий инверсионный п-слой (рис. 3.14, в).
Возникновение незапланированных каналов под слоем S102
в приборах, работающих как с использованием р-п-переходов,
так и МДП, может нарушить структуру этих приборов и норма­
льную работу элементов ИС.


97

Коитрол�.ЯЪ1е вопросы

-=-=--=---- -=-- -

Ф GЭ GЭ ЕВ ЕВ EiH9

� - - -

п-81

�L------...J
а)

б)

6Э ионы акцепторов;

0 ионы доноров;

в}

- электроны

Рис. 3.14. Приповерхностная структура кремния на границе с окислом:
а - обогащенный слой, 15 - обедненный слой, в - обедненный слой
с инверсионным каналом

Контрольные вопросы
1. Что такое металлургическая граница?
2. Дайте классификацию переходов.
3. Поясните роль обедненного слоя.
4. Чем определяется величина потенциального барьера перехо­
да?
5. В чем разница между несимметричным и плавным перехо­
дом?
6. Что такое прямое напряжение и как изменяется величина
потенциального барьера в результате его воздействия?
7. Поясните влияние обратного напряжения на величину по­
тенциального барьера.
8. Какова зависимость ширинь1 перехода от полярности и ве­
личины приложенного напряжения?
9. Поясните структуру токов в п-р-переходе.
10. Нарисуйте ВАХ идеализированного р-п-перехода.
11. В чем отличие нормального режима работыр-п-перехода от
микрорежима?
12. Что называют напряжением открьrтого перехода И* и како­
вы его величины при нормальном и микрорежиме?
13. Какова величина диффузионного сопротивления р-п-перехода?
14. Что такое ток термогенерации?
15. Охарактеризуйте виды пробоя р-п-перехода.
16. В чем отличие диффузионной емкости от барьерной?
4-3423


98

Глава 3. Полупроводниковые переходы и коитакть1

17. Нарисуйте зонную диаграмму выпрямляющего контакта
металла с полупроводником п-типа.
18. Нарисуйте зонную диаграмму вьшрямляющего контакта
металла с полупроводником р-типа.
19. Что такое барьер Шоттки?
20. Каковы основные качества диода Шоттки?
21. В чем преимущества диода Шоттки по сравнению с обычным
р-п-nереходом?
22. В чем заключается влияние границы полупроводник-диэ­
лектрик на работу МДП-структуры?


�!! - - --------

fnaвa 4

Униполярные транзисторы

4.1. Введение
Транзисторами называют полупроводниковые усилительные
приборы, т.е. приборы, которые способны усиливать электриче­
скую мощность1 • Транзисторы имеют очень много конструктив­
но-технологических разновидностей, но по принципу действия
их делят на два основных класса: униполярные и биполярные.
Работа униполярных транзисторов основана на использова­
нии только одного типа носителей - основных (или электро­
нов, или дырок). Процессы инжекции и диффузии в таких
транзисторах практически отсутствуют, во всяком случае они
не играют принципиальной роли. Основным способом движе­
ния носителей является дрейф в электрическом поле.
Для того чтобы управлять током в полупроводнике при по­
стоянном электрическом поле, нужно менять либо удельную
проводимость полупроводникового слоя, либо его площадь. На
практике используется и тот, и другой способ, причем в основе
обоих способов лежит эффект поля. Поэтому униполярные
транзисторы обычно называют полевыми транзисторами.
Проводящий слой, по которому проходит рабочий ток, называ­
ют каналом. Отсюда еще одно название такого класса транзи­
сторов - канальные транзисторы.
Каналы могут быть приповерхностными и объемными. При­
поверхностные каналы представляют собой либо обогащенные
слои, обусловленные наличием донорных примесей в диэлект­
рике, либо инверсионные слои, образующиеся под действеим
внешнего поля. Объемные же каналы представляют собой уча­
стки однородного полупроводника, отделенные от поверхности
обедненным слоем. Оба варианта каналов, а также способы их
испол ьзования показаны на рис. 4.1.
1 :Именно усиление мощности (а не порознь напряжения и тока) есть тот крите­
рий, по которому прибор можно относить к усилительным. Например, транс­
форматор усиливает напряжение (за счет тока) или ток (за счет напряжения),
но не усиливает мощность и поэтому не относится к усилитещ,ньrм приборам.


�;rur

100

Глава 4. Уаипол.яриые траизисторы

Канал

Транзисторы с приповерхностным
каналом (рис. 4.1, а) имеют классиче­
скую
структуру
металл-диэлект­
рик-полупроводник (МДП). Их назы­
вают МДП-трапзисторами. В частном
а)
случае, если диэлектриком является
окисел (двуокись кремния Si02), испо­
льзуется название МОЛ-транзисторы.
Транзисторы с объемным каналом
(рис. 4.1, б) характерны тем, что обед­
ненный слой создается с помощью
Рис 4.1. Принцип исполь­
р-п-перехода.
Поэтому их часто назы­
зования каналов в унипо­
вают
полевыми
транзисторами с
лярных т ранзисторах:
а - приповерхностный
р-п-переходом. Однако это название
п-канал;
длинное и неудобное. Поэтому ниже
6 - объемный р-канал;
мы будем называть их просто полевы1 - обед11енuый слой
ми трапзисторами.
Несмотря на различие в структуре, полевые и МДП-транзи­
сторы имеют много общего. Обоим транзисторам свойственна
явно выраженная управляющая цепь (с источником напряже­
ния И), четко отделенная от управляемой цепи, в которой про­
текает рабочий ток I. Управляющая цепь практически не по­
требляет тока, поскольку в нее входит либо участок диэлектри­
ка (рис. 4.1, а), либо обратносмещенный п-переход (рис. 4.1, б).
Направление электрического поля, создаваемого управляющим
напряжением, перпендикулярно направлению тока. Наряду с
общими чертами каждый из этих двух транзисторов обладает,
конечно, и рядом отличительных особенностей.

4.2. МДП-трап3исторы
Реальная структура МДП-транзистора с п-каналом, выпол­
ненного на основе полупроводника, показана на рис. 4.2. Ме­
таллический электрод, создающий эффект поля, называют за­
твором (3). Два других электрода называют истоком (И) и
стоком (С). Эти электроды в принципе обратимы. Стоком явля­
ется тот из них, на который ( при соответствующей полярности
напряжения) поступают рабочие носители канала. Если канал
п-типа, то рабочие носители - электроны и полярность стока
положительная. Исток обычно соединяют с основной пласти­
ной полупроводника, которую называют подложкой (П).


4.2. МДП-траиз11сторы

101

ПрИIЩЮI действия. В иде­
альном случае, когда равно­
весный потенциал поверхно­
сти равен нулю (q> 80 =0),
МДП-транзистор с п-каналом
работает следующим обра­
зом. Пусть затвор соединен с
истоком, т.е. Изи = О. При
этом канал отсутствует и на
пути между стоком и исто- Подложка р-полупроводник
ком ока:зываются два встреч- Рис. 4.2. Структура МД -транзистора
П
новключенных р-п+-перехос индуцированным п-каналом
да. Поэтому при подаче на­
пряжения Ис11 ток в цепи стока будет ничтожно мал.
Если подать на затвор отрицательное напряжение, то припо­
верхностный слой обогатится дырками; при этом ток в рабочей
цепи мало изменится. Если же подавать на затвор все большее
положительное смещение U311 > О, то сначала образуется обед­
ненный слой (объемный заряд акцепторов), а затем - инверси­
онный слой электронов, т.е. проводящий канал. После этого
ток стока принимает конечное значение и зависит от напряже­
ния на затворе. Это и есть рабочий режим МДП-транзистора.
Поскольку входной ток (в цепи затвора) ничтожно мал, получа­
ется значительное усиление мощности.
Каналы, отсутствующие в равновесном состоянии и образу­
ющиеся под действием внешнего напряжения, называют инду­
цированными. Толщина индуцированного канала практически
неизменная (1-2 нм), поэтому модуляция его проводимости
обусловлена изменениями концентрации носителей. Напряже­
ние на затворе, при котором образуется канал, называют поро·
zовым напряжением и обозначают И0• Длина канала L равна
расстоянию между слоями истока и стока, а ширина Z - про­
тяженности этих слоев (рис. 4.2).
Если выбрать подложку п-типа, а слои истока и стока сде­
л ать р + -типа, то получится МДП-транзистор с индуцированным
р-каналом. Он характерен обратными полярностями порогового
и рабочих напряжений: И0 < О, Изн < О, Ис1, < О.
Электронные схемы, в которых используется сочетание
транзисторов сп- и р-каналами, называют комплементарными
схемами.


102

Глава 4. УиШiолярЯЪlе транзисторы

Подложку МДП-транзисторов стараются делать из материа­
ла с высоким удельным сопротивлением, с тем чтобы облегчить
образование канала и увеличить пробивное напряжение пере­
ходов истока и стока.
В принципе механизм работы и свойства МДП-транзисторов
одинаковы. Однако есть и некоторые различия. Во-первых,
п-канальные транзисторы более быстродействующие, так как
подвижность их рабочих носителей - электронов - примерно
в три раза выше, чем дырок. Во-вторых, у n- и р-канальных
транзисторов структура приповерхностного слоя в равновесном
состоянии оказывается разной, и это отражается на величине
порогового напряжения.
Различие в структуре приповерхностного слоя объясняется
разным влиянием положительного заряда, который обычно
имеется в окисле. В подложке п-типа этот заряд создает обога­
щенный слой, который препятствует образованию р-канала, со­
ответственно пороговое напряжение у р-канальных транзисто­
ров увеличивается. В подложке р-типа тот же заряд создает
обедненный слой, т.е. способствует образованию п-канала; соот­
ветственно пороговое напряжение у n-канальных транзисторов
уменьшается.
Иногда положительный заряд в окисле может образовать не
только обедненный, но и инверсионный слой, т.е. п-канал. По­
скольку такой канал существует при нулевом напряжении на
затворе, его уже нельзя считать индуцированным (т.е. наведен­
ным полем затвора). Значит, величина порогового напряжения
теряет свой обычный смысл. В транзисторах этого типа канал
называют встроенным (т.е. имеющимся •заранее,>), а вместо
порогового напряжения вводят параметр напряжение отсеч.ки.
Это - напряжение, при котором электроны равновесного ин­
версионного слоя отталкиваются от поверхности и встроенный
канал исчезает 1• Вообще говоря, наличие встроенного канала
не является препятствием для использования МДП-транзи­
сторов. Такие транзисторы работают при обеих полярностях
1 Для того, чтобы предотвратить образование равновесного канала, при изготов­
лении п-канальных МДП-транзисторов приходится использовать специаль­
ные меры по обработке поверхности кремния и диэлектрика, а также исполь­
зовать подложку с повышенной концентрацией акцепторов. Все это делает
технологию п-канальпых транзисторов несколько сложнее, чемр-канальных.


4.2. МДП-траизисторы

103

напряжения затвора: при отрицательной полярности канал
обедняется носителями и ток стока уменьшается, при положи­
тель ной полярности канал обогащается и ток увеличивается.
Однако транзисторы с индуцированным каналом имеют гораз­
до большее распространение, хотя
3
они работают только при одной по­
лярности напряжения на затворе той, при которой возникает канал.
п-к апал
В тех сравнительно редких случа­
p-S1
ях, когда встроенный канал жела­
телен, его обычно специально осу­
Рис. 4.3. Структура
ществляют в виде тонкого припоМДП,траизистора
верхностного слол с помощью
со встроенным п-каналом
ионного легирования (рис. 4.3).
В дальнейшем рассматриваются только транзисторы с инду­
цированным п-каналом.
Пороrовое напряжение. Напряжение затвора наводит в по­
лупроводнике тем больший удельный заряд (на единицу пло­
щади), чем больше удельная емкость между металлом и повер­
хностью полупроводника. Значит, удельная емкость за­
твор-канал определяет управляющую способность затвора и
поэтому является одним из важных параметров МДП-транзи­
стора. Эта емкость имеет вид

(4.1)
где d - толщина диэлектрика; Ец - его диэлектрическая про­
ницаемость. Уменьшение величины d желательно, но ограниче­
но пробоем диэлектрика. Типичные значения толщины двуоки­
си кремния составляют d = 0,01-0,1 мкм. Если положить
d = 0,03 мкм, и Ед = 3,9 (для Si0 2), то С 0 "'1000 пФ/мм 2 •
Пороговое напряжение И0 можно разделить на две составля­
ющие (рис. 4.4)1.

(4.2)

Составляющая U 0 p - это напряжение спрямления зон; оно
сводит к нулю равновесный поверхностный потенциал q> 8 0, т.е.
1 На зонной диаграмме положительн ые значения электриче с ких потенциалов
откладываются вниз.


Глава 4. Уияполярm.1е траизисторь1

104

ликвидирует начальное иск­
ривление зон (ер. кривые J и
Зона проводимости
{((({((({{(((((((((
2). На рис. 4.4 начальное иск­
ривление принято противопо­
ложным тому, которое необхо­
Уровень Ферми димо для образования канала.
Составляющая Иов - это
напряжение изгиба зон: оно
обеспечивает изгиб зон в сторо­
ну, необходимую для образова­
ния канала (кривая З) и созда ­
Канал Обедненный слой
ет поверхностный потенциал
Рис. 4.4. Зонные диаrрам:мы
МДП-транзистора при напряжениях <i> sm , при котором уровень элек­
потенциала
тростатического
от о до и.
пересекает уровень Ферми.
Таким образом, напряжение И OF характеризует ♦ подготов­
ленносты полупроводника к образованию канала; если <р 80 = О,
то и ИOF = О, а если равновесные зоны искривлены вниз, то
ИOF < О. Что касается напряжения Иов , то оно определяет зна­
чение порогового напряжения в ♦ идеальных• условиях, когда
поверхностный потенциал равен нулю.
Напряжение И OF выражаете.я следующим образом:
М Д

Полупроводник

(4.За)

где Q 08 - равновеснь1й удельный заряд поверхности, включаю­
щий в себя заряд поверхностных состояний и заряд, обуслов­
ленный ионами примесей в диэлектрике; <р мs - контактная
разность потенциалов между металлом и диэлектриком. Вели­
чина Q08 получается экспериментально и составляет обычно
5 · 10-9 - 5 • 10-8 Кл/см: 2 •
Напряжение Иов выражается следующим образом:
Иов

= Ч>sт

+ � -J<i>sm,

(4.Зб)

где
(4.4)
- коэффициент, характеризующий влияние объемного заряда
в подложке (Е и - диэлектрическая проницаемость полупровод­
ника; N - концентрация примеси).


4.2. МДП-траизистор ы

105

Обычно полагают q> sm = 2q> F, где q>p - модуль разности меж­
ду уровнем Ферми и уровнем электростатического потенциала
16
в объеме полупроводника (рас. 4.4). Например, если N = 10
3
=
см- , то q> p :::::0,3 В и, значит, <J> sm 0,6 В; согласно (4.4)
а::::: 5 • 10-8 Ф · В112 -см 2 • Полагая С0 =10-7 Ф/см2 (см. выше), из
(4.Зб) получаем: Иов ::::: 1,0 В. Практически значения полного по­
рогового напряжения лежат в пределах ИO = 0,5-1,5 В.
Статические характеристики. Рассмотрим влияние тока на
структуру канала. Если напряжение Иси = О, то поверхность по­
лупроводника эквипотенциальна, поле в диэлектрике однород­
ное и толщина образовавшегося канала h одинакова на всем
протяжении (рис. 4.5, а). Если же Иен >0, то протекает ток и
потенциал поверхности возрастает от истока к стоку. Значит,
разность потенциалов между затвором и поверхностью в на­
правлении стока уменьшается. Соответственно уменьшаются
напряженность поля в диэлектрике и удельный заряд электро­
нов в канале. Поэтому сечение канала вблизи точки х = L сужа­
ется (рис. 4.5, б).

а)

6)

Р ис 4.5. Распределеяие поля я зарядов в МДП-транзисторе при нулевом (а)
и наибольшем положительном (6) яапряжеяиях на стоке

При некотором критическом напряжении на стоке, которое
называют напряжением насыщения, разность потенциалов
между затвором и поверхностью в точке х = L делается равной
пороговому напряжению. Образуется так называемая .горлови­
на� канала (рис. 4.6, а).
Напряжение насыщения имеет вид
(4.5)


Глава 4. Уииполяриые траизисторы

106

При напряжениях Иси > Иен слой объемного заряда, кото­
рый до сих пор отделялся от поверхности каналом, «выходит
на поверхность1> на участке ЛL, а «горловина� канала соответ­
ственно сдвигается в точку L' (рис. 4.6, 6)1 • Вследствие этого
происходит укорочение канала на величину ЛL; потенциал
•горловины� в точке L' сохраняет значение Иен , которое было в
начале насыщения.

6)

а)

Рис 4.6. Распределение поля и зарядов в МДП-транзисторе; а - на грани­
це насыщения (И,. = U"); 6 - в области насыщения (И'" > И,.)

Величина ЛL (приповерхностная ширина объемного заряда)
зависит от разности напряжений на этом участке Uc11 Иен · За­
висимость эта такая же, как зависимость ширины р-п-перехо­
да от обратного напряжения: ЛL - -Juси - И сн •
После образования «горловины,> канала ток в рабочей цепи
практически перестает зависеть от напряжения на стоке - на­
ступает насыщение тока (рис. 4. 7, а), откуда и название напря­
жения Иен·
Анализ, выполненный с учетом описанных процессов, при­
водит к выражению для ВАХ, которое неудобно для инженер­
ных расчетов (из-за наличия членов в степени 3/2). Поэтому на
практике пользуются аппроксимациями ВАХ, из которых наи­
более простой и распространенной является следующая:
-

l c =Ь[(И30 -И0 )Иси -½И�0 ].

(4.6)

1 Процессы образования •горловины• канала и ее с двига просматриваются го­
раздо яснее в полевых транзисторах, где канал несравненно толще (рис. 4.13)


107

'-2, МДП-траизисторы

I,

[с

и ,,.>Ис2>Исз

и.а

и .2
Из2

1.,.2

Uc3

и••
и. "'ио

и.

Ucнl и,н2

а)

о

Ио

6)

и.

Рис. 4.7. Статические характеристики МДП-транзистора:
а - выходные; б - передаточные

Здесь Ь - удельная крутизна МДП-транзистора (один из его
основных параметров):
(4.7)
гдеµ - приповерхностна.я подвижность носителей (она обычно
в 2-3 раза меньше объемной); Z - ширина канала. При значе­
нияхµ= 550 см2 / (В• с), Z/L = 10 и С0 = 10- 7 Ф/см2 получаем
типичное значение Ь ""0,5 мА/В 2 •
Выражение (4.6) действительно только при условии
Иеи <Иен, т.е., как говорят, на начальных - крутых участках
ВАХ (см. рис. 4.7,а). Если же Ие н >Иен • то ток не мен.яетс.я и
остаетс.я равным тому значению, которое он имеет при
Иеи =Иен . Поэтому, подставлял (4.5) в (4.6), получаем выраже­
ние дл.я области насыщени.я, т.е. для пологих участков ВАХ:
Iс =

½ Ь(И зu - Ио )

2

(4.8)

Этому выражению соответствует на рис 4. 7 ,6 крива.я с пара­
метром И ен.
Обычно номинальным током МДП-транзистора считается
ток при напр.яжении И 3,.. =2И0 , т.е.
]сном

= ½ЬUg ·

(4.9)


108

Глава 4. Увипош1рвые транзисторы

Как видим, чем меньше пороговое напряжение, тем меньше
рабочий ток. Номинальному режиму, т.е. значению И3,. =2И 0 ,
согласно (4.5) соответствует напряжение насыщения Исн-= И O•
Следовательно, малые значения U0 обеспечивают и малые
токи, и малые рабочие напряжения транзистора.
Выражения (4.6) и (4.8) имеют широкое распространение благода­
ря своей простоте и наглядности. Однако они дают значительную по­
грешность при расчетах, если концентрация примеси в подложке пре­
вышает 10 15 см-3, что обычно имеет место. Поэтому в тех случаях, ког­
д а это необходимо, вместо (4.6) пользуются более точной
аппроксимацией:
(4.10)
Ic = Ь[(И3и-Ио)И0и -½(1 + ТJ)И;и),
где поправочный коэффициент ТJ имеет вид
(4.11)
Например, если а/С0 = 0,5 В 112 (как было выше) и <p,m = 0,6 В, то
ТJ "'0,22.
Дифференцируя (4.10) по И011 и полагая dI0 /dU08 = О, находим на­
пряжение насыщения:
(4.12)
Оно оказывается меньше, чем при расчете по (4.5). Подставляя
(4.12) в (4.10), получаем уточненную ВАХ для пологой области - об­
ласти насыщения
Iс = !_Ь_(Изи -И0)

2 l + ТJ

2

•

(4.13)

До сих пор считалось, что исток соединен с подложкой. Бы­
вают случаи, когда подложка имеет отрицательный потенциал
Иmi относительно истока (например, в интегральных схемах, у
которых подложка общая для всех транзисторов) 1 • Тогда на­
пряжение, падающее на слое объемного заряда, увеличивается,

1 Положительное напряжение на подложке (в случае п-кана.11ьного транзистора)
недопустимо, так как при этом р-п-переход истока будет работать в прямом
включении и будет иметь место инжекция электронов в подложку, т.е. нару­
шится принцип работы униполярных транзисторов.


4.2. МДП-траи:Jисторы

109

и это приводит к поправке в выражении (4.3б) для напряжения
изгиба зон:
(4.14)
При этом напряжение Ип•• , естественно, войдет и в выраже­
ние (4.8). Соответственно ток Iс, вообще говоря, будет функ­
цией двух напряжений: Изи и И пи , т.е. возможно двойное
упра вление током.
С учетом влияния подложки характеристику (4.13) можно
заменить следующей:
1 Ь
2 1 + 'Г1

2
3

I =---(И311 -Ио -- ' 1 IИIIИ 1)2 •
С

(4.15)

11

Как видим, наличие напряжения между подложкой и исто­
ком равносильно увеличению порогового напряжения.
В заключение рассмотрим начальные крутые участки ВАХ,
которые широко используются в ключевых (импульсных) схе­
мах. Полагая
можно пренебречь квадратичным членом в выражении (4.6) и
получить линейную зависимость
(
)
/ с =Ь И зи -Ио И си ·
Соответствующее семейство БАХ I ,мА
0
показано на рис. 4.8. Коэффициент
при Иси в правой части (4.16) назы­ 1,0
вается проводимостью канала, а об­
ратная величина - сопротивлени
ем канала:
0,5
1

Ro =-----­
Ь(И з11 -Ио)

(4.16)

(4.17)

Как видим, сопротивление канала
можно регулировать в широких пре­
делах, меняя напряжение на затво­
ре. Такая возможность используется

о

0,5

Рис. 4.8. Начальные квазили­
нейные участки выходных ха­
рактеристик МДП-транзистора


110

Глава 4. Уииполяриые транзисторы

на практике. Если положить Иаи - UO = 4 В и Ь = О, 5 мА/В2, то
R0 = 0,5 кОм.
Малосиrнальные параметры. В усилительной технике испо­
льзуются пологие участки БАХ - область насыщения. Этой об­
ласти свойственны наименьшие нелинейные искажения сигна­
лов и оптимальные значения малосигнальных параметров, су­
щественных для усиления.
Малосигнальными параметрами МДП-транзистора .являются:
dJ
крутизна S = __с_ I
;
U •• � const
dU а
и

внутреннее сопротивление rc
коэффициент усиления 1 k

= dUси 1 U•• _- const ;
dJ

= dU
--0!!-1 r, � const

dUэи I
Эти три параметра связаны соотношением
(4.18)

Крутизна в области насыщения легко определяется из выра­
жения (4.8):
(4.19а)
Как видим, крутизна пропорциональна параметру Ь. Назва­
ние последнего (удельная крутизна) обусловлено тем, что при
И 311 - ИO = 1 В величина Ь численно равна крутизне. С помощью
выражений (4.19а) и (4.8) легко установить связь крутизны с
рабочим током:
(4.196)
Например, при Ь = 0,5 мА/В 2 и Ic = 1 мА получаем: S = 1,0 мА/В.
Если использовать более точную формулу (4.13), то крутиз­
на будет меньше, чем при расчете по формулам ( 4.19), посколь­
ку величина Ь заменяется на Ь/(т� + 1).
Внутреннее сопротивление на пологом участке БАХ обуслов­
лено зависимостью длины канала от стокового напряжения
1 Обычно коэффициент усиления электронных приборов обозначают черезµ, но
:это обозначение в теории МДП-транзисторов совпадает с обозначением по­
движности, и мы его избегаем.


4.2. МДП-траизисторы

111

(рис. 4.6, 6). Рост напряжения Иси сопровождается увеличени­
ем ширины стокового перехода ЛL и соответственно уменьше­
нием длины канала L'. При этом возрастает удельная крутизна
Ь, а вместе с нею и ток стока Ic Внутреннее сопротивление рав­
но
(4.20)

Полагая N = 10 16 см-3, Ис = 4 В, Ic = 1 мА, L = 10 мкм, полу­
чаем гс = 100 кОм.
Перемножив (4.20) и (4.196), получим коэфф ициент усиле­
ния k. Он не зависит от длины канала; его типичные значения
составляют 50-200 (в зависимости от ширины канала Z).
Выше было отмечено, что МДП-транзистор может управлять­
ся не только напряжением затвора, но и напряжением подлож­
ки. Дифференцируя (4.15) по I Ипиl, получаем крутизку по под­
ложке:
(4.21)

Знак минус говорит о том, что ток I" уменьшается с увели­
чением напряжения I Ипи 1- Дифференцируя (4.15) по Изи , полу­
чаем крутизку по затвору:
(4.22)

Как видим, наличие напряжения I Иuи I приводит к уменьше­
нию крутизны S 0 •
Отношение крутизны Sn и S 3 находится в прямой зависимо­
сти от коэффициента ri, т.е. в конечном счете определяется тол­
щиной диэлектрика и концентрацией примеси в подложке.
Обычно ISn/< S 3 •
В любом случае предпочтительно управление по затвору, по­
тому что при этом входное сопротивление, определяемое диэ­
лектриком, несравненно больше (при управлении по подложке
входное сопротивление определяется обратным током истоко­
вого р-п-перехода).


llZ

Глава 4. Уииполяриые транзисторы

В заключение отметим, что рассматривавшееся во всех пре­
дыдущих разделах включение МДП-транзистора с общим исто­
ком ОИ (рис 4.9, а) - наиболее распространенное, но не един­
ственно возможное. Иногда используется включение с общим
затвором 03 (рис. 4.9, 6). Оно характерно весьма низким вход­
ным сопротивлением (близким к величине 1/S) и потому нахо­
дит применение только в некоторых специальных схемах.
[с
---т---оС
....---

Вх

Иен

И38

Вых

Вх

и

Вьtх

3
б)

а)

Рис. 4.9. Включение МДП-транзистора с общим истоком (а)
и с общим затвором (б)

Стабильность параметров. При заданных напряжениях на
затворе и стоке ток стока зависит от температуры. Эта зависи­
мость проявляется через параметры Ь и ИO• Функция Ь(Т) обу­
словлена температурной зависимостью подвижности носите­
лей, а функция И0 (Т) - температурной зависимостью уровня
Ферми [см. (4.Зб), где Ч>sт =2q> p ],
С ростом температуры и удельная крутизна, и пороговое на­
пряжение уменьшаются, причем уменьшение этих параметров
влияет на ток в противоположных направлениях, см. (4.8) и
(4.13). Существует такое значение тока Ic , при котором влияния
зависимостей Ь(Т) и И0 (Т) уравновешиваются. Это стабильное
значение на:tывают критическим током. Наличие критического
тока - важная отличительная черта МДП-транзисторов, она
обеспечивает возможность температурной стабилизации схем
простейшим путем - выбором рабочего тока.
Из условия dic /dT = О (с учетом производных дЬ/дТ и
дИ0 /дТ) можно получить напряжение на затворе, соответствую­
щее критическому току:
И зи кр

- Ио

= (0,8-2,4) В

(4.23)

(минимальное значение соответствует концентрации примеси в
подложке 10 1 8 см-3, максимальное - концентрации 10 15 см-3).
Обычно критический ток в 5-10 раз меньше номинального,
определяемого формулой (4.9).


4.2. МДП-траизисторы

113

В диапазоне Jc > Ic кр (в частности, при номинальном токе)
температурный коэффициент тока положительный, а в диапазо­
не Ic < Ic кр (микрорежим) - отрицательный. Температурную
нестабильность тока принято характеризовать не приращением
тока ЛJ с, а эквивалентным приращением ЛU311 , которое получа­
ется из очевидного соотношения: ЛИ3и = Лl c /S. Для токов, близ­
ких к критическому, характерны температурные чувствительно­
сти ±0,5 мВ/С, для <�сверхкритических\) токов они составляют
+(8-10) мВ/С, а дл.я tсубкритических& - (4-6) мВ/С.
Крутизна МДП-транзистора зависит от температуры через те
же параметры Ь и И0, что и ток. Поэтому нар.яду с понятием
критического тока существует понятие критической крутиз­
ны, для которой влияния зависимостей Ь(Т) и И0 (Т) уравнове­
шиваются. Критическая крутизна получаете.я при токе, мень­
шем критического.
Тот факт, что главная рабочая часть МДП-транзистора канал - граничит непосредственно с инородной средой - диэ­
лектриком, оказывает значительное влияние на стабильность
параметров. Главное про.явление нестабильности состоит в из­
менениях порогового напряжения. Эти изменения обусловлены
в первую очередь изменениями равновесного поверхностного
заряда Q08 [см. (4.За)].
При протекании тока неизбежно происходит обмен электро­
нами между каналом и ловушками, имеющимися в диэлектри­
ческой пленке. Важным следствием такого обмена являются
флуктуации тока - одна из главных составляющих собствен­
ных шумов транзистора. Эта составляющая относится к катего­
рии избыточных шумов, т.е. шумов не неизбежных, обуслов­
ленных не дискретной структурой потока носителей, а •при­
входящими• обстоятельствами, в данном случае - наличием
близлежащего диэлектрика. Повышенный уровень собствен­
ных шумов - один из недостатков МДП-транзисторов.
Переходные и частотные характеристики. Малосигналъная
эквивалентная схема МДП-транзистора показана в общем виде
Fa рис. 4.10, а. Поскольку подразумевается работа транзистора
на пологих участках ВАХ, в качестве сопротивления канала
использована величина rc. Элементами, отражающими усили­
тельную способность транзистора, являются источники тока
S3 U3 и и S11Uпи · Сопротивления R311 и Rзс - это сопротивления
диэлектрика затвора: ими обычно пренебрегают, так как они


Глава 4. Уииполярm.tе транзисторы

114

имеют значения 1013 - 10 14 Ом и более. Сопротивления Rп11 и R0c
- это обратные сопротивления р-п-переходов истока и стока;
их значения составляют 1010-1011 Ом. Емкости С,ш и Спс - это
барьерные емкости тех же переходов; их значения зависят
прежде всего от площадей истока и стока. Если, например, раз­
меры обоих этих электродов составляют 2Ох40 мкм2, то при
удельной емкости 150 пФ/мм2 получаем Спи = С0с = 0,12 пФ.
Наконец, емкости С311 и Сзс - это емкости металлического элек­
трода затвора относительно слоев истока и стока.
3

3

СЭС

с
1

1
'�,•

�

спс !...1 1

sиз"

и
а)

Rпс

1

и

6)

Рис. 4.10. Малосигнальные :эквивалентные схемы МДП-транзистора:
а - полная; 6 - упрощенная при И,. = О

В том наиболее распространенном случае, когда исток соеди­
нен с подложкой, источник тока SпИпи отсутствует, а сопротив­
ление Rпи и емкость Спи оказываются закороченными. Если,
кроме того, пренебречь сопротивлениями диэлектрика Rзп и
Rзс ' получаем для данного случая эквивалентную схему, пока­
занную на рис. 4.10, б (индекс <'3� у крутизны для простоты
опущен). Эта схема служит основой большинства практических
расчетов.
Происхождение емкостей С311 и Сзс
с•• Затвор с,.
,
показано на рис. 4.11. Они обусловле­
ны так называемым перекрытием об­
Сток
Исток
п�j
ластей
истока и стока затвором (ко­
,_
ротко
перекрытием затвора). Име­
р
Области
и
ется
в
виду,
что по технологическим
перекрыт я
причинам часто не удается располо­
Рис. 4.11. Перекрытие затво- жить электрод затвора точно между
ра; емкости перекрытия
слоями п+, как показано на идеализированной структуре (рис. 4.2). Тогда
между краями затвора и этими слоями образуются паразитные

lп•I


4.2. МДП-траизисторы

115

емкости Сзи и Сзс· Обычно эти емкости в несколько раз меньше ба­
рьерных, но их роль (особенно емкости С3с ) весьма существенна.
Емкость между затвором и каналом (С3 ) на рис. 4.10 не по­
так как вносимая ею инерционность отражена комп­
зана,
ка
характером крутизны (см. ниже).
ксным
ле
Инерционность МДП-транзисторов по отношению к быст­
рым изменениям управляющего напряжения Изн обусловлена
двумя факторами: перезарядом емкости затвора С 3 и перезаря­
дом межэлектродных емкостей.
Первый фактор можно пояснить следующим образом. Ска­
чок напряжения Изи вызывает изменение поля в диэлектрике
вблизи истока. До тех пор, пока это изменение не распростра­
нится до стока, ток Ic остается неизменным. Время распростра­
нения определяется скоростью заряда емкости С3 через сопро­
тивление канала.
Второй фактор связан с тем, что если даже ток Ic возрастает
скачком, то напряжение Ис , а значит, и ток во внешней цепи,
будут нарастать плавно - по мере перезаряда межэлектродных
емкостей. Скорость этого перезаряда зависит от внешних сопро­
тивлений, т.е. не определяется свойствю.�и собственно транзи­
стора. Однако при прочих равных условиях она тем больше, чем
меньше межэлектродные емкости. В этом смысле значения ем­
костей транзистора являются показателем его быстродействия.
Из сказанного ясно, что относительная роль обоих инерци­
онных факторов в принципе неоднозначна и во многом зависит
от схемы. Вместе с тем ясно, что первый фактор (время заряда
емкости С3 ) является лимитирующим: он определяет предель­
ное быстродействие МДП-транзистора в режиме короткого за­
мыкания цепи стока (когда влияние межэлектродных емкостей
отсутствует).
Цепь затвора, строго говоря, представляет собой систему с
распределенными параметрами. В инженерной практике целе­
сообразно аппроксимировать ее простой RС-цепью в виде емко­
ст и затвора С 3 и сопротивления канала R0 •
Сопротивление канала выражается формулой (4.1 7), а ем­
кость затвора легко записать, зная площадь затвора (ZL) и его
Удельную емкость (4.1):
(4.24)


116

Глава 4. УииJJоляриые транзисторы

Заряд и разряд RС-цепи описываются простейшей экспонен­
циальной функцией. Такой же функцией будет описываться
крутизна транзистора, поскольку она характеризует изменения
тока Ic при заданном скачке напряжения И3н. Следовательно, в
операторной форме крутизну можно записать следующим обра­
зом:

s

S(s) =--,
1 + STs

(4.25)

где ts :::C3 R0 - постоянная времени крутизны. В комплекс­
ной форме крутизна будет иметь вид

S=

s

1 + jro/ros '

(4.26)

где ro 8 = 1/тs - граничная частота крутизны. Модуль и фаза
выражения (4.26) будут соответственно а.."1плитудно-частотной
и фазо-частотной характеристиками крутизны.
Постоянную времени t s легко получить, умножая емкость
затвора (4.24) на сопротивление канала (4.17). С учетом (4.7)
получаем:
L2
ts =-----.

µ(И зи -Ио)

(4.27)

Например, если L = 10 мкм,µ= 500 см 2 /В ·с и U311 -И0 =4
В, то т 8 = 0,5 нс. Тогда fs =(1/2л)rо 8 ,.,,300 МГц.
Из выражения (4.27) очевидна предпочтительность п-канала
перед р-каналом (большая подвижностьµ), а также определяю­
щая роль длины канала. У современных МДП-транзисторов
удается делать длину канала менее 1 мкм. При этом т s < 0,01 нс
и fs > 15 ГГц. Такие значения параметров часто позволяют
пренебречь инерционностью крутизны и считать, что инерци­
онность МДП-транзистора обусловлена только межэлект­
родными и паразитными емкостями.

4.3. Полевые транзисторы
Идеализированная структура современного полевого транзи­
стора показана на рис. 4.12. Здесь металлический контакт вме­
сте со слоем р + играет роль затвора, но затвор отделен от полу­
проводника п-типа не диэлектриком, как в случае МДП-тран-


4.3. Полевые тра изисторь1

117

зисторов, а обедненным слоем
р-п-перехода. На переход за­
дается обратное напряжение.
Вообще говоря, р +-слой не
обязателен: обедненный слой
может иметь место и при не­
посредственном контакте ме­
талла с полупроводником.
Рис. 4.12. Структура полевого
Транзисторы с такой струк­
транзис тора
турой называют по.левыми
транзисторами с барьером Шоттки. Основные свойства обеих разновидностей одинаковы, поэтому ниже рассматривают­
ся только транзисторы с р-п-переходом, анализ которых более
нагляден.
Ниже будет показано, что для нормальной работы полевого
транзистора толщина рабочего слоя под затвором (величина а
на рис. 4.12) должна составлять не более нескольких микрон.
Кристаллы полупроводника такой толщины оказьшаются не­
пригодными из-за механической хрупкости. Поэтому структу­
ру на рис. 4.12 следует понимать как тонкий рабочий п-слой,
расположенный на более толстой 4Несущей\) пластине, которая
на рисунке не показана.
Принцип действия. На р-п-переход затвора задается обрат­
ное напряжение и глубина обедненного слоя меняется. Чем бо­
льше обратное напряжение, тем глубже обедненный слой и тем
соответственно меньше толщина канала w. Таким образом, ме­
няя обратное напряжение на затворе, можно менять попереч­
ное сечение, а значит, и сопротивление канала. При наличии
напряжения на стоке будет меняться ток канала, т.е. выходной
ток транзистора.
Усиление мощности обеспечивается малой величиной вход­
ного тока. У полевых транзисторов входным током является
обратный ток р-п-перехода затвора. Для кремниевых р-п-пере­
ходов небольшой площади обратньrй ток составляет до 10-11 А
и менее.
Определим зависимость толщины и сопротивления канала
от управляющего напряжения на затворе при нулевом напря­
жении на стоке. Толщину канала согласно рис. 4.12 можно за­
писать следующим образом:
w = а -l,


Глава 4. Уяиполяр.нъrе траизисторь1

118

где а - расстояние от •дна• п-слоя до металлургической гра­
ницы перехода. Пренебрегая равновесной высотой потенциаль­
ного барьера, получаем зависимость толщины канала от напря­
жения на затворе:

w=a-

(4.28)

Под Изи здесь и ниже понимается модуль напряжения на за­
творе.
Из условия w = О легко найти напряжение отсечки, при ко­
тором обедненный слой перекрывает весь канал и ток в канале
прекращается:
(4.29)
Например, если N = 5 • 10 15 см- 3 и а = 2 мкм, то И30 = 12,5 В.
С учетом высоты равновесного барьера напряжение отсечки бу­
дет несколько меньше.
Как видим, толщина рабочего слоя и концентрация приме­
си в нем должны быть достаточно малы. В противном случае
напряжение отсечки будет настолько большим, что полное
управление током (начиная с нулевого значения) окажется
практически невозможным.
Используя величину И30, толщину канала можно записать в
следующей форме:
(4.30)
Такая толщина сохраняется по всей длине канала. Сопро­
тивление канала в этом случае равно
И
R o = pL (1- ✓ з,1
aZ
И30

)-1,

(4.31)

где Z - ширина канала (см. рис. 4.12); р - удельное сопротив­
ление п-слоя. При р = 1 Ом· см, а = 2 мкм и Изи= О получается
минимальное значение Rомии = 0,5 кОм. При U3и/U30 = 0,5 со­
противление R0 возрастает до 1,8 кОм.


119

.ftta, Полев:ь1е транзисторы

�1 J

Статические характеристики. Если подано напряжение Иси '
то через канал протекает ток и повериг,:-,,..,......,-.,,...'""""",,...,........,..'<'"'<'"""с
л
a
�VГL'�:�--:,:-:-_:_::(}
з::::�:
:::�::; c:n::: ;:: ::э.:У�::
тенциальной. Соответственно напря- _ _
_
жение
на р-n-переходе
будет
:r
меняться вдоль оси х, возрастая вблиа)

_

;:Е?н
�n:::::: :::::::::; •] �
(рис. 4.13, а).
15)

:r

потенциалов
Когда
разность
рав­
сделается
И
(где
U
си
зи
О)
<
311
И
ной напряжению отсечки U30 , толщи­
на канала вблизи стока станет рав­
х
в)
ной нулю, т.е. образуете.я «горлови­
Рис.
4.13.
Сечение
канала
на� канала (рис. 4.13, 6). В отличие
от случая Иси == И30 это не приводит к полевого транзистора в нена­
сыщенном режиме (а),
отсечке тока, так как само образова- на границе насыщения (6)
ние �горловины,> есть следствие уве- и в режиме насыщения (в)
личени.я тока. Вместо отсечки тока
происходит отсечка его приращений, т.е. насыщение тока.
Образование .горловины» канала знакомо по МДП-транзи­
сторам. В дальнейшем, когда Иси - U311 > U30 , •горловина� пе­
ремещаете.я к истоку, а длина канала несколько уменьшается
(рис. 4.13, в). Эти явления также свойственны МДП-транзисто­
рам.
Из приведенного описания следует, что напряжение насы­
щения для полевых транзисторов выражается следующим об­
разом:
(4.32)
Семейство стоковых БАХ (рис. 4.14, а) имеет сходство с ана­
логичным семейством для МДП-транзисторов (рис. 4. 7, а). Од­
нако с ростом напряжения на затворе (по модулю) ток стока в
данном случае не возрастает, а уменьшается. Можно сказать,
что полевому транзистору свойствен режим обеднения, подобно
МДП-транзистору со встроенным каналом.
Семейство стоко-затворных БАХ (рис. 4.14, 6) отличается от
аналогичного семейства МДП-транзисторов (рис. 4. 7, 6) прежде


Глава 4. Увиполяриые транзисторы

120

10 ,мА

U,0 =-6,4B

10
6

2

о

U3 0

Н

н

-lB

{f!

- 2В

4

10

=

U0 � 6,4В
5

-4В
8

12 U0, В

и,.в

-8

-6

-4

-2

о

6)

а)

Рис. 4.14. Статические характеристики полевого транзистора:
а - выходные; 6 - передаточные

всего тем, что ток протекает при нулевом напряжении на затво­
ре. Условно можно сказать, что напряжение отсечки у полевого
транзистора эквивалентно отрицательному пороговому напря­
жению у МДП-транзистора.
Важная особенность ВАХ на рис. 4.14, б состоит также в
том, что напряжение на затворе может иметь только одну по­
лярность, в данном случае - отрицательную. В противном слу­
чае напряжение на р-п-переходе будет прямым, начнется ин­
жекция неосновных носителей и транзистор перестанет быть
униполярным прибором. Заметим, что у МДП-транзисторов со
встроенным каналом (рис. 4.3), которые во многом аналогичны
полевым транзисторам, ограничение на полярность управляющего напряжения не имеет места, так как затвор отделен от ка­
нала диэлектриком.
Аналитические выражения для ВАХ полевого транзистора:
на крутом участке
-[иси
1,: =-1
Rомиu

(4.33)

на пологом участке
1,: = R � [½Изо
o uu

1
-Изи(

-¾ ��:: )] •

где Rомин - сопротивление .канала при

Изи

(4.34)

= О [см. (4.31)]


121

�. Полевые транзисторы

Выражение (4.34) хорошо аппроксимируется квадратичной
зависимостью, аналогичной зависимости (4.8) для МДП-тран­
зисторов:
(4.35)
Здесь коэффициент Ь, аналогичный удельной крутизне
МДП-транзистора, имеет вид:
Ь =4EoEµZ/(3aL).

(4.36)

Например, приµ= 1500 см2/В • с, Z/L = 10 и а = 2 мкм полу­
чаем Ь = 0,12 мА/В 2 • Заметим, что в этом примере мы исполь­
зовали значение подвижности, свойственное объему полупро­
водника, так как у полевых транзисторов канал не граничит с
поверхностью.
Полевым транзисторам, как и МДП-транзисторам, свойст­
венно понятие критического тока, при котором зависимость
тока от температуры в принципе отсутствует.
У полевых транзисторов наличие критического тока обу­
словлено противоположным влиянием функций Ь(Т) и U30(T).
Функция Ь(Т) связана с температурной зависимостью подвиж­
ности, как и у МДП-транзисторов. Что касается функции
U3o(T), то из (4.29) она не вытекает. Однако, если при выводе
выражения (4.29) использовать более точную зависимость, то в
него войдет равновесная высота барьера в р-п-переходе; по­
следняя зависит от температуры. Именно с учетом этой зависи­
мости и получается величина критического тока.
Из условия dlcfdT = О можно найти напряжение на затворе,
соответствующее критическому току:
(4.37)
[ер. с (4.23)]. Обычно значения критического тока лежат в об­
ласти микрорежима_
Малосигнальные параметры и эквивалентная схема. Если
воспользоваться аппроксимацией ( 4.35), то на пологом участке
крутизна будет равна
S = Ь(_Изо

-

И з11 ),

а зависимость крутизны от тока выражается формулой

(4.38)


122

Глава 4. Упвполярu1е травз11сторы

Дифференциальное сопротивление стока r0 обусловлено той
же причиной (модуляцией длины канала) и имеет те же значе­
ния, что и у МДП-транзисторов [см. (4.20)].
Малосигнальна.я эквивалентная схема полевого транзистора
показана на рис. 4.15. Элементы этой схемы в сущности те же,
что и у МДП-транзистора (см. рис.
с
,--с:.:,-4.10): rc - дифференциальное со­
'
'
Rзс
1
I
противление канала на пологом
участке БАХ; SUзи - источник
с.с
3
тока, отражающий усилительные
sи,и
свойства транзистора; Rзи и Rзс обратные сопротивления р-п-пере­
хода; Сзн и С3с - барьерные емкости боковых частей р-п-перехода
и
(рис. 4.12).
Рве. 4.15. Малосигнальная
изменений
Инерционность
эквивалентная схема полевого
тока, как и у МДП-транзисторов,
транзистора
характеризуете.я постоянной времени крутизны тs. Этот параметр
также представляет собой произведение сопротивления канала
на емкость затвор-канал. Поскольку сечения канала и обеднен­
ного ело.я разнь1е на разных участках (см. рис. 4.13), восполь­
зуемся средними значениями w и l. А именно, примем
wcp =l cp =½а.Тогда средняя емкость и среднее сопротивление
канала запишутся следующим образом:

(4.39а)
(4.396)
Соответственно средняя постоянная времени крутизны будет
иметь вид:

(4.40)
Эту величину можно привести к такой же форме (4.27), как
у МДП-транзисторов. Для этого подставим в (4.40) значение а2
из (4.29) и учтем соотношение qN µ = cr = 1/р; тогда
2

ts = 2L /(µU30 ).

(4.41)


123

4,3. Полевые транзисторы

Таким образом, в принципе переходные и частотные харак­
теристики полевых и МДП-транзисторов моzут быть одина·
ковыми. Однако практически длину канала у полевых транзи­
сторов не удается сделать такой же малой, как у современных
МДП-транзисторов. Поэтому в настоящее время быстродейст­
вие полевых транзисторов значительно ниже.
Естественно, что полевые транзисторы уступают МДП-тран­
зисторам и по величине входного сопротивления: оно определя­
ется обратным током р-п-перехода и обычно не превышает 10 11
Ом. С ростом температуры это сопротивление быстро уменьша­
ется и на границе рабочего диапазона (+125 °С) может дойти до
107 Ом и менее.
Важными достоинствами полевых транзисторов являют
ся высокая стабильность характеристик во времени и малый
уровень собственных шумов. Причина этих достоинств в том,
что канал отделен от поверхности обедненным слоем, играю­
щим роль диэлектрика. В результате на границе канала с та­
ким «диэлектриком!) отсутствуют дефекты кристаллической
решетки, поверхностные каналы и загрязнения - все то, ч:то у
МДП-транзисторов является причиной нестабильности и шумо­
вых флуктуаций. По той же причине не происходит уменьше­
ния подвижности, свойственного МДП-транзисторам.
Единственный неизбежный тип шумов у полевого транзи­
стора - это тепловой шум, который свойственен каналу, как и
любому резистору. Тепловой шум оценивают по формуле Най­
квиста:
2

Итш =4hTRЛf,
где Лf - полоса частот Подставляя значения Rомиu = 0,5 кОм и
2
Лf = 1 Гц, получаем И тш
""' 3 нВ.
В приведенном анализе рассматри:валась только активная об­
ласть полевого транзистора - его канал. Влияние пассивных об­
ластей (слоев истока и стока, рис. 4.12) сводится к дополнению
эквивалентной схемы резисторами Rи и Rc , включенными после­
довательно с истоком и стоком. Сопротивления этих резисторов
обычно составляют не более 10-20 Ом, так что их :влияние (по
сравнению с сопротивлением канала) мало существенно.


124

Глава 4. Уяиполярвые травз11сторы

Контрольные вопросы
1. Чем отличаются МДП-транзисторы со встроенным и инду­
цированным каналом?
2. Как связана удельная емкость затвора с толщиной подзат­
ворного диэлектрика?
3. Что такое пороговое напряжение МДП-транзистора?
4. Как влияют заряды в окисле и на поверхностных состояни­
ях на пороговое напряжение?
5. Чему равен поверхностный потенциал при пороговом напря­
жении?
6. Чему равно напряжение спрямления зон?
7. Чему равна разность потенциалов затвор-исток на границе
насыщения?
8. С чем связан наклон ВАХ в области насыщения?
9. В каком режиме МДП-транзистор может использоваться в
качестве омического сопротивления?
10. Дайте определение крутизны МДП-транзистора.
11. Как зависит внутреннее сопротивление МДП-транзистора в
пологой области от тока стока?
12. Как соотносятся крутизны по затвору и подложке?
13. Чему соответствует критический ток МДП-транзистора?
14. В чем состоит причина нестабильности параметров
МДП-транзистора?
15. Как связана постоянная времени крутизны с длиной канала
МДП-транзистора?
16. Дайте определение напряжения отсечки полевого транзи­
стора.
17. Как соотносятся входные сопротивления МДП- и полевого
транзистора?
18. Как изменяется длина канала полевого транзистора в пологой области при увеличении напряжения на стоке?
19. Сравните быстродействие МДП- и полевых транзисторов.
20. Сравните уровень шумов МДП- и полевых транзисторов.
21. Каков порядок величины сопротивлений пассивных облас­
тей полевого транзистора?


- rnaвa 5
Физические принципы работы
биполярного транзистора и тиристора

5.1. Введение
Биполярный транзистор, наряду с МДП-транзистором, явля­
ется одним из основных твердотельных приборов, используе­
мых в микроэлектронике.
В основе работы биполярных транзисторов лежит инжекция
неосновных носителей. Поэтому неотъемлемой составной ча­
стью биполярных транзисторов являются р-п-переходы. Тер­
мин «биполярный� призван подчеркнуть роль обоих типов но­
сителей заряда (электронов и дырок) в работе этого класса
транзисторов: инжекция неосновных носителей сопровождает­
ся компенсацией их заряда основными носителями.
Предметом данной главы являются изучение физических
процессов в биполярном транзисторе, а также анализ его основ­
ных характеристик и параметров. В конце главы рассмотрены
физические основы работы тиристора, представляющего собой
соединение не двух, а трех р-п -переходов. Этот прибор часто
встречается в микроэлектронных структурах как •паразитный»
элемент, способный приводить к сбоям в работе микросхем.

5.2. Принцип действия
Биполярный транзистор представляет собой совокупность
двух встречно включенных взаимодействующих р-п-перехо­
дов. Взаимодействие переходов обеспечивается тем, что они
расположены достаточно близко друг от друга - на расстоя­
нии, меньшем диффузионной длины носителей.
Стр уктура транзистора. У реальных транзисторов пло щади
обоих р-п-переходов существенно различаются. Это различие
проиллюстрировано на рис. 5.1, а: переход п 1 -р имеет гораздо
меньшую площ адь, чем п 2 -р. Кроме того, у больш инства тран­
зисторов один из крайних слоев (а именно, слой с меньшей пло­
щадью - п 1 ) легирован гораздо сильнее, чем втuрой (п2). Та­
ким образом, транзистор .является асимметричным прибором.


126

Глава 5. Физические прииципы работьr траизистора II тиристора

r
� : ,в
а)

w
п

п

-+

�
rкк

и.

r

Б

б

и"

Q

6)

Рис. 5.1. Структура биполярного транзистора:

а - реащ,ная; б - идеализироваииак (без пассивных областей)

Асимметрия транзистора отражается в названиях крайних
слоев: сильно легированный слой с меньшей площадью (п 1 ) на­
зывают эмиттером, а слой с большей площадью (п2) - коллек­
тором. Соответственно различают эмиттерный и коллекторный
переходы (п 1 -р и п2-р). Смысл этих названий поясняется
ниже. Средний слой транзистора называют базой.
Каждый из р-п-переходов транзистора имеет донную и боко­
вые части.
Рабочей или, как говорят, активной областью транзистора
.является область, расположенная под донной частью эмиттер­
ного перехода (на рис. 5.1, а эта область не заштрихована).
Остальные (заштрихованные) участки структуры являются
пассивными, т.е. в известной мере паразитными. Пассивные
участки можно в первом приближении моделировать резисто­
рами, подключенными к рабочим слоям базы и коллектора.
На рис. 5.1, б активная область транзистора показана в го­
ризонтальном положении. Здесь же показаны места подключе­
ния резисторов r6 и rкк • характеризующих пассивные участки.
Эмиттерному - высоколегированному - слою присвоен верх­
ний индекс «+t. Структура, показанная на рис. 5.1, б, служит
основой при анализе транзисторов.
Взаимодействие между эмиттерным и коллекторным пере­
ходами обеспечивается малой шириной базы w. У современных
транзисторов она обычно не превышает 1 мкм, тогда как диф­
фузионная длина L лежит в пределах 5-10 мкм.
Основнь1е свойства транзистора определяются процессами в
базе. Если база однородная, то движение носителей в ней чисто
диффузионное. Если же база неоднородная, то в ней, как изве­
стно, есть внутреннее электрическое поле, и тогда движение
носителей будет комбинированным: диффузия сочетается с


127

5.2. Принцип действия

дрейфом. Транзисторы с однородной базой называют бездрейфо­
выми (или диффузионными), а с неоднородной - дрейфовыми.
Последние имеют в настоящее время наибольшее распростране­
ние в интегральных схемах.
Транзистор, показанный на рис. 5.1, характерен тем, что его
крайние слои (эмиттер и коллектор) имеют проводимость п-ти­
па, а средний слой (база) - проводимость р-типа. Транзисторы
с такой структурой называют п-р-n-транзисторами. В микро­
электронике они играют главную роль и будут основой после­
дующего анализа. Однако используются и транзисторы, у кото­
рых эмиттер и коллектор имеют проводимость р-типа, а база проводимость п-типа. Транзисторы с такой структурой называ­
ют р-п-р-транзисторами. По принципу действия они ничем не
отличаются от п-р-п-транзисторов, однако им свойственны
другие полярности рабочих напряжений (см. ниже), а также
ряд количественных особенностей.
Способы включения. 3онная диаграмма п-р-п-транзистора
с однородной базой в равновесном состоянии показана на
рис. 5.2. При равновесии уровень Ферми постоянен по всей
структуре. Электростатический потенциал (и связанный с ним
уровень Ei) изменяется таким образом, чтобы скомпенсировать
диффузионное движение носителей, концентрация которых
различна в п и р областях. При нормальном включении транзи­
стора на эмиттерном переходе действует прямое смещение, а на
коллекторном - обратное. При этом потенциальный барьер
эмиттерного перехода уменьшается, а коллекторного - увели­
чивается (рис. 5.3). Электроны инжектируются из эмиттера в
базу, проходят ее почти без рекомбинации (поскольку ширина
базы мала) и беспрепятственно попадают в коллектор, находя­
щийся под положительным потенциалом (см. зонную диаграмр-база
эм:иттер

n­

п­
коллектор

Е" __....,

----- Е"

'11'i!c. 5.2. Зонная диаграмма п-р-п-транзистора в равновесном: состоянии


128

Глава 5. Физяческие принципы работы траязястора я тиристора

w
�
..
р
,.
п
п
(}
®
@
® и:
}
и,
'----'=--о-'"--'-'----'

му транзистора на рис. 5.3). Таким
образом, при нормальном включении
коллектор собирает поступившие в
базу неосновные носители, откуда его название.
Ясно, что при указанной полярно­
сти напрJ1жения коллектор способен
собирать только электроны. Поэтому
важно, чтобы ток эмиттера содержал в
основном электронную составляющую. Именно поэтому эмиттер леги­
руют значительно сильнее, чем базу.
Легирование коллекторной области
Рис. 5.3. Зонная диаграмма связано с получением необходимого
транзистора при нормальном пробойного напрJ1жениJ1 обратносме­
включении
щенного коллекторного перехода. Как
правило, коллектор легирован значительно слабее эмиттера.
В нормальном включении токи коллектора и эмиттера почти
одинаковы с точностью до небольшого тока базы. Последний
компенсирует убыль основных носителей (дырок) в базе из-за
рекомбинации (которая имеет место даже при очень малой тол­
щине базы), а также в результате инжекции дырок из базы в
эмиттер.
Сопротивление обратносмещенного коллекторного перехода
очень велико - несколько мегом и более. Поэтому в цепь кол­
лектора можно включать весьма большие сопротивления на­
грузки, не изменяя величину коллекторного тока. Соответст­
венно в цепи нагрузки может выделятьсJ1 значительнаJ1 мощ­
ность. Сопротивление прямосмещенного эмиттерного перехода,
напротив, весьма мало (например, при токе lмА оно составлJ1ет
всего 25 Ом). Поэтому при почти одинаковых токах мощность,
потребляемая в цепи эмиттера, оказьrвается несравненно мень­
ше, чем мощность, выделяемая в цепи нагрузки. Следователь­
но, транзистор способен усиливать мощность, т.е. является
усилительным прибором.
Несмотря на асимметрию транзистора, эмиттер и коллектор
в принципе можно поменять ролями: задать на коллекторный
переход прямое напряжение, а на эмиттерный - обратное. Та­
кой режим работы называют икверскым включ.ением. Передача
тока при инверсном включении значительно хуже, чем при


5.2. Пряицип действия

129

нормальном. Причины этого следующие. Во-первых, в связи со
слабым легированием коллектора, мала электронная составля­
ющая коллекторного тока. Во-вторых, площадь реального кол­
лектора значительно больше площади эмиттера (рис. 5.1, а),
поэтому на эмиттер попадает лишь небольшая: часть электро­
нов, инжектированных коллектором.
Особое место в работе транзистора занимает режим двойной
инжекции или, менее точно, режим насыщения. Режим двой­
ной инжекции характерен тем, что на обоих переходах - эмит­
терном и коллектором - действуют прямые напряжения. При
этом и эмиттер, и коллектор инжектируют носители в базу на­
встречу друг другу и одновременно каждый из них собирает но­
сители, дошедшие от другого.
До сих пор мы задавали напряжение на эмиттере и коллек­
торе относительно базы (рис. 5.1, б). Такое включение транзи­
стора называют включением с общей базой (или схемой с общей
базой) и обозначают ОБ. Напомним, что задавать прямое на­
пряжение на р-п-переходе практически невозможно; как пра­
вило, задается прямой ток. Значит, для включения ОБ харак­

терна заданная велич,ина тока эмиттера_

Схема ОБ позволяет хорошо раскрыть физику транзистора;
есть у нее и некоторые другие положительные особенности. Но
тот факт, что она не обеспечивает усиления тока и обладает ма­
лым входным сопротивлением (равным сопротивлению эмит­
терного перехода), делает ее не оптимальной для большинства
применений. Поэтому главную роль в транзисторной технике
играет другое включение - с общим эмиттером, которое обо­
значают ОЭ. Для включепия ОЭ характерпа задапная величи­
па тока базы. Оба включения показаны на рис. 5.4, а, б с использованием
схемотехнических
символов,
присвоенных
п-р-п-транзистору.

а)

б)

в)

z)

Рис. 5.4. Включение п-р-п-транзистора с общей базой (а)
и с общим эмиттером (б) и включение р-п-р-транзистора с общей базой (в)
и с общим эмиттером (z).
5-3423


130

Глава 5. Физические приицяпы работы транзистора и тиристора

На рис. 5.4, в, г показаны аналогичны е включения
р-п-р-транзисторов. Как уже отмечалось, этим транзисторам
свойственны обратные полярности рабочих напряжений. Соот­
ветственно обратные направления имеют и рабочие токи .
Использование р-п-р-транзисторов открывает возможность
сочетания п-р-п- и р-п-р-транзисторов в одной и той же схе­
ме. Такое сочетание в ряде случаев обеспечивает упрощение
структуры и оптимизацию параметров соответствующих схем.
Транзисторы п-р-п и р-п-р в таких схемах, а также сами схе­
мы такого типа называют комплементарными (дополняющи­
ми), как и в МДП-микросхемах.

5.3. Распределения носителей
Для того чтобы рассчитывать токи, межэлектродные напря­
жения и избыточные заряды в транзисторе, необходимо знать
распределения избыточных концентраций, т.е. функции Лп(х)
или Лр(х). Эти функции рассматриваются ниже применительно
к главному элементу ИС - транзистору n-р-п-типа.
В одном и тоже слое функции Лп и Лр совпадают в силу
принципа квазинейтральности, поэтому ниже приводятся вы­
ражения только для избыточных концентраций неосновных но­
сителей (электронов).
Случай нормаJiьного вкJiючения бездрейфового транзисто­
ра. В стационарном режиме концентрация носителей, инжек­
тированных в базу, описывается диффузионным уравнением
2
d пр пр - п0
D б -2----=0,
(5.1)
dx
тб
где D6 и т 6 - коэффициент диффузии и время жизни электро­
нов в базе; пр - концентрация электронов; п0 = n 12/N6 - рав­
новесная концентрация электронов; N 6 - концентрация акцеп­
торов в базе.
При записи граничных условий для нормального включения
транзистора примем, что на :коллекторном переходе задано об­
ратное напряжение Ик• а на эмиттерном переходе - прямой
ток /3 , точнее - его электронная составляющая Iэп ·
Концентрация электронов у коллекторного перехода нахо­
дится из граничного условия Шокли
и�

(5.2)


131

5.3. Распределения носителей

Так как коллекторный переход имеет обратное смещение, то
величина np (w) близка к нулю и избыточная концентрация
электронов Лn r; = np (w) -п 0 = -п 0 • Поскольку в базе р-типа рав­
новесная концентрация электронов очень мала, пренебрежем
величиной п0 и запишем первое граничное условие в виде

(5.3)

Электроны, инжектированные в базу, распространяются в
не й под действием диффузии, поэтому для электронной состав­
ляющей можно записать
(5.4)

где S - площадь эмиттерного перехода. Знак минус в правой
части (5.4) отражает тот факт, что у п-р-п-транзисторов пря­
мой, т.е. положительный ток эмиттера означает инжекцию
электронов в базу; при этом градиент их концентрации должен
быть отрицательным.
Из (5.4) легко найти градиент концентрации электронов и
соответственно второе граничное условие:
d(Лп6)/
---

dx

х=О

_
I"n
----.

qD 6 S

(5.5)

Используя граничные условия (5.3) и (5.5), можно найти ре ­
щение диффузионного уравнения в следующем виде:
(5.6)
Поскольку в транзисторах выполняется неравенство w < < L,
полученное выражение можно упростить, воспользовавшись соот­
ношениями, действительными для малых аргументов: sh(z) ""z и
ch(z) "" 1. Тогда

(5.7)
Как видим, без дрейфовым транзисторам с однородной а
б ­
зой свойственно почти линейное ра сп ределение избыточных
носителей (рис. 5.5).


132

Глава 5. Фнзичес1ше принцип�.1 работы транзистора и тиристора

Интегрируя функцию Лп 5 (х) в
пределах от О до w и умножая интег­
рал на площадь S и элементарный
заряд q, получим величину избыточ­
ного заряда в базе:

®

х

(5.8)

Как видим, избыточный заряд
пропорционален току эмиттера, а
при заданном токе уменьшается с
уменьшением толщины базы.
Обратимся теперь к распределению дырок, инжектирован­
ных из базы в эмиттер. Поскольку эмиттерный слой значитель­
но толще базового, ему свойственно неравенство w, >> L3, где
W3 - толщина эмиттерного слоя, L. - диффузионная длина но­
сителей (дырок). При выполнении этого неравенства распреде­
ление избыточных носителей будет таким же, как при
бесконечно длинной базе, т.е. экспоненциальным. Заменяя в
формуле (5.6) электронную составляющую тока на дырочную,
концентрацию Лп 6 на Лр 3 и полагая w ➔ оо, получаем:
Рис. 5.5. Распределение эле1<тронов в базе бездрейфовоrо
п-р-п-транзистора

L,
-x/L•.
Лр3 (х) = I эр ---е
qD 0 S

(5.9)

Расстояние х отсчитывается здесь от границы перехода
вглубь эмиттера (см. штриховую кривую на рис. 5.5). Соотно­
шение граничных концентраций Лп 6 (0) и Лр 3 (О) определяется
граничным условием Шокли.
Интегрируя (5.9) в пределах от х = О дох= оо, умножая резу­
льтат на S и q, получим величину избыточного заряда в эмитте­
ре:
(5.10)

где т э - время жизни неосновных носителей в эмиттерном
слое.
Случай нормального включения дрейфовоrо транзистора.

Концентрация носителей в неоднородной базе описывается
уравнением непрерывности с учетом диффузионного и дрейфо­
вого движения. В общем случае распределение получается гро-


133

5.3. Расп ределения носителей

моздким и ненаглядным. Для тон:кой базы оно существенно
упрощается:
2
w 1 - е - 11 P-(>=/w)]
Лп5 (Х) =l эп -------(5.11)
2ТJ
qD 5 S
где ТJ = 1/2 ln[N6(0)/Niw)]; N6(0) и N6(w) - :концентрации при­
меси на эмиттерной и коллекторной границах базы. Чем боль­
ше разница в концентрациях примеси, тем больше величина ТJ·
Поэтому ее называют коэффициентом неоднородности базы.
На практике типичны значения ТJ = 2-3.
Распределение носителей, описываемое выражением (5.11 ),
показано на рис. 5.6 в относительном масштабе. За единицу
масштаба принята граничная концентрация носителей у без­
дрейфового транзистора, получаемая из (5. 7) при х = О
(индекс D символизирует чисто диф­
фузионное движение). Из рис. 5.6
видно, что с ростом коэффициента
неоднородности распределение но­
сителей в базе дрейфового транзи­
стора все больше отличается от ли­
нейного. При одинаковых значени­
ях эмиттерного тока избыточнь1е
концентрации у дрейфовых транзи­
сторов значительно меньше, чем у
бездрейфовых.
Интегрируя функцию (5.11) и
умножая на S и q, получаем величи­
ну избыточного заряда в базе:

®

о

0,4

®

0,8

,:/w

Ряс. 5.6. Распределение элект­
ронов в базе дрейфового тран­
зистора

(5.12а)
Сложная функция, стоящая в круглых скобках, хорошо ап­
проксимируется простой функцией (ТJ + 1)- 1• Поэтому запишем
избыточный заряд в виде
(5.126)


134

Глава 5. Физические принципы работы транзистора и тиристора

®

®

®

®

'

.... ....

В' Лрк

х

w

4.

о
x/w

0,8

0,4.

О

Рис. 5.8. Распределение электронов
в базе дрейфового транзистора
при инверсном включении

Рис. 5.7. Распределение электронов
в базе бездрейфовоrо транзистора
при инверсном включении

Распределение дырок, инжектированных из базы в эмиттер,
показано на рис. 5.6 штриховой линией. Это распределение и
соответствующий избыточный заряд можно оценить по форму­
лам (5.9) и (5.10).
Случаи инверсного включения и режима двойной инжек­
ции. При инверсном включении бездрейфового транзистора
распределения носителей и в базе, и в коллекторе получаются
практически такими же, как при нормальном включении (ер.
рис. 5. 7 и 5.5).
У дрейфовых транзисторов инверсное включение характерно
качественно иным распределением носителей в базе. Это связа­
но с тем, что поле в базе является для электронов, инжектируе­
мых коллектором, не ускоряющим, а тормозящим. Изменяя
знак коэффициента ТJ в выражении (5.11), получаем следующее
распределение избыточных носителей в базе:
W

2
е '1 [1-(x/w)J -

1

Лп6(х) == Iкп -- ------

qD6 S

2ТJ

(5.13)

где I кп - электронная составляющая коллекторного тока, а
координата х отсчитывается от коллектора к эмитттеру. Соот­
ветствующие кривые распределения показаны на рис. 5.8.
Сравнивая с рис. 5.6, видим, что при инверсном включении из­
быточные концентрации у дрейфового транзистора значительно
больше, чем у бездрейфового. Соответственно больше оказыва-


й
5.3. Распредел ения носите ле

135

юте.я и избыточные заряды. Изменяя знак коэффициента ТJ в
(5.12а), получаем величину избыточного заряда в базе:
2

ЛQ б =1 кп � е

2D б

21')

- 2Т] - 1
2
2Т]

Для избыточных концентраций и зарядов в коллекторе дей­
ствительны выражения (5.9) и (5.10), если заменить индексы
«э» на �к•. Поскольку у дрейфовых транзисторов коллектор­
ный переход почти симметричный, граничные концентрации
электронов и дырок почти одинаковы (см. штриховую линию
на рис. 5.8). Соответственно сравнимыми будут электронная и
дырочная составляющие коллекторного тока, а также избыточ­
ные заряды в коллекторе и базе.

®

®

®

®
\

-о

-

Лрк

Лр•

w
а)

-о

Лр,
х

6)

w

'

,лрк

х

Рис. 5.9. Распределение электронов в базе в режиме двойной инжекции
(штриховые линии - составляющие нормального и инверсного включений):
а - у бездрейфового транзистора, 6 - у дрейфового транзистора

В режиме двойной инжекции, когда оба перехода - эмиттер­
ный и коллекторный - работают в прямом направлении, рас­
пределение избыточных носителей в базе можно оценить при­
ближенно, суммируя распределения при нормальном и инверс­
ном включениях (рис. 5.9). При этом у бездрейфовых
транзисторов (рис. 5.9, а) распределение приобретает трапецеи­
дальную форму, а избыточный заряд оказывается знюштельно
больше, чем при нормальном включении. Что касается дрейфо­
вых транзисторов (рис. 5.9, 6), то у них результирующее распре­
деление и результирующий избыточный заряд близки к величи­
нам, свойственным инверсному включению.


136

Глава 5. Физические принципы работы транзистора и тиристора

Суммарный избыточный заряд, накапливающийся во всех
трех слоях транзистора, можно выразить через ток базы. Дей­
ствительно
[б

= I бр

+ lзр + Igp,

где I6P - ток рекомбинации дырок в базе, [3Р и [кр - дырочные
составляющие токов эмиттера и коллектора. Очевидно, что

Поэтому
I б = ЛQ б + ЛQ 3 + ЛQ к
Тб

Тз

.

Тк

Если дл.я простоты положить времена жизни во всех трех
слоях транзистора одинаковыми и равными т, то суммарный
заряд будет связан с током базы элементарным соотношением:
(5.14)
При неодинаковых временах жизни пропорциональность
между суммарным зарядом и током базы сохраняете.я, но выра­
жение будет более громоздким. В тех случаях, когда зарядами
L\Q 3 и ЛQ" можно пренебречь, выражение (5.14) используется
для оценки избыточного заряда в базе.
До сих пор мы подразумевали идеализированную структуру
транзистора. В реальной структуре площадь коллекторного пе­
рехода значительно больше площади эмиттерного. Поэтому при
инверсном включении коллектор инжектирует электроны не
только в активную, но и в пассивную область базы. Суммарный
заряд, накапливающийся в обеих областях, разумеется, боль­
ше, чем при нормальном включении.
Поскольку пассивная область базы значительно толще ак­
тивной, а граничные концентрации избыточных электронов
одинаковы, распределение носителей в пассивной области ока­
зь1вается более пологим. Различие в распределениях создает на
границе активной и пассивной областей базы градиент концен­
трации электронов. В результате часть электронов, инжектиро­
ванных в пассивную область с площади S2 (рис. 5.10), отклоня-


5.4. Коэффицвевты усвJ1еиия тока

137

ется от прямолинейной траектории
и попадает не на поверхность, а на
боковые части эмиттера. При этом
задача анализа делается неодно- э-t-1�""""�����'""":'�'!s"s:'t--'­
мерной, т.е. сильно усложняется.
Однако суммарный заряд избыточ­
ных носителей, накапливающийся
в активной и пассивной областях Рис. 5.10. Траектории электро­
базы, по-прежнему определяется нов, инжектированных в базу
при инверсном включении
формулой (5.14).

5.4. Коэффициенты усиления тока
В обычных транзисторных схемах выходной (управляемой)
величиной является либо коллекторный, либо эмиттерный ток,
а входной (управляющей) - либо ток базы, либо ток эмиттера.
Связь между выходными и входными токами характеризуется
коэффициентами усиления.
Общие определения. Связь между коллекторным и эмиттер­
ным токами можно записать в виде 1 :
(5.15)

Здесь а - коэффициепт усиления эмиттерпоzо тока один из основных параметров транзистора. Этот параметр осо­
бенно удобен тогда, когда ток эмиттера можно считать задан­
ной величиной, например, в схеме ОБ. Коэффициент а близок к
единице. У интегральных транзисторов он обычно составляет
0,99-0,995.
Чтобы установить связь между током коллектора и током
базы, подставим в (5.15) значение 13 = lк + 16• Тогда искомое со­
отношение легко приводится к виду:
lк ::::Вlб .

(5.16)

Здесь В - коэффициепт усиления базового тока:
В=а/(1-а).

(5.17)

1 При условии I, = О (при оборванном эмиттере) в цепи коллектора, на ходящего­
ся под обратным на пряжением, протекает обратный ток перехода. Однако об­
р атный ток даже при высоких температурах значительно меньше рабочих то­
ков, и его можно не учитывать.


138

Глава 5. Физические пр1111Ц11пы работы транзистора II тиристора

Этот параметр, широко используемый в транзисторной элек­
тронике, особенно удобен тогда, когда задан ток базы, прежде
всего в схеме ОЭ. Типичные значения коэффициента В лежат в
пределах 100-300. Коэффициент усиления В тем больше, чем
ближе коэффициент а к единице.
Запишем коэффициент а в следующем виде:
Iк

Iэп Iк

Iэ

Iэ

а=-=--.
[эn

Каждый из двух множителей в правой части имеет свой фи­
зический смысл и свое название.
Первый множитель
(5.18)
называется коэффициентом инжекции. Он характеризует долю
полезной - электронной - составляющей в общем токе эмит­
тера 1. Только эта составляющая, как уже отмечалось, способна
дойти до коллектора и составить коллекторный ток.
Второй множитель
(5.19)
называется коэффициентом переноса. Он характеризует долю
инжектированных носителей, избежавших рекомбинации на
пути к коллектору. Только такие носители образуют коллек­
торный ток.
Таким образом, коэффициент усиления эмиттерного тока
можно записать в виде
а =ух .

(5.20)

Учитывая определяющую роль параметра а в работе транзи­
стора, рассмотрим его составляющие.
Коэффициент переноса. Для того чтобы найти коэффициент
х из определения (5.19), нужно предварительно рассчитать ток
Iк . Для бездрейфовых транзисторов это можно сделать, воспо­
льзовавшись распределением (5.6). Определив градиент кон1 Напомним, что мы рассматриваем п-р-п-транзистор У р-п-р-транзистора по­
лезной составляющей будет дырочная


139

5.4. Коэффициевтъ1 ус11ле11ия тока

центрации при х = w и умножив на площадь перехода S, найдем
ток Jк. После этого из (5.19) получаем:

1
w
х = --= sechch(w/L)
L

(5.21)

(знак •минус» опущен, поскольку отрицательному градиенту
концентрации электронов соответствует положительное на­
правление тока Jк). Выражение (5.21) - одно из фундаменталь­
ных в теории транзисторов.
Учитывая соотношение w << L, можно разложить правую
часть (5.21) в ряд с точностью до двух первых членов и полу­
чить более удобное выражение:

1
2
1 + 1/2(w/L)

Х=------ .

(5.22а)

Поскольку второй член знаменателя много меньше едини­
цы, можно воспользоваться еще одним приближением:
2

х = 1 -1/2(w/L) •

(5.226)

Например, если w/L = 0,1-0,2, то х = 0,98-0,995.
Выражения (5.22) ясно показывают, что коэффициен,т пере·

н,оса тем ближе к един,ице, ч,ем больше диффузион,н,ая длина и
ч,ем меньше ширина базы. Однако увеличение диффузионной

длины (т.е. времени жизни) сопровождается, как увидим,
ухудшением частотных свойств транзистора. Поэтому lлавн,ым

паправлением в развитии транзисторов является уменьше­
ние ширины базы.

Для дрейфовых транзисторов коэффициент переноса получа­
ется аналогичным способом и имеет аналогичную структуру:

1

х=
1

1

+ 2(т� + 1 )

или

1
х =1 2 <т� + 1)

(wi)

2

(w)2
L

(5.23а)

(5.236)


140

Глава 5. Физические принципы работы транзистора и тиристора

Отличие от формул (5.22) состоит в дополнительном множи­
теле (ri + 1)-1. Например, если в бездрейфовом транзисторе
:к "° 0,98-0,995, то в дрейфовом транзисторе при той же ширине
базы и Т1 = 3 получится х = 0,995-0,999. С физической точки
зрения увеличение коэффициента переноса у дрейфовых тран­
зисторов объясняется тем, что носители в ускоряющем поле
двигаются быстрее и тем самым уменьшается вероятность их
рекомбинации.
Коэффициент инжекции. Поделим числитель и знаменатель
в правой части (5.18) на ток I•n· Далее подставим токи I•n и /3Р
из выражений (5. 7) и (5.9), положив в них х = О. Отношение
граничных концентраций Лр.(0)/Лп 6(0) заменим отношением
концентраций примесей N6JN. согласно условиям Шокли. Тог­
да коэффициент инжекции для дрейфового транзистора запи­
шется следующим образом:
Dэ w Nб 1-е-2")-1
-[
У- 1 +-----2Т]
D б L. N.

(5.24а)

При Т1 > 1 экспоненциальным членом можно пренебречь.
Для бездрейфовых транзисторов, полагая Т1 = О, получаем:
(5.246)
Как видим, коэффициент инжекции тем ближе к единице,
чем меньше ширина базы и чем больше разница между гранич­
ными концентрациями примесей в эмиттерном и базовом сло­
ях. Поэтому эмиттерный слой все гда стараются легировать
как можно си льнее , так что он, как правило, оказывается полу­
металлом. При этом расчетные значения у могут составлять
0,9999 и более.
Формулы (5.24) выведены из условия, что токи I,n и I,p чис­
то инжекционные, т.е. потери носителей в области эмиттерного
перехода отсутствуют. В микрорежиме, при малых токах, та­
кое предположение не оправдано и приходится учитывать ре­
комбинацию в переходе. Тогда соотношение между электрон­
ной и дь1рочной составляющими эмиттерного тока дополните­
льно меняется в пользу дырочной составляющей. Иначе
говоря, коэффициент инжекции дополнительно уменьшается.


5.4. Ко�ффицвевт1о1 усиления тока

141

Тот факт, что рекомбинация становится существенной имен­
'но в области малых токов, объясняется следующим. Рекомби­
национные потери носителей зависят от объема перехода, а
значит, сравнительно постоянны. Поэтому на фоне больших по­
токов носителей роль таких потерь незначительна, а с умень­
шением потоков она возрастает. Большая доля рекомбинацион­
ных потерь приходите.я и на приповерхностный слой. Следова­
тельно, качество обработки поверхности оказывает
первостепенное влияние на величину коэффициента ипжек·
ции в области малых токов.
Типичные значения коэффициента инжекции с учетом ре­
комбинации в эмиттерном переходе составляют 0,99-0,997 в
нормальном токовом режиме и 0,98-0,985 в микрорежиме.
Коэффициенты усиления при нормальном и инверсном
вкточениях. Перемножая коэффициенты переноса и инжек­
ции, пренебрегая членом второго порядка малости и разлагая в
ряд с точностью до членов первого порядка, получаем коэффи­
циент усиления эмиттерного тока:
(5.25)

Подставляя значение а в выражение (5.17) и пренебрегая
членом второго порядка малости, получаем коэффициент уси­
ления базового тока. Запишем его в виде:
(5.26)

Зависимость (5.26) позволяет сделать следующие выводьI:
о коэффициент усиления транзистора возрастает с уменьше•
нием ширины базы;
о при сравнительно большой ширине базы определяющую
роль играет коэффициент переноса, при достаточно малой
- коэффициент инжекции;
о при прочих равных условиях коэффициент усилени я дрей­
фового транзистора больше, чем бездрейфового.
Коэффициенты усиления при инверсном включении не под­
даются строгому анализу, так как процессы движения носите­
л ей при этом двумерные (рис. 5.10). Миогие носители, инжек-


Глава 5. Физические приИЦ11Пы работы транзистора и тиристора

142

тированные коллектором в пассивную область базы, не попада­
ют на эмиттер, а рекомбинируют в слое базы и на поверхности.
Поэтому инверсный коэффициент переноса х1 в значительной
мере определяется отношением площади эмиттера (S1) к пло­
щади коллектора (S 1 +S2+S3 ) и может быть существенно мень­
ше единицы. К тому же если коллекторный переход почти сим­
метричный, то коэффициент инжекции у 1 тоже будет неболь­
шим. В таких условиях инверсный коэффициент усиления а 1
может составлять О, 7 и менее даже у бездрейфовых транзисто­
ров. У дрейфовых транзисторов благодаря влиянию тормозяще­
го поля он еще меньше.
Заметим, однако, что поскольку заметная часть носителей,
инжектированных в пассивную область базы, все же доходит до
эмиттера со стороны его боковой поверхности, то при оценке ко­
эффициента к1 следует пользоваться не площадью донной части
эмиттера (S1 на рис. 5.10), а некоторой эффективной площадью
S 1 +S2 , которая может в несколько раз превышать донную. Это
способствует увеличению коэффициента к 1• С другой стороны,
длина траекторий у носителей, попадающих на боковую часть
эмиттера, больше, чем w, что приводит к уменьшению н1 •
Таким образом, ипверскые параметры а 1 и В1 всегда мепь­
ше пормальпых. Однако в зависимости от структуры транзисто­
ра их значения могут меняться в довольно широких пределах.
Так, коэффициент усиления В1 обычно не превышает 0,5-1,5,
но в специальных структурах составляет до 5-10 и более.
Режимная и температурная зависимости. Коэффициенты а
и В зависят от рабочего режима транзистора (т.е. от тока и на­
пряжения на коллекторном переходе), а также от температуры.
Зависимости коэффициента В показаны соответственно на
рис. 5.11 и 5.12.
в
в
1
200

100

/'

0,001 0,01 0,1
а)

1

1•• мА

200

1
1
1
1
1

100

о

Uв
5

10
6)

15

и•. в

Рис. 5.11. Зависимость коэффициента усиления тока от рабочего режима:
а - от коллекторного тока; б - от коллекторного напряжения


5.4. Коэффициенты усиления тока

143

в
Спад коэффициента усиления вобла­
200
сти малых токов объясняется уменьше­
нием коэффициента инжекции из-за ре­
100
ко мбинации в эмиттерном переходе и
поверхностной рекомбинации. Спад в
области больших токов объясняется уве-80 -40 О 40 80 т. С
личением удельной проводимости базы
при высоких концентрациях избыточ- Рис. 5.12. Зависимость
ных носителей. Этот случай равносилен коэффициента усиления
тока от температуры
увеличению концентрации примеси в
базе, что согласно (5.24) приводит к уменьшению коэффициента инжекции.
В аналитическом вйде зависимость B(J) в области малых токов можно записать в следующем виде:
0

В2 =В1

✓

Iк2 ,
J l
к

(5.27)

где значение В1 соответствует току Iкl ' а В2 - току 1к2• Показа­
тель степени N - своеобразная характеристика электрофизи­
ческих свойств транзистора, его способности работать в микро­
режиме. В настоящее время можно считать N "6, т.е. зависи­
мость В от тока сравнительно слабая. Некоторое время назад
характерными значениями были N "3 и даже N " 2. Если поло­
жить Iк2/1к1 ""10-3, то при N = 6 получаем В 2 "0,3 В1 ; при N =
2 значение В2 будет на порядок меньше.
Зависимость В от напряжения И" обусловлена, во-первых,
так называемым эффектом Эрли, и, во-вторых, предпробойны­
ми явлениями в коллекторном переходе.
Сущность эффекта Эрли состоит в следующем. При измене­
ниях обратного коллекторного напряжения меняется ширина
коллекторного перехода lк (см. рис. 5.3). Изменения величины
lк приводят к изменению ширины базы w: если переход расши­
ряется, то база сужается и наоборот. В наихудшем случае
Лw = -Лl i< (прокол базы). Изменения ширины базы влияют на
целый ряд параметров транзисторов, поэтому эффект Эрли час­
то приходится принимать во внимание.
С увеличением напряжения Ик ширина базьI из-за эффекта
Эрли уменьшается, а значит, коэффициент В растет. Когда на­
пряжение Ик приближается к пробивному, ток коллектора, а


144

Глава 5. Физические принципы работы транзистора и тиристора

значит, и коэффициент усиления дополнительно возрастают
благодаря ударной ионизации в коллекторном переходе. В этом
диапазоне напряжений коэффициент усиления можно записать
в виде
В=Ма/(1-Ма),

(5.28)

где М - коэффициент ударной ионизации.
При условии Ма = 1, когда В➔ оо, наступает специфическая
разновидность пробоя, свойственная включению ОЭ, т.е. режиму
заданного тока базы. Приравнивая значение М = 1/(1 - (И/Им ) п)
значению 1/а, нетрудно получить напряжение такого пробоя
(рис. 5.1 1, 6):
Ив ==Им '1J1 -а ,

(5 .29)

где Им - напряжение лавинного пробоя (при котором М = оо);
п - показатель степени, значение которого для кремни.я лежит

в диапазоне от 3 до 5.
Напряжение Ив значительно меньше напряжения лавинного
пробоя Им, свойственного включению ОБ, т.е. режиму заданно­
го тока эмиттера. Например, если а = 0,99 и п = 3, то
Ив ;::;Q,2 Им .
Пробой может иметь место не только в результате лавинной
ионизации, но и в результате сужения базы по мере роста кол­
лекторного напряжения (эффект Эрли, см. выше). Если коллек­
торный переход расширится настолько, что ширина базы сдела­
ется равной нулю, то переходы транзистора сомкнутся и ток бу­
дет беспрепятственно проходить И3 эмиттера в коллектор, т.е.
наступит пробой. Такой эффект называют эффектом смыкания,
а соответствующее напряжение - напряжением смыкания.
Анализ показывает, что напряжение смыкания имеет вид:
Иw =(qN 6 /2r. 0 E)w 20 ,

(5.30)

где N6 - концентрация примеси в базе, w 0 - ширина базы при
Ик = О. Такой вид пробоя свойствен транзисторам с особо тон­
кой базой. Например, если N6 = 10 16 см-3 и w 0 = О, 7 мкм, то
И w =3,5В.
Зависимость коэффициента В от температуры обусловлена
главным образом температурной зависимостью времени жизни
т(Т). С ростом температуры врем.я жизни растет, а вместе с ним


5.5. Статические характеристики

145

растет диффузионная длина L6, т.е. уменьшается рекомбинация
в базе во время пролета носителей. Это приводит к увеличению
коэффициента В. Кроме того, с ростом времени жизни замедля­
ется рекомбинация и в эмиттерном переходе, а это способствует
увеличению коэффициента инжекции и коэффициента В.

5.5. Статические характеристики
Исходя из того, что биполярный транзистор есть совокуп­
ность двух встречно-включенных взаимодействующих р-n-пе­
реходов, можно представить его в виде эквивалентной схемы
или, как говорят, физической модели. Одна из таких моделей
показана на рис. 5.13. Ее называют моделью Молла-Эберса.
Модель Молла-Эберса. Эта
модель характеризует только ак­
тивную область транзистора. э
- +
к
+ Если дополнить модель резисто­
Iк
рами, отражающими наличие l, I1 = f1 (И,)
l2 = f2(UK )
пассивных областей базы и кол­
и,
Ик
Б
лектора, ее использование силь­
5.13. Фи:щческая модель
но усложняется, и она теряет Рис.биполярного
транзистора
свою наглядность.
Модель Молла-Эберса хорошо отражает обратимость тран­
зистора - принципиальную равноправность обоих его перехо­
дов. Эта равноправность особенно .ярко проявляете.я в режиме
двойной инжекции, когда на обоих переходах действуют пря­
мые напряжения. В таком режиме каждый из переходов одно­
временно инжектирует носители в базу и собирает носители,
дошедшие от другого перехода. Токи инжектируемых носите­
лей обозначены через 1 1 и 12, а токи собираемых - через a. N l1
и а 112 , где а N и а 1 - коэффициенты передачи тока соответст­
венно при нормальном и инверсном включениях. Токи а N l1 и
а 1 12 обеспечиваются в рассматриваемой модели с помощью ис­
точников (генераторов) тока 1 •

t

-

---

l Источник или генератор тока - понятие, широко используемое в теории элек­
трических цепей. Это - дуальный аналог источника или генератора з. д. с.
ПоСJiеднему в идеальном случае свойственно нулевое внутреннее сопротивле­
ние, а идеальному источнику тока бесконечно большое. он •жестко• задает
ток в цепи независимо от ее сопротивления.


146

Глава 5. Физll'lеские принципы работь1 транзистора и тиристора

Запишем соотношения, вытекающие из рис. 5.13:
(5.31а)

I э = I1 - a. 1 Iz ;
1 к =a. N [l -12 .

(5.316)

Будем считать, что ВАХ каждого из р-п-переходов описыва­
ется выражениями:
(5.32а)
(5.326)
где Г эо и l' кО - тепловые токи соответствующих переходов.
Каждый из них можно измерить, задавая обратное напряжение
1 И1 > &рт на данном переходе и закорачивая второй переход. Од­
нако на практике принято измерять тепловые токи, не закора­
чивая, а обрывая цепь второго перехода. Соответствующие зна­
чения обозначают через [30 и Iко•
С помощью формул (5.31) нетрудно установить связь между
тепловыми токами, измеренными в режиме холостого хода и в
режиме короткого замыкания второго перехода:
[, эО _
-

Iэо
1- CJ.NCJ.I

(5.33а)
(5.336)

Именно величины [30 и Iко принято называть тепловыми то­
ками переходов в транзисторах.
Подставляя токи 11 и 1 2 из (5.32) в соотношения (5.31), най­
дем аналитические выражения для статических ВАХ транзи­
стора:
И
I э = Г эО (е ,Nт -1) - а J I' кО (е .Nт -1)·,
И

(5.34а)
(5.346)

Ток базы легко записать как разность токов /3 и Iк :
(5.34в)


5.5. Статические характеристики

147

Выражения (5.34) называются формулами Молла-Эберса.
Они .являются математической моделью транзистора и состав­
ляют основу для анализа его статических режимов.
Следует подчеркнуть, что в формулах (5.34) положительны­
ми считаются прямые напряжения (независимо от того, что у
п-р-п-транзисторов фактическая полярность прямых напря­
жений на эмиттере и коллекторе относительно базы - отрица­
тельная). Кроме того, необходимо иметь в виду, что параметры
Г эо и Г ко в формулах (5.34) - это именно тепловые токи, а не
обратные токи переходов, которые в случае кремния намного
превышают тепловые. Только тогда, когда на оба перехода за­
даны обратные напряжения, формулы (5.34) теряют силу и об­
ратные токи следует оценивать с учетом тока термогенерации.
Можно показать, что в транзисторах выполняете.я соотноше­
ние
(5.35)
оно позволяет упрощать выражения, полученные на основе
формул (5.34).
Характеристики схемы ОБ. Как известно, для схемы ОБ
(рис. 5.4, а) характерны заданные значения тока эмиттера и
коллекторного напряжения. Поэтому характеристиками схемы
ОБ называют функции Jк (1 3; И к) и 13 (И3 ; Ик), представленные
семействами кривых. Одно из таких семейств, представляющее
функцию J к (Ик) с параметром 13 (рис. 5.14, а), называют семей­
ством выходных или коллекторных характеристик; второе,
представляющее функцию J3 (U3) с параметром Ик (рис. 5.14, б)
- семейством входных или эмиттерных характеристик. Оба
семейства легко получаются из формул (5.34) и записываются в
виде
Iк -

a N Iэ - I кО ( е U,/ч>т - 1)·,

(5.36)
(5.37)

Семейство эмиттерных кривых (5.37) записано в форме
U3 (13), поскольку заданной величиной (аргументом) является
ток эмиттера.


148

Глава 5. Физические приицииы работы транзистора и тиристора

1,0

1

U"-0,lB

'1

0,5

,

-1

1 о

1

'

/ '1
0,8
,,,,/ / 11
11
0,6
,,,- / /
1
/
0,4
/
;1
l3 =0,2мА / 1
и 1

---

2 10

20

"

30

�'-J
40 Uк,Б

I,,мА
1,5

Uн<О

Uк=О

1,0

Uк>О

0,5

о

0,5 U"
б)

а)

и•. в

Рис. 5.14. Статические выходные (а) и входные (б)
характеристики транзистора при включении ОБ

Из рис. 5.14, а ясно видны два резко различных режима ра­
боты транзистора: нормальный активный режим, соответству­
ющий обратным напряжениям на коллекторном переходе (пер­
вый квадрант) и режим двойной инжекции или насыщения, со­
ответствующий прямым напряжениям на коллекторном
переходе (второй квадрант). Активный режим характерен для
усилительных схем, а режим двойной инжекции - для ключе­
вых (импульсных) схем.
Для активного режима формулы (5.36) и (5.37) упрощаются,
так как при I Ик 1 > 3(J>т исчезают экспоненциальные члены.
Если, кроме того, пренебречь током Iко и величиной 1 - а N, то
формула (5.36) переходит в (5.15):
(5.38а)
а формула (5.37) - в БАХ обычного перехода
И э = (f>т ln(lэ /1' эо ).

(5.386)

Из выражений (5.38) следует, что в активном режиме кол­
лекторное напряжение не влияет ни на выходную - коллек­
торную, ни на входную - эмиттерную харак:теристик:и.
Этот вывод справедлив в большинстве практических случа­
ев. Однако в принципе и коллекторный ток, и эмиттерное на­
пряжение несколько зависят от коллекторного напряжения.
Это значит, что выходные характеристики на рис. 5.14, а име­
ют конечный наклон (определяемый сопротивлением коллек-


5.5. Статические характеристики

149

торного перехода), а входные характеристики несколько сме­
щаются при изменениях коллекторного напряжения (см.
рис. 5.14, 6). Причиной обеих зависимостей является эффект
Эрли. Его влияние на наклон выходных характеристик рас­
смотрено в разделе 5.6. Что касается сдвига входных характе­
ристик, то в этом случае эффект Эрли проявляется в следую­
щем. Изменение коллекторного напряжения приводит к изме­
нению ширины базы. Поскольку ток эмиттера, а значит, и
градиент концентрации носителей заданы, изменение ширины
базы приводит к изменению граничной концентрации носите­
лей (см. рис. 5.5), а это согласно граничному условию Шокли
неизбежно связано с изменением напряжения на переходе.
Поскольку (5.386) соответствует ВАХ обычного перехода, то
в рабочем диапазоне токов напряжение Иэ остается почти не­
изменным; его можно считать параметром кремниевого тран­
зистора И*. Для нормального токового режима (0,1-1 мА)
И*""' 0,7 В, для микрорежима (1-10 мкА) И*== 0,5 В. Темпера­
турная зависимость эмиттерного напряжения (как и для обыч­
ных диодов) составляет для кремниевых транзисторов от
-1,5 мВ/С до -2 мВ(С.
Для режима двойной инжекции характерен спад коллектор­
ного тока при неизменном эмиттерном токе. Это - результат
встречной инжекции со стороны коллектора. Важно отметить,
что у кремниевьrх транзисторов заметное уменьшение тока Iк
наступает не при Ик = О, а при достаточно больших прямых на­
пряжениях Ик. Это объяняется тем, что практическое отпира­
ние кремниевого р-п-перехода (в данном случае коллекторно­
го) наступает лишь при прямых напряжениях 0,4-0,6 В.
Характеристики схемы ОЭ. Как известно, для схемы ОЭ
(рис. 5.4, б) характерен заданный ток базы. Поэтому выходные
(коллекторные) характеристики представляют функцию
IK (I 5 ; икэ >• а входные (базовые) - функцию Iб (И5 ; икэ >· Эти ха­
рактеристики, которые нетрудно получить с помощью формул
Молла-Эберса, показаны на рис. 5.15. Главной особенностью
выходных характеристик является то, что они полностью рас­
положены в первом квадранте.
Оценим напряжение, при котором наступает спад коллек­
торного тока. Запишем для режима двойной инжекции:
(5.39)


Глава 5. Ф1[зические принципы работы травзистора и тиристора

150

16, мкА

Iк,мА

U*

---

1
/1
/ '1
.,,,. /
/ 1

8
6

4

0,4

о

0,5 1,0 5

UK3 мин

а)

/1
/ 1
1
1

10

15

1

'

8

1

'rr

6

,,

/

16 = 2 мкА

0,2

/

4
2
иб

ик,• в

о

0,5

1,0 Uб, В

б)

Рис. 5.15. Статические выходные (а) и входные (б)
характеристики транзистора при включении ОЭ

где под U3 и Ик понимаются прямые напряжения. Формально
границе активного режима соответствует значение Ик =О.При
этом согласно (5.39) выходное напряжение еще сравнительно
велико - оно равно напряжению на открытом эмиттерном пе­
реходе: Икэ =И*= 0,7 В. Заметный спад тока наступает лишь
тогда, когда прямое напряжение Ик достигает напряжения от­
пирания и* - 0,1 В. При этом выходное напряжение составля­
ет: Ик • = И* - (И* - 0,1 В) :::: 0,1 В (рис. 5.15, а).
Минимальное значение выходного напряжения получается
при нулевом токе коллектора (рис. 5.15, а). Чтобы определить
величину Икэмии• разрешим: систему уравнений {5.34б) и {5.34в)
относительно напряжений на переходах:
(5.40а)
(5.40б)
- • скобках, под­
Далее, пренебрегая единицами в квадратных
ставляя напряжения и. и Ик в выражение
(5.39), получаем вы­
-ходное напряжение в следующем
общем
виде:
Рт (
к ]
а 1 )Iи кэ -- 1{ а N I б + (1 - (5.40в)
а 1 а N I6 - (1 - а N )It<


5.5. Статнчоские характеристики

151

Полагая [к = О, найдем минимальное выходное напряжение:
И кэ м11и = ч>т ln(l/a 1 ).

(5.41)

Напряжение Uкэ мин весьма мало. Так, если а 1 = 0,5 (этому
значению соответствует В1 = 1), то Uкэ мин "'О,7<рт "'15 мВ.
Наклон ВАХ в схеме ОЭ значительно больше, а сопротивле­
ние, характеризующее этот наклон, значительно меньше, чем в
схеме ОБ. Эта особенность объясняется тем, что приращение
ЛИкэ частично падает на эмиттерном переходе, т.е. вызывает
приращение ЛИэ, соответственно получается приращение ЛJ 3 и
дополнительное приращение тока Iк· В предпробойной области
наклон ВАХ быстро возрастает. Напряжение пробоя в схеме ОЭ
меньше, чем в схеме ОБ [см. (5.29)).
В заключение отметим важную особенность тока базы. Из
выражения (5.34в) следует, что в нормальном активном режи­
ме ( т. е. при I Ик 1 > 3q> т) ток базы можно записать в виде
[б =l.(e И,Jq,т -1),

(5.42а)

где I• = (1 - а N )I' эо. Однако фактически, с учетом рекомбина­
ции в эмиттерном переходе и на поверхности, ток базы описыва­
ется несколько иначе (см. штриховую кривую на рис. 5.15, 6):
(5.426)
где т > 1. Величину т, характеризующую отличие реального
тока от идеального, называют т-фактором. Этот параметр
очень удобен для оценки качества эмиттерного перехода, а вме­
сте с тем - уровня собственных шумов, стабильности и надеж­
ности транзистора. Естественно, что т-фактор связан с показа­
телем N в формуле (5.27), поскольку показатель N характери­
зует тот же круг явлений, но применительно к коэффициенту
инжекции. Связь между параметрами т и N следующая: N =
т/(т-1). Прогресс в отношении показателя N, отмеченный
выше, обусловлен уменьшением т-фактора от значения т "'2
ДО m:::; 1,2.


Глава 5. Фязическяе nряяципы работ ы транзистора и тиристора

152

5.6. Малосигнальные эквивалентные схемы
и параметры
Большому K.'Iaccy так называемых линейных электронных
схем свойствен такой режим работы транзистора, при котором
на фоне сравнительно больших постоянных токов и напряже­
ний действуют малые переменные составляющие. Именно эти
составляющие представляют в таких схемах основной интерес.
Запишем напряжения и токи в виде
И= u

0

+ ЛИ;

I =I

0

+ ЛI,

где u0 и 1° - постоянные составляющие; ЛИ и Ы - перемен­
ные составляющие, много меньшие постоянных.
Постоянные и переменные составляющие анализируются и
рассчитываются раздельно. При анализе постоянных состав­
ляющих, как мы уже и делали, используется нелинейная фи­
зическая модель Молла-Эберса. При анализе переменных со­
ставляющих использование нелинейной модели не имеет смыс­
ла, так как связь между малыми приращениями определяется
не самими функциями, а их производными1 . Поэтому для ана­
лиза переменных составляющих пользуются специальными малосигнальными моделями (эквивалептпыми схемами), со­
стоящими из линейных элементов. Эти элементы отображают
те производные, которые связывают между собой малые прира­
щения токов и напряжений.
Для заданного эмиттерного тока (условие, свойственное
включению ОБ) малосигнальную эквивалентную схему транзи­
стора легко получить из рис. 5.13, заменяя эмиттерный и кол­
лекторный диоды их дифференциальными сопротивлениями.
Поскольку в линейных электронных схемах режим двойной
инжекции недопустим, можно исключить из схемы источник
тока а 1 I2 • С другой стороны, учет сопротивления базового слоя
1 Например, малое приращение эмиттерного тока связано с малыми прираще­
ниями эмитrерного и коллекторного напряжений соот ношением
ЛI = � ли + дl•

• аи.

• аи к

ли

к•

где I, (U,; и.) - фун кция (5.34а).


5.6. Малос11r11аль11ые эквивале11Т11ые схемы и параметры

153

не усложняет анализа малосигнальной схемы; поэтому добавим
в схему сопротивление r6 . Можно было бы учесть и сопротивле­
ние коллекторного слоя, но его роль оказывается несуществен­
ной. Таким образом, малосигналь­
ная (и, добавим, низкочастотная)
эквивалентная схема транзистора
при заданном токе эмиттера при­
ни мает такой вид, как показано
на рис. 5.16. Емкости С3 и Ск бу­
дут учтены позднее.
Б
направление
Положительное
тока эмиттера выбрано произвольРис . 5.16. Малосигнальная
но, поскольку знак приращения
модель транзистора
при включелии ОБ
Л1 3 может быть любым. Обозначения Л для простоты опущены.
Заметим, что коэффициент а в малосигнальной схеме (ин­
декс N опущен) является дифференциальным, в отличие от ин­
тегрального, которьzм мы пользовались до сих пор. Дифферен­
циальный коэффициент а определяется как производная
d.I,jdl., тогда как интегральный коэффициент а есть отноше­
ние IJI3 • Оба коэффициента несколько различаются, но это
различие не существенно.
Дифференциальное сопротивление эмиттер поzо перехода r3
выражается по аналогии с обычным диодом форму лой
(5.43)

где Iэ - постоянная составляющая тока. При токе 1 мА сопро­
тивление r3 составляет 25 Ом.
Дифференциальное сопротивлепие коллекторного перехода
rк обусловлено эффектом Эрли. Это сопротивление можно вы­
числить, подставляя в (5.15) значение а= х из (5.226), диффе­
ренцируя ток Iк по ширине базы w и считая dw = -dlк (прира­
щение dlк легко связать с dUк>· В результате вычислений полу­
чаем:
(5.44)

где Ик -модуль обратного напряжения. Следует обратить вни­
мание на то, что сопротивление rк, как и r3 , обратно пропорцио-


154

Глава 5, Физические приицяпы работы транзистора и тиристора

нально постоянной составляющей тока. Кроме того, оно неско­
лько возрастает с увеличением напряжения, однако эта зависи­
мость мало существенна. Для ориентировки подставим в (5.44)
значения L = 10 мкм, ш = 1 мкм, N = 10 16 см-3 и Ик= 4 В. Тог­
да rк "' 10 3/I,; при токе 1 мА получается rк = 1 МОм.
Сопротивление базы r6, вообще говоря, является суммой со­
противлений активной и пассивной областей базы. Расчет этих
сопротивлений затрудняется сложной траекторией базового
тока, сложной геометрией базового слоя, а также его неодно­
родностью. Типичными для планарных транзисторов можно
считать значения r6 = 50-200 Ом.
Когда заданной исходной величиной является ток базы (при
включении ОЭ), целесообразна другая эквивалентная схема
(рис. 5.17), в которой исс•
точник тока в коллектор­
---Н�-�
1
1
ной цепи управляется то­
r.
�/б
ком базы. Поскольку схек
Б
ма малосигнальная, испо­
льзуется не интегральный
коэффициент усиления В,
э
а дифференциальный, для
Рис. 5.17. Малосиrнальная модель
которого принято особое
транзистора при включении ОЭ
обозначение р. Связь между малосигнальными па­
раметрами Р и а определяется по аналогии с общим выраже­
нием:

-

р = а/(1- а).

(5.45)

В области малых токов коэффициент р несколько больше, а
в области больших токов несколько меньше, чем В. В целом же
значения р близки к значениям В.
Заменяя источник тока а/ 3 на PI 6, необходимо одновремен­
но заменить сопротивление коллекторного перехода rк на на
меньшую величину
(5.46)
Величина r; получается из следующих соображений. Для
того чтобы обе эквивалентные схемы были равноценны, они,
как четырехполюсники, должны иметь одинаковые параметры


5.7. П ереходные н частотные характеристики

155

в режимах холостого хода и короткого замыкания. Напряже­
на рис. 5.16 и 5.17 близки соответния холостого хода в схемах
*
ственно к аlэrк и Р1 6 rк . Приравнивая эти значения и учитывая,
что в режиме холостого хода / 3 ""1 6 , получаем (5.46). Причина
уменьшения сопротивления в схеме ОЭ пояснялась ранее.*Если
выше мы получили для rк значение 1 МОм, то значение rк при
р = 100 составит всего 10 кОм.

" 5.7. Переходные и частотные характеристики
Инерционность транзистора при быстрых изменениях вход­
ных токов обусловлена пролетом инжектированных носителей
через базу, а также перезарядом барьерных емкостей эмиттер­
ного и коллекторного переходов. Относительная роль этих фак­
торов зависит от ширины базы, режима транзистора и сопро­
тивления внешних цепей.
Рассмотрим сначала процессы в базе, пренебрегая влиянием
емкостей. Роль последних будет рассмотрена позже. Кроме
того, при анализе переходных процессов всегда пренебрегают
сопротивлением коллекторного перехода rк·
Процессы в базе при включении ОБ. Пусть транзистор
включен по схеме ОБ и пусть сначала эмиттерный ток равен
нулю, а на коллектор подано постоянное обратное напряжение.
При этом в цепи коллектора протекает ничтожнь1й ток термогенера­ i,
ции, которым можно пренебречь.
Транзистор, как говорят, находит­
ся в режиме отсечки. В некоторый
al,
момент времени зададим скачком
эмиттерный ток /3 (рис. 5.18). Для
простоты положим у= 1, т.е. прене­
брежем дырочной составляющей
эмиттерного тока.
Инжектированные
электроны
распространяются вглубь базы по­ Рис. 5.18. Переходные процес­
сы при включении ОБ
степенно. Они достигают коллектора только через время t3 , которое
называется временем задержки. После этого коллекторный ток
начинает нарастать, но нарастает тоже постепенно, потому что
скорость диффузии - величина средняя. У отдельных носите-


156

Глава 5. Физические приИЦJШЫ работы тр анзистора и тиристора

лей скорости существенно различаются, так что носители, по­
павшие в базу одновременно, доходят до коллектора за разное
время. В результате фронт коллекторного тока оказывается
плавным и имеет конечную длительность tФ.
При постоянном токе эмиттера функцию iк(t) удобно запи­
сать в виде i к = a(t)I3, где a(t) - переходная характеристика
коэффициента а. Именно она является предметом анализа пе­
реходных процессов в схеме ОБ. Параметром, определяющим
длительность этих процессов, является постоянная времени 'а .
О ней подробно сказано ниже.
В интервале t3, когда коллекторный ток еще отсутствует,
ток базы равен току эмиттера I3 • Затем, по мере нарастания
коллекторного тока, ток базы уменьшается до установившегося
значения (1- a)I 3 • Получается характерный выброс базового
тока.
Одновременно с током коллектора нарастают избыточные
заряды в базе. В качестве 1-го приближения (оно практически
оправдано) примем, что коллекторный ток и избыточные заря­
ды нарастают по экспоненциальному закону с постоянной вре­
мени т а . Моделью такого переходного процесса является процесс за­
ряда конденсатора в простейшей
RС-цепочке под действием ступень­
ки тока (рис. 5.19). Установившее­
ся значение заряда в такой цепочке
Рис. 5.19. RС-цепочк а, модели­
имеет
следующий вид:
рующая процесс накопления
заряда в базе

Q = СИ = C(IR) = Iт,

где , = RC - постоянная времени. Такую же форму имеют вы­
ражения (5.8) и (5.126) для установившихся избыточных заря­
дов в базе.
Отсюда следует полезный вывод: постоянную времени 'а
можно получить, поделив установившееся значение избыточ­
ного заряда ЛQ6 на заданный ток эмиттера I3 •
Введем следующие обозначения для величин в правых час­
тях (5.8) и (5.126):
2

t D =w /(2D);
tup

2

= w /[2(ТJ + l)DJ = t Dl(тi + 1).

(5.47)
(5.48)


5.7. Переходиые и частотные характеристики

157

Величину t D называют средним временем диффузии, а вели­
чину tпр - временем пролета. Время пролета является обобще­
нием времени диффузии на случай, когда в базе есть ускоряю­
щее поле. При условии ri = О время пролета делается равным
времени диффузии.
Таким образом, приняв экспоненциальное приближение для
переходных характеристик, получаем
(5.49а)

или, в случае бездрейфовых транзисторов,
(5.496)

Операторное изображение для коэффициента а запишется в
форме
(5.50)
a(s) = а/(1 + sт а),
т.е. переходная характеристика коэффициента передачи тока
имеет вид:
( 5.51)

Более строгое выражение может быть получено подстанов­
кой в
х = sech�
L
вместо L величинь1 L(s)
Цs)=

L
�
1 + sт

Оно же будет изображением
a(s), поскольку выше было при­
нято у = 1. Переходная характери­
стика, соответствующая такому
показана
на 0, 5
изображению,
рис. 5.20 штриховой линией. Ее
аналитическое выражение слишком сложно для практических О 0,2 1
4 t/t"
2
3
применений. Поэтому при под­
становке Цs ) воспользуемся ап­ Рис. 5.20. ПеvЕ>ходные характери­
с ики коэффициента передачи а
проксимацией (5.22а). Тогда т


Глава 5. Физичесюrе принципы работы транзистора и тиристора

158

изображение a(s) совпадает с (5.50). Это подтверждает, что экс­
поненциальная аппроксимация вполне пригодна на практике.
Недостаток аппроксимации (5.50) состоит лишь в том, что
она не отражает наличия задержки t 3 (см. рис. 5.18). В тех слу­
чаях, когда задержка существенна, пользуются более точным
изображением
a(s)

= ае -•!, /(1 + S't (l ).

(5.52)

Входящие сюда параметры имеют следующие значения:
't !l ""0,8t np •

(5.53а)

t э "о,2 t пр ·

(5.536)

Оригиналом изображения (5.52) является экспоненциальная
функция (5.51), сдвинутая относительно момента t = О на ин­
тервал t3 •
Частотные характеристики коэффициента а получим, за­
меняя в выражениях (5.50) или (5.52) оператор s на jro:
а
а==----(5.54а)
1 + j(ro/@ (l )
ИЛИ
.

ae-Jrot,

а=-----,
1 + j(rofro a )

(5.546)

где ro (l = 1/т (l - угловая ераничная частота.
Следует иметь в виду, что комплексная величина а может
использоваться только в малосигнальной эквивалентной схеме
(рис. 5.16), т.е. при анализе переменных составляющих. Пол­
ные токи в транзисторе не могут быть синусоидальными из-за
выпрямляющих свойств р-п-перехода.
Амплитудно-частотные характеристики коэффициента а,
представленные выражениями (5.54), имеют одинаковую фор­
му:
(5.55)
хотя значения roa несколько разные [см. (5.49а) и (5.53а)].


159

5.7. Переходные и частотные характеристики

Фазочастотные характеристики оказываются существенно
разными. Для выражения (5.54а)
q>(ro) = -arctg(ofroa ),

(5.5ба)

т.е. фазовый сдвиг ограничен [q>(oo) = -90"], а q>(ro u ) = -45°. Для
выражения (5.546)
q>(ro) = -rot 3

-

arctg(ofro a ).

(5.566)

В этом случае фазовый сдвиг не ограничен [q>(ao) = -ooJ, а
q>(oo a ) = -59 °. Выражение (5.566) гораздо более точное, тогда
как (5.5ба) дает большую погрешность уже при частотах, мень­
ших граничной. Частотные характеристики коэффициента а
показаны на рис. 5.21.
Процессы в базе при включении ОЭ. Пусть транзистор
включен по схеме ОЭ и задана ступенька базового тока I6
(рис. 5.22). При этом функцию i к(t) можно записать в виде i к (t)
= B(t) 16, где B(t) - переходная характеристика коэффициен­
та усиления В. Она и ее постоянная времени тв являются в
lal/ao

0,8

\ 2

0,4

о
"
(!

i:

tp, о

о

"" ..... -

,,1

"''

а)

40

0,01

11

2,1,1

\

80

0,1

__
'V----Т.:
::tt;,
,

�......

1,0
6)

,_ ..

10,0

11
11

f/f.,,

Рис. 5.21. Частотные характеристики коэффициента передачи а: а амплитудно-частотные;
(5 - фазочастотные; 1 - аппрокси­
мация (5.54а); 2 - аппроксимация
(5.546)

,__�

р Iб

Рис. 5.22. Переходные процессы при
включении ОЭ


160

Глава 5. Физические принципы работь1 транзистора и тиристора

данном случае предметом анализа. Для простоты опять будем
считать у = 1.
Операторное изображение B(s) легко получить, подставляя
cx(s) в выражение В = а/(1 - а). При этом легко убедиться, что
переходный процесс сохраняет экспоненциальный характер, но
постоянная времени тв будет гораздо больше, а именно
(5.57)
Для того чтобы выяснить физический смысл величины тв,
проведем следующие рассуждения.
Ток 16 задает скорость нарастания положительного заряда в
базе. Значит, в момент поступления ступеньки 16 в базе начина­
ет повышаться концентрация дырок. Соответственно повыша­
ется потенциал базы и это вызывает отпирание эмиттерного пе­
рехода. Начинается инжекция электронов, заряд которых под­
держивает квазинейтральность базы. Значит, в первый момент
имеет место равенство 13 = 16, как и в схеме ОБ.
Через время задержки t 3 инжектированные носители дохо­
дят до коллектора и появляется коллекторный ток. В схеме ОБ
нарастание коллекторного тока сопровождалось уменьшением
тока базы. Однако в схеме ОЭ базовый ток задан, поэтому воз­
растание коллекторного тока (связанное с уходом электронов
из базы) вьiзывает дополнительное нарастание тока эмиттера
(т.е. приток новых электронов, необходимых для поддержания
квазинейтральности).
Такое совместное увеличение токов lк и 13 продолжается до 1
тех пор, пока в базе не накопится настолько большой избыточ­
ный заряд ЛQ 6, что скорость его рекомбинации уравновесит ток
базы. Условие равновесия имеет вид:
1

(5.58)
Отсюда, руководствуясь тем, что ЛQ6 / 16 есть постоянная
времени переходного процесса, приходим к выводу: в схеме ОЭ
постояппая времепи равпа времепи жизпи посителей в базе
тв =т.

(5.59)

Итак, операторный коэффициент усиления в схеме ОЭ имеет
вид:
B(s) = Вr'(l + sтв ),

(5.60)


161

5.7. Переходные II частотные характеристИRи

где постоянная времени тв в десятки и более раз превышает ве­
личину т ,,_. Можно показать, что большой коэффициент ус иле·
ния В в схеме ОЭ достигается ценой ухудшения переходных и
частотных свойств. На фоне большой постоянной времени тв
задержка t, не существенна и ее не учитывают.
Заменяя в выражении (5.60) В нар и s на JOJ, получаем мало­
сигнальную частотную характеристику

Р= 1 + j(ro/ro
Р ),
p

(5.61)

где ООр = 1/тр - верхняя граничная частота (можно считать
Тр = т 8 ). Соответственно амплитудно- и фазочастотная характе­
ристики будут иметь вид:
J3(ro) =

р

;

(5.62а)

q>(ro) = -arctg(ro/rop),

(5.626)

✓1 + (оо/оор) 2

Поскольку коэффициент р весьма велик, усилительная спо­
собность транзистора сохраняется при частотах, значительно
превышающих граничную частоту ОJр,При оо > Зоор в выражении
(5.62а) можно пренебречь единицей, тогда
Полагая Р(ro) = 1, найдем частоту, при которой коэффициент
р уменьшается до единицы и транзистор теряет усилительные
свойства:
(5.63)
Частоту rот назьrвают предельной частотой коэффициента
усиления тока. Учитывая соотношение (5.57), приходим к вы­
воду, что предельная частота практически совпадает с гранич­
ной частотой Ф а. •
Влияние барьерных емкостей. Начнем с влияния емкости
эмиттерного перехода (рис. 5.16). Поскольку барьерная ем­
кость обусловлена изменениями ширины перехода, т.е. переме­
щениями основных носителей, ток перезаряда этой емкости не
имеет отношения к инжекции и не входит в состав коллектор6----3423


162

Глава 5. Физические принципы работы траизистора и тиристора

ного тока. Следовательно, та часть тока эмиттера, которая от­
ветвляется в барьерную емкость, приводит к уменьшению ко­
эффициента инжекции.
Распределение тока эмиттера между барьерной емкостью и
переходом зависит от соотношения сопротивлений этих двух
цепей. Ограничимся переменными составляющими. Тогда за
сопротивление перехода следует принять величину r3 , а за со­
противление емкости ее операторный импеданс 1/(sC 3). Запи­
шем часть тока /3 , которая ответвляется в р-п-переход:

Именно эта величина подразумевалась в определении коэф­
фициента инжекции под током /3 • Заменяя ток /3 на Iэр-п• не­
трудно получить
(5.64)
где

(5.65)

- постоянная времени эмиттерного перехода, она же - посто­

янная времени коэффициента инжекции.

Если r3 = 25 Ом и С 3 = 1 пФ, то т У = 0,025 нс. В этом случае
обычно т у <<t 11p , так что постоянную времени т у можно не учи­
тывать или учитывать в виде дополнительной задержки. Одна­
ко с уменьшением тока сопротивление r3 растет и величина т у
становится сравнимой с t 1,p. Поэтому в микрорежиме с опреде­
ленным приближением можно считать
(5.66)

Тем самым роль эмиттерной барьерной емкости сводится к
увеличению постоянной времени т а .

Теперь рассмотрим роль коллекторной барьерной емкости Ск
(рис. 5.16). Если осуществить на выходе короткое замыкание и
по-прежнему пренебречь сопротивлением rк , то емкость Скока­
жется соединенной параллельно с сопротивлением r6 • Постоян­
ная времени такой цепочки называется постоянной времени

базы:

(5.67)


163

5.8. ТИристор

Например, если r6 = 100 Ом и Ск = 1 пФ, то т 6 = 0,1 нс. Ток
al э распределяется между внешней цепью (куда вошло сопро­
тивление rб) и емкостью Ск. Следовательно, на высоких часто­
тах внешний ток /к будет всегда меньше, чем а/ 3 • В частности,
если положить т а = О, то именно постоянная времени базы
ограничивает предельное быстродействие транзистора.
Если в цепь коллектора включено сопротивление R к , то в
предыдущих рассуждениях нужно заменить сопротивление r6
на r6 + Rк . Обычно Rк >> r6 , поэтому инерционность токорасп­
ределения в коллекторной цепи будет определяться не постоян­
ной времени т 6 , а постоянной времени СкRк. Несмотря на то,
что величина СкRк не является параметром транзистора, (она
зависит от внешнего элемента Rк), ее удобно рассматривать как
составную часть параметра т а . Для этого введем понятие экви­
валентной постоянной времени т аое , которую по аналогии с
(5.66) определим в виде суммы
(5.68)
Если С кRк > 3 т а (что часто бывает), то величина т аое прак­
тически не зависит от процессов в базе.
Для схемы ОЭ эквивалентную постоянную времени т 0е най­
дем с помощью соотношения (5.57), умножив обе части (5.68)
на В + 1. Тогда
(5.69)
где
(5. 70)

- эквивалентная емкость коллекторного перехода ( рис. 5.17).
Постоянные времени т аое и т ое - наиболее универсальные
параметры, характеризующие инерционность биполярного
транзистора.

5.8. Тиристор
Тиристор представляет собой четырехслойную структуру
р-п-р-п (рис. 5.23, а), вольтамперная характеристика которой
име ет участок отрицательного сопротивления (рис. 5.23, б). По­
явление участка отрицательного сопротивления качественно


164

Глава 5. Физичесю1е приицвпы работы транзистора в тиристора

I

и
п I р
�р 1

П1

1·�

тиристор
«открыт»

r....кп

П2 Пз
а)

И,кл

и

б)

Рис. 5.23. Четырехслойная: р-п-р-п-структура (а) и ее БАХ (б)

можно объяснить, используя двухтранзисторную модель тири­
стора (рис. 5.24). Действительно р-п-р-п-структура может
быть представлена как соединение двух биполярных транзисто­
ров р-п-р и п-р-п-типа. Обозначим коэффициент усиления
р-п-р-транзистора а Р, а п-р-п-транзисто­
ра - а п • Ток центрального перехода ти­
ристора П2 складываете.я из токов коллек­
тирования р-п-р и п-р-п-транзисторов.
Если ток во внешней цепи равен I, то до
центрального
перехода доходит ток
п
a P I + a n l =(а р + а п )I. По условию не­
прерывности тока суммарный ток через
центральный переход должен быть равен
Рис. 5.24. Двухтранзи­
I. Если сумма коэффициентов передачи
сторная модель тири­
а
Р + а п < 1, то через переход П2 должен
стора
протекать дополнительный ток, совпадающий по направлению с током во внеш­
ней цепи и равный (1- ар- а п )J. Такое протекание тока соот­
ветствует обратному смещению перехода П2 и закрытому состо­
янию тиристора. Если сумма коэффициентов передачи больше
единицы (а Р + а п > 1), то через центральный переход должен
протекать дополнительный ток (а Р + а п -1)1, но направление
этого тока противоположно направлению тока во внешней
цепи. Это соответствует прямому смещению центрального пере­
хода и открытому состоянию тиристора. При этом на тиристоре
падает напряжение, примерно равное напряжению одного
обычного р-п-перехода. Это напряжение называете.я остаточ­
ным напряжением Uост · Обычно Uост ""(0,7-1) В. Известно, что
коэффициенты усиления биполярных транзисторов увеличива-


165

5.8. ТJ1ристор

ются при увеличении тока эмиттера. Поэтому при возрастании
тока во внешней цепи тиристора сумма коэффициентов переда­
чи увеличивается от значения а Р + а п < 1 до значения
а р + а п > 1 и напряжение на тиристоре сначала возрастает, а за­
тем уменьшается. Ток выключения 1•ыкл соответствует условию
ар +а п= l.
Если в область базы n-р-п-транзистора втекает внешний
управляющий ток, то условие равенства суммы коэффициентов
передачи единице (условие аР + а п = 1) выполняется при мень­
ших токах во внешней цепи (рис. 5.25, а). Это приводит к умень­
шению тока выключения и напряжения включения. Вольтампер­
ные характеристики тиристора для нескольких значений тока
управления показаны на рис. 5.25, б. При некотором значении
тока управления, называемым током управления спрямления
(Jупр)спр ' участок отрицательного сопротивления исчезает и тири­
стор при любом токе находится в открытом состоянии.

-

[упр

1

и

1,

(Jущ, )спр

п
!упр = О

п
6)

а)

и

Рис . 5.25. Управление тиристором пор-базе (а) и ВАХ для разных токов
управления (6)

Рассмотрим включение тиристора в цепь с источником на­
пряжения Е и нагрузкой R 0 (рис. 5.26, а). Предположим, что
линия нагрузки пересекает ВАХ тиристора в трех точках
(рис. 5.26, б). В закрытом состоянии на тиристоре падает на­
пряжение питания Е, так как ток через тиристор очень мал.
Очевидно, что в закрытом состоянии должно выполняться
условие Е < Иsкл · В открытом состоянии ток через тиристор в
основном определяется величиной сопротивления нагрузки
]

отк

Е
Е - Иост
=--R--::e-R
н
и ,

так как обычно Иост << Е.


166

Глава 5. Физические прияципы работы транзистора и тиристора

Е

I

тиристор

-

J"L

lynp

а)

б)

Е

и.кл

и

Рис. 5.26. ВЮiючение тиристора во внешнюю цепь (а),
БАХ тиристора и линия нагрузки (б)

Переход из закрытого состояния в открытое может произой­
ти при подаче в цепь управления импульса управляющего
тока. После прекращения возбуждения по цепи управления ти­
ристор остается в состоянии «открыто�.
Именно эффект открывания тиристора является причиной,
почему этот прибор рассматривается в курсе <,Основы микро­
электроники�. Как самостоятельный прибор тиристор исполь­
зуется в микроэлектронных структурах относительно редко (он
применяется в качестве ключа в мощнь1х специализированных
микросхемах малой степени интеграции). Однако структура
р-п-р-п очень часто формируется как паразитная структура,
при изготовлении МОП- и биполярных микросхем. На
рис. 5.27 показано поперечное сечение обычного КМОП-инвер­
тора. Сток р-канального транзистора обычно подключается к
источнику питания, а исток п-каналъного транзистора - к зем­
ле. Нетрудно видеть, что между питанием и землей имеется па­
разитная четырехслойная р + -п-р-п+ -структура, которая дол­
жна находиться в закрытом состоянии. Если этот парази1;ный
тиристор откроется, например, при воздействии помехи, то че­
рез структуру потечет очень большой ток, так как сопротивле­
ние нагрузки в этом случае близко к нулю. Это может привести
к выгоранию структуры, т.е. выходу из строя микросхемы, так
как после открьrвания паразитный тиристор остается в этом со­
стоянии бесконечно долго. Описанный эффект носит название
эффекта «защелки,> и для его устранения используется комп­
лекс конструктивно-технологических и схемотехнических мер.
Конструктивно-технологические решения направлены на уме­
ньшение коэффициентов усиления (снижение времени жизни,


167

Ко#!Рольиые вопросы
Вход

1 '
1»

Выход

Е

Е

паразитный тиристор

п

Рис. 5.27. Поперечное сечение КМОП-инвертора

выбор соответствующей топологии), с тем чтобы их сумма
аР + а n не превышала единицы при любых токах. В этом слу­
чае паразитный тиристор не может устойчиво находиться в от­
крытом состоянии. Схемотехнические меры сводятся к подав­
лению влияния электрических помех.

Контрольные вопросы
1. Чем отличаются бездрейфовые и дрейфовые биполярные
транзисторы?
2. Нарисуйте зонную диаграмму п-р-п-транзистора в равно­
весном состоянии.
3. Какое смещение имеют эмиттерный и коллекторный пере­
ходы при нормальном включении?
4. Назовите основные схемы включения биполярных транзи­
сторов.
5. Что такое режим двойной инжекции?
6. Как распределены избыточные носители в базе бездрейфово­
го транзистора при нормальном включении?
7. Как влияет коэффициент неоднородности базы на распреде­
ление электронов в п-р-п дрейфовом транзисторе?
8. Нарисуйте распределение избыточных носителей в базе и
коллекторе п-р-п бездрейфового транзистора при инверс­
ном включении.


168

Глава 5. Физические принципы работы транзистора и тиристора

9. Через какой параметр связаны ток базы и избыточный заряд
в базе?
10. Дайте определение коэффициенту переноса и коэффициенту
инжекции.
11. Как связаны коэффициенты усиления эмиттерного и базово­
го тока?
12. Как связан коэффициент переноса с шириной базы?
13. Как влияет уровень легирования эмиттера на величину ко­
эффициента инжекции?
14. Объясните зависимость коэффициента усиления от тока
эмиттера.
15. Объясните зависимость коэффициента усиления от коллек­
торного напряжения.
16. Как изменяется коэффициент усиления с увеличением температуры?
17. В чем заключается эффект Эрли?
18. Что такое напряжение смыкания?
19. Сравните наклон выходных характеристик транзистора при
включении ОЭ и ОБ.
20. Как смещаются входные характеристики транзистора в схе­
ме ОБ при увеличении напряжения на коллекторе?
21. Как смещаются входные характеристики транзистора в схе­
ме ОЭ при увеличении напряжения на коллекторе?
22. Напишите выражение для дифференциального сопротивле­
ния эмиттерного перехода.
23. Каков порядок величины сопротивления базы?
24. Какая постоянная времени определяет инерционность тран- •,j
зистора в схеме ОБ?
25. Какая постоянная времени определяет инерционность транзистора в схеме ОЭ?
26. Почему ВАХ тиристора имеет участок отрицательного со­
противления?
27. Что такое эффект •защелки• в КМОП-инверторе?


rпава 6
Технологические основы
микроэлектроники

6.1. Введение
Технология полупроводниковых ИС развилась на основе
планарной технологии транзисторов, а последняя, в свою оче­
редь, впитала в себя весь предшествующий опыт производства
полупроводниковых приборов. Поэтому чтобы разбираться в
технологических циклах изготовления ИС, необходимо ознако­
миться с типовыми технологическими процессами, из которых
эти циклы складываются. Технология ГИС также зародилась
не на пустом месте, а обобщила и развила те методы нанесения
пленок, которые ранее использовались в радиотехнической
промышленности, машиностроении и оптике.

6.2. Подготовительные операции
Монокристаллические слитки крем­
ния, как и других полупроводников,
получают обычно путем кристаллиза­
ции из расплава - методом Чохраль­
скоzо. При этом методе стержень с за­
травкой (в виде монокристалла крем­
ния)
с
соприкосновения
после
расплавом медленно поднимают с одно­
временным вращением (рис. 6.1). При
этом вслед за затравкой вытягивается
нарастающий и застывающий слиток.
Кристаллографическая ориентация
слитка (его поперечного сечения) опре­
деляется кристаллографической ори­
ентацией затравки. Чаще других испо­
льзуются слитки с поперечным сече­
нием, лежащим в плоскости (111) или
(100) (см. раздел 2.2).

з
1

2
Рис. 6.1. Схема выращива­
ния монокристалла методом
Чохральского: 1 - тигель;
2 - расплав полупроводни­
ка; 3 - выращиваемый мо­
нокристалл; 4 - затравка;
5 - катушка высокочастотного нагрева


170

Глава 6. Технологические основы микроэлектроники

Типовой диаметр слитков составляет в настоящее врем.я 150
мм, а максимальный может достигать 300 мм и более. Длина
слитков может достигать 3 м и более, но обычно она в несколь­
ко раз меньше.
Слитки кремния разрезают на множество тонких пластин
(толщиной 0,4-0,5 мм), на которых затем изготавливают ин­
тегральные схемы или другие приборы. Во врем.я резки слиток
прочно закрепляют, причем очень важно обеспечить перпенди­
кулярное расположение слитка относительно режущих полотен
или дисков с тем, чтобы пластины имели необходимую крис­
таллографическую ориентацию.
Поверхность пластин после резки весьма неровная: размеры
царапин, выступов и .ямок намного превьШiают размеры будущих
элементов ИС. Поэтому перед началом основных технологиче­
ских операций пластины многократно шлифуют, а затем полиру­
ют. Цель шлифовки, помимо удаления механических дефектов,
состоит в том, чтобы обеспечить необходимую толщину пластины
(150-250 мкм), недостижимую при резке, и параллельность плос­
костей. Шлифовку осуществляют на вращающихся шлифоваль­
ных кругах. Шлифующим агентом являются суспензии из мик­
ропорошков, размер зерен которых выбирают все меньшим при
каждом цикле шлифовки, вплоть до 0,3-0,5 мкм.
По окончании шлифовки на поверхности все же остается ме­
ханически нарушенный слой толщиной несколько микрон, под
которым расположен еще более тонкий, так называемый физи­
чески нарушенный слой. Последний характерен наличием �не­
зримых,> искажений кристаллической решетки и механиче­
ских напряжений, возникающих в процессе шлифовки.
Полировка состоит в удалении обоих нарушенных слоев и
снижении неровностей поверхности до уровня, свойственного
оптическим системам - сотые доли микрона. Помимо механи­
ческой (с помощью еще более мелкозернистых суспензий), ис­
пользуется химическая полировка (травление), т.е. по сущест­
ву растворение поверхностного слоя полупроводника в тех или
иных реактивах. Выступы и трещины на поверхности стравли­
ваются быстрее, чем основной материал, и в целом поверхность
выравниваете.я.
Достигаема.я в процессе шлифовки и полировки параллель­
ность плоскостей пластины составляет единицы и даже доли
микрона на сантиметр длины.


171

6.3. Эпитаксия

Важным процессом в полупроводниковой технологии явля­
ется также очистка поверхности от загрязнений органическими
веществами, особенно жирами. Очистку и обезжиривание про­
водят в органических растворителях (толуол, ацетон, этиловый
спирт и др.) при повышенной температуре.
Травление, очистка и многие другие процессы сопровождают­
ся отмывкой пластин в деионизованной воде. Деионизация осу­
ществляется в специальных установках путем пропускания
предварительно дистиллированной воды через гранулированные
смолы, в которых благодаря химическим реакциям происходит
связывание растворенных ионов. Степень деионизации оценива­
ется по удельному сопротивлению воды, которое обычно лежит в
пределах 10-20 МОм• см и выше (удельное сопротивление биди­
стиллированной воды не превышает 1-2 МОм • см).

6.3. Эпитаксия
Эпитаксией называют процесс наращивания монокристал­
лических слоев на подложку, при котором кристаллографиче­
ская ориентация наращиваемого слоя повторяет кристаллогра­
фическую ориентацию подложки.
В настоящее время эпитаксия обычно используется для по­
.11учения тонких рабочих слоев однородного полупроводника на
сравнительно толстой подложке, играющей роль несущей кон­
струкции.
Типовой - хлоридный процесс эпитаксии применительно к
кремнию состоит в следующем (рис. 6.2). Монокристалличе­
ские кремниевые пластины загружают в тигель «лодочку� и
помещают в кварцевую трубу. Через трубу пропускают поток
водорода, содержащий небольшую примесь тетрахлорида крем­
ния SiCI 4 • При высокой температуре (около 1200 °С), которая
обеспечивается высокочастотным нагревом тигля, на поверхно­
сти пластин происходит реакция
SiCl 4 + 2Н2 = Si + 4HCI.
В результате реакции на подложке постепенно осаждается
слой чис1ого кремния, а пары HCI уносятся потоком водорода.
Эпитаксиальный слой осажденного кремния монокристалличен
и имеет ту же кристаллографическую ориентацию, что и под­
ложка. Химическая реакция, благодаря подбору температуры,


172

Глава 6. Техuолоrические основы 111Вкроэлектровики
2

з

--

Рис. 6.2. Схема хлоридного процесса эпитаксии: 1 - кварцевая труба;
2 - катушка ВЧ нагрева; 3 - тигель с пластинами; 4 - пластина крем•
ния; 5 - вентиль для перекрытия соответствующего газа; 6 - измеритель
скорости потока

происходит только на поверхности пластины, а не в окружаю­
щем пространстве.
Процесс, проходящий в потоке газа, называют газотранс·
портной реакцией, а основной газ (в данном случае водород),
переносящий примесь в зону реакции, - газом-носителем.
Если к парам тетрахлорида кремния добавить пары соедине•
ний бора (В 2 Н6) или фосфора (РН3), то эпитаксиальный слой
будет иметь уже не собственную, а соответственно дырочную
или электронную проводимость, поскольку в ходе реакции в
осаждающийся кремний будут внедряться акцепторные атомы
бора или донорные атомы фосфора.
В установке, показанной на рис. 6.2, предусмотрены некото­
рые дополнительные операции: продувка трубы азотом и неглу­
бокое травление поверхности кремния в парах HCl (с целью
очистки). Эти операции проводятся до основных.
Таким образом, эпитаксия позволяет выращивать монокрис­
таллические слои любого типа проводимости и любого удельно­
го сопротивления на подложке, обладающей тоже любым ти­
пом и величиной проводимости {рис 6.3).
Эпитаксиальная пленка может отличаться от псдложки по
химическому составу. Способ получения таких пленок называ­
ют гетероэпитаксией, в отличие от гомоэпитаксии, описанной
выше. Конечно, при гетероэпитаксии материальr пленки и под­
ложки должны по-прежнему иметь одинаковую кристалличе­
скую решетку. Например, можно выращивать кремниевую
пленку на сапфировой подложке.


6.4. Термическое окисление

а)

173

б)

6)

Рис. 6.3. Примеры эпитаксиальяых структур;

а - плеяка п-типа на п•-подложке; б - пленка р·-типа на п-подложке;
в - пленка п-типа на р-подложке

Граница между эпитаксиальным слоем и подложкой не по­
лучается идеально резкой, так как примеси в процессе эпитак­
сии частично диффундируют из одного слоя в другой. Это об­
стоятельство затрудняет создание сверхтонких (менее 1 мкм) и
многослойных эпитаксиальных структур. Основную роль в на­
стоящее время играет однослойная эпитаксия. Она существен­
но пополнила арсенал полупроводниковой технологии; получе­
ние таких тонких однородных слоев (1-10 мкм), какие обеспе­
чивает эпитаксия, невозможно иными средствами.
В заключение заметим, что помимо описанной газовой эпи­
таксии, существует жидкостная эпитаксия, при которой нара­
щивание монокристаллического слоя осуществляется из жид­
кой фазы, т.е. из раствора, содержащего необходимые компо­
ненты.

6.4. Термическое окисление
Окисление кремния - один из самых характерных процес­
сов в технологии современных ИС. Получаемая при этом плен­
ка двуокиси кремния (Si02) выполняет несколько важных фун­
кций, в том числе:
□ функцию защиты - пассивации поверхности и, в частно­
сти, защиты вертикальных участков р-п-переходов, выхо­
дящих на поверхн ость (рис. 6.4, а);
□ функцию маски, через окна которой вводятся необходимые
примеси (рис. 6.4, б);
□ функцию тонкого диэлектрика под затвором МОП-транзи­
стора (рис. 6.4, в).
Такие широкие возможности двуокиси кремния - одна из
причин того, что кремний стал основным материалом для изго­
товления полупроводниковых ИС.


174

Глава 6 Техиолоrические основы: микроэлектроиики
Защитный окисел
Окна в маске
81

а)

Сток

Исток

6)

п S1

в)

Рис 6 4. Функции двуокисвой плевки крем:иня

а - пассивация поверхности, 15 - маска для локального легир0вавия,
в - тонкий подзатворный окисел

Поверхность кремния всегда покрыта �собственной•> окис­
ной пленкой, получающейся в результате tестественного»
окисления при самых низких температурах. Однако эта пленка
имеет слишком малую толщину (около 5 нм), чтобы выпол­
нять какую-либо из перечисленных функций. Поэтому в техно­
логии ИС пленки S102 получают искусственным путем.
Искусственное окисление кремния осуществляется обычно
при высокой температуре (1000-1200 °С). Такое термическое
окисление можно проводить в атмосфере кислорода (сухое окис
ление), в смеси кислорода с парами воды (влажное окисление)
или просто в парах воды 1 •
Во всех случаях процесс проводится в окислительных печах.
Основу таких печей составляет, как и при эпитаксии, кварце­
вая труба, в которой размещается <•лодочка» с пластинами
кремния, нагреваемая либо токами высокой частоты, либо
иным путем. Через трубу пропускается поток кислорода (сухо­
го или увлажненного) или пары воды, которые реагируют с
кремнием в высокотемпературной зоне. Получаемая таким об­
разом пленка S102 имеет аморфную структуру.
Механизм окисления имеет два варианта. Первый вариант
состоит из следующих этапов: 1) диффузия атомов кремния че­
рез уже имеющуюся пленку окисла к поверхности, 2) адсорб­
ция молекул кислорода поверхностью из газовой фазы, 3) соб­
ственно окисление, т.е. химическая реакция. В этом случае
пленка нарастает над исходной поверхностью кремния. Второй
вариант состоит из следующих этапов: 1) адсорбция кислорода
поверхностью уже имеющегося окисла, 2) диффузия кислорода

1 При влажном: окислении кислород предварительно пропускают через сосуд с
водой - так называемый барботер


6 4 Термическое окисление

175

через окисел к еще не окисленному кремнию, 3) собственно
окисление. В этом случае пленка нарастает вглубь от исходной
поверхности кремния. На практике оба механизма сочетаются,
но главную роль обычно играет второй.
Очевидно, что скорость роста окисла со временем должна
убывать, так как новым атомам кислорода приходится диффун­
дировать через все более толстый слой окисла. Полуэмпириче­
ская формула, связывающая толщину окисной пленки со вре­
менем термического окисления, имеет вид:
d

о::

kJi.,

где k - параметр, зависящий от температуры и влажности кис­
лорода.
Сухое окисление идет в десятки раз медленнее влажного.
Например, для выращивания пленки S102 толщиной 0,5 мкм в
сухом кислороде при 1000 ·с требуете.я около 5 ч, а во влаж­
ном - всего 20 мин. С уменьшением температуры на каждые
100 ·с время окисления возрастает в 2-3 раза.
В технологии ИС различают •толстые» и «тонкие» окислы
S102• Толстые окисльr (d = 0,5-0,8 мкм) выполняют функции
защитьr и маскировки, а тонкие (d = 0,05-0,15 мкм) - функ­
ции подзатворного диэлектрика в МОП-транзисторах.
Одной из важных проблем при выращивании пленки S102
являете.я обеспечение ее однородности. В зависимости от каче­
ства поверхности пластины, от чистоты реагентов и режима
выращивания в пленке возникают те или иные дефекты. Рас­
пространенным типом дефектов .являются микро- и макропо­
ры, вплоть до сквозных отверстий (особенно в тонком окисле).
Качество окисной пленки повышаете.я с уменьшением тем­
пературы ее выращивания, а также при использовании сухого
кислорода. Поэтому тонкий подзатворный окисел, от качества
которого зависит стабильность параметров МОП-транзистора,
получают сухим окислением. При выращивании толстого окис­
ла чередуют сухое и влажное окисление: первое обеспечивает
отсутствие дефектов, а второе позволяет сократить время про­
цесса.


176

Гдава 6. Техиодоrические основы микроодектропRКп

6.5. Легирование
Внедрение примесей в исходную пластину (или в эпитаксиа­
льный слой) путем диффузии при высокой температуре являет­
ся исходным и до сих пор основным способом легирования по­
лупроводников с целью создания диодных и транзисторных
структур. Этому способу мы уделим главное внимание. Однако
за последние годы широкое распространение получил и другой
способ легирования - ионная имплантация, - который рас­
сматривается в конце раздела.
Способы диффузии. Диффузия может быть общей и локаль­
ной. В первом случае она осуществляется по всей поверхности
пластины (рис. 6.5, а), а во втором - на определенных участ­
ках пластины через окна в маске, например, в слое Si0 2
(рис. 6.5, 6).

а)

б)

Рис. 6.5. Общая (а ) и докалъная (б) диффузия примеси в кремний

Общая диффузия приводит к образованию в пластине тонко­
го диффузионного слоя, который отличается от эпитаксиально­
го неоднородным (по глубине) распределением примеси (см.
кривую Na(x) на рис. 6.5).
В случае локальной диффузии примесь распространяется не
только вглубь пластины, но и во всех перпендикулярных на­
правлениях, т.е. под маску. В результате этой так называемой
боковой диффузии участок р-п-перехода, выходящий на повер­
хность, оказывается 4автоматически• защищенным окислом
(рис. 6.5, 6). Соотношение между глубинами боковой и основ­
ной - «вертикальной» - диффузии зависит от ряда факторов,
в том числе от глубины диффузионного слоя L. Типичным для
глубины боковой диффузии можно считать значение О, 7 L.


177

6.5. Леrироваиие

Диффузию можно проводить однократно и многократно. На­
пример, в исходную пластину п-типа можно во время 1-й диф­
фузии внедрить акцепторную примесь и получить р-слой , а за­
тем во время 2-й диффузии внедрить в полученный р-слой (на
меньшую глубину) донорную примесь и тем самым обеспечить
трехслойную структуру. Соответственно различают двойную и
тройную диффузию.
При проведении многократной диффузии следует иметь в
виду, что концентрация каждой новой вводимой примеси дол­
жна превышать концентрацию предыдущей, в противном слу­
чае тип проводимости не изменится, а значит, не образуется
р-п-переход. Между тем концентрацил примеси в кремнии
(или другом исходном материале) не может быть сколь угодно
большой: она ограничена особым параметром - предельной
растворимостью примеси. Предельная растворимость зависит
от температуры. При некоторой температуре она достигает
максимального значения Nпр макс• а затем снова уменьшается.
Максимальные предельные растворимости вместе с соответст­
вующими температурами приведены в табл. 6.1.
Таблица 6.1. МаксимаJIЪная предельная растворимость
типичных примесей в кремнии
Примесь

-з
N пр • с м

�

-

р

As

20-10
(1150 °С)

13-10
(1150 °С)
20

20

-

в

Sb
20

5.10
(1200 °С)

0,6-1020
(1300 °С)

'1

i11

Следовательно, если проводится многократная диффузия,
то для последней диффузии нужно выбирать материал с мак­
симальной предельной растворимостью. Поскольку ассорти­
мент примесных материалов ограничен, не удается обеспечить
более 3-х последовательных диффузий.
Примеси, вводимые путем диффузии, называют диффузан­
тами (бор, фосфор и др.). Источниками диффузантов являются
их химические соединения. Это могут быть и жидкости (BBr3 ,
РОС}), и твердые тела (В20 3, Р2 05), и газы (В2Н6, РН3 ).
Внедрение примесей обычно осуществляется с помощью га­
зотранспортных реакций - так же, как при эпитаксии и окис­
лении. Для этого используются либо однозонные, либо двух­
зонные диффузионные пе-ч,и .


178

Глава 6. Технологические основы м11кроэлектро1111к11

Двухзонные печи используются в случае твердых диффузан­
тов. В таких печах (рис. 6.6) имеются две высокотемператур­
ные зоны, одна - для испарения источника диффузанта, вто­
рая - собственно для диффузии. Пары источника диффузанта,
полученные в 1-й зоне, примешиваются к потоку нейтрального
газа-носителя (например, аргона) и вместе с ним доходят до 2-й
зоны, где расположены пластины кремния. Температура во 2-й
зоне выше, чем в 1-й. Здесь атомы диффузанта внедряются в
пластины, а другие составляющие химического соединения
уносятся газом-носителем из зоны.

2

2
8

Рис. 6.6. Схема двухзонной диффузионной печи: 1 - кварцевая труба;
2 - поток газа-носителя; 3 - источник диффузанта; 4 - пары источника
диффузанта; 5 - тигель с пластинами; 6 - пластина кремния; 7 - пер­
вая высокотемпературная зона; 8 - вторая высокотемпературная зона

В случае жидких и газообразных источников диффузанта
нет необходимости в их высокотемпературном испарении. Поэ­
тому используются однозонные печи, в которые источник диф­
фузанта поступает уже в газообразном состоянии.
При использовании жидких источников диффузанта диффу­
зию проводят в окислительной среде, добавляя к газу-носителю
кислород. Кислород окисляет поверхность кремния, образуя
окисел Si02, т.е. в сущности - стекло. В присутствии диффу­
занта (бора или фосфора) образуется боросиликатное или фос­
форно-силикатное стекло. При температуре выше 1000 ° эти
стекла находятся в жидком состоянии, покрывая поверхность
кремния тонкой пленкой, так что диффузия примеси идет,
строго говоря, из жидкой фазы. После застывания стекло за­
щищает поверхность кремния в местах диффузии, т.е. в окнах
окисной маски. При использовании твердых источников диф­
фузанта - окислов - образование стекол происходит в процес­
се диффузии без специально вводимого кислорода.
Теоретические основы диффузии. Теория диффузии основа­
на на двух законах Фика. 1-й закон Фика связывает плотность


179

6.5. Легирование

потока частиц J с градиентом их концентрации. В одномерном
случае
J = -D (dN/dx),

(6.la)

где D - коэффициент диффузии, N - концентрация.
2-й закон Фика характеризует скорость накопления частиц
нашем
случае - атомов примеси):
(в
(6.16)
Из уравнения (6.lб) можно найти функцию N (х, t), т.е. рас·
пределепие 1-опцептрации N(x) в любой момент времени. Для
этого нужно задаться двумя граничными условиями.
Пусть координатах = О соответствует той плоскости пласти­
ны, через которую вводится примесь (рис. 6.5). Тогда коорди­
ната противоположной плоскости равна толщине пластины d.
На практике глубина диффузионных слоев всегда меньше тол­
щины пластины (см. рис. 6.5): поэтому можно положить
N(d) = О. С математической точки зрения удобнее считать плас­
тину бесконечно толстой и в качестве 1-го граничного условия
принять
N(<IO, t) = О.

(6.2)

2-е граничное условие имеет два варианта, которые соответ­
ствуют двум разновидностям реального технологического про­
цесса.
1) Случай neozpanuчennozo источпика примеси. В этом слу­
чае диффузант непрерывно поступает к пластине, так что в ее
приповерхностном слое концентрация примеси поддерживает­
ся постоянной.
Граничное условие для этого варианта имеет вид:
N (О, t) = N8 = const,

(6.За)

где N8 -поверхпостпая (точнее - приповерхностная) концент­
рация. Обычно количество поступающего диффузанта обеспе­
чивает режим предельной растворимости, т.е. N8 = Nnp мru<c·
2) Случай ozpanuчennozo источпи1-а примеси. В этом случае
сначала в тонкий приповерхностный слой пластины вводят не­
которое количество атомов диффузанта, а потом источник диф­
фузанта отключают и атомы примеси перераспределяются по


180

Глава 6. Техволоrические основы микроэлектро1111ки

глубине пластины при неизменном их общем количестве. Пер­
вую стадию процесса называют •загонкой•, вторую - •разгон­
кой• примеси.
Для этого варианта можно записать условие в виде

fN(x) dx = Q = const,

00

(6.Зб)

о

где Q - количество атомов примеси на единицу площади (зада­
ется на этапе •загонки•).
Решая уравнение (6.lб) при граничных условиях (6.2) и
(6.За), получаем распределение концентрации при неограни­
ченном источнике (рис. 6. 7, а):
N(x, t) ""N,erfc(x/2./Dt),

(6.4а)

где erfc (z) - дополнительная функция ошибок, близкая к экс­
поненциальной функции e-z.
N
N,

N
N,=const

j
о

No

о.._______._
___...,
х
L
а)

N

Ndx=const

No

о.._____........,
.____...,х
L
б)

N

Рис. 6.7. Распределение примеси при диффузии из н':!ограниченного (а)
и ограниченного (б) источников для разных моментов времени

Решая уравнение (6.lб) при условиях (6.2) и (6.Зб), получа­
ем распределение концентрации при ограниченном источнике
(рис. 6. 7, 6):
2 4DI).
N( Х, t) = �� е -х /(
1t Dt

(6.4б)

В данном случае распределение описывается функцией Гаус­
са, которая характерна нулевой начальной производной, вали-


181

6.5. Леrироваиие

чием точки перегиба и почти экспоненциальным •хвостом• по­
сле этой точки.
Под глубиной диффузионного слоя (глубиной диффузии) по­
нимают координату х = Lw при которой концентрация введен­
ной примеси N равна концентрации исходной примеси NO (рис.
6. 7). Величину LN нетрудно найти из выражений (6.4), полагая
в левой части N = N0•
Аппроксимируя функцию (6.4а) экспонентой, получаем для
неограниченного источника

логарифмируя обе части (6.4б), получаем для ограниченного
источника
LN = 2✓Dt ln

k

N0 тт.Dt

Оба выражения имеют одинаковую структуру и позволяют
сделать два важных общих вывода:
□ время проведения диффузии пропорционально квадрату же­
лательной глубины диффузии; поэтому получение глубоких
диффузионных слоев требует большого времени; в ИС глу­
бина рабочих диффузионных слоев обычно лежит в преде­
лах 1-4 мкм;
Dлu•см 2/с
D,см2/с
о при заданной глубине диффузи­
6
онного слоя изменения коэффи· 10'" 9 ,----,,----,,----,,----, 10циента диффузии эквивалентf-r----,l----f---,,"---, 10 -1
ны изменениям времени процес- 10 · I О 1--са.
Второй вывод заслуживает бо­
лее детального рассмотрения. На
рис. 6.8 показана температурная
зависимость коэффициентов диф­ 10-13 ,___,,__,__�,_____,,___,
фузии для некоторых материалов, 1 о- 14
применяемых в технологии ИС.
1000
1200
Т, С
Как видим, эта зависимость экспо­ Ряс. 6.8. Зависимость коэффи­
ненциальная, т.е. весьма сильная: циентов диффузии типичных
при ЛТ = 100 °С коэффициент диф­ (для кремния) примесей от тем­
фузии менается на порядок, а при пературы. Для золота масштаб
на 3 порядка меньше
ЛТ = ±1 °С -- на ± 2,5%.
--,

L--L.L.....--JL.....--JL.....--1
0


182

Глава 6. Техиолоrические осиовьr микроэлектроники

Последняя цифра, казалось бы, невелика, но ее истинное значение
можно проиллюстрировать следующим простым расчетом. Если
ЛD/D = 2,5%, то разброс глубины диффузии составит± 1,25% или,
при LN = 4 мкм, около ± 0,05 мкм. Значит, ширина базы w, равная
LNб - LNэ , может получиться с ошибкой 0,1 мкм, что при w = 0,5 мкм
составит 20%. Поскольку коэффициент р и предельная частота fт об­
ратно пропорциональны величине w2 , их разброс превысит 40%.

Из сказанного ясна необходимость прецизионной регулиров­
ки температуры в диффузионных печах. Допустимая нестабиль­
ность температуры составляет до ± 0,2 °С (т.е. сотые доли про­
цента).
Ионная имплантация. Ионной имплантацией называют ме­
тод легирования пластины (или эпитаксиального слоя) путем
бомбардировки ионами примеси, ускоренными до энергии, до­
статочной для их внедрения вглубь твердого тела.
Ионизация атомов примеси, ускорение ионов и фокусировка
ионного пучка осуществляются в специальных установках
типа ускорителей частиц в ядерной физике. В качестве приме­
сей используются те же материалы, что и при диффузии.
Глубина внедрения ионов зависит от их энергии и массы.
Чем больше энергия, тем больше получается толщина имплан­
тированного слоя. Однако с ростом энергии возрастает и коли­
чество радиационных дефектов в кристалле, т.е. ухудшаются
его электрофизические параметры. Поэтому энергию ионов
ограничивают величиной 100-150 кэВ. Нижний уровень со­
ставляет 5-10 кэВ. При таком диапазоне энергии глубина слоев
лежит в пределах 0,1-0,4 мкм, т.е. она значительно меньше ти­
пичной глубины диффузионных слоев.
Концентрация примеси в имплантированном слое зависит от
плотности тока в ионном пучке и врещени процесса или, как
говорят, от времени экспозиции. В зависимости от плотности
тока и желательной объемной концентрации врем.я экспозиции
составляет от нескольких секунд до 3-5 мин и более (иногда до
1-2 ч). Разумеете.я, чем больше время экспозиции, тем, оп.ять
же, больше количество радиационных дефектов.
Типичное распределение примеси при ионной имплантации
показано на рис. 6.9 сплошной кривой. Как видим, это распре­
деление существенно отличается от диффузионного наличием
максимума. Вблизи максимума кривая хорошо аппроксимиру­
ется функцией Гаусса, см. (6.4б).


6.5. Легирование

183

3
N,смПоскольку площадь ионного
пучка меньше площади пласти­
ны (а иногда и кристалла), то
приходится сканировать пу­
чок, т.е. плавно или «шагами•
переме щать его (с помощью 10i9
Not-------специальных отклоняющих си­
стем) поочередно по всем «стро­
кам• пластиньr, на которых 10 18 �-�--�-��0,1
0,2 LN х, мкм
о
расположены отдельные ИС.
По завершении процесса ле­ Рис. 6.9. Распределение примесей
гирования пластину обязательпри ионной имплантации
но подвергают отжигу при температуре 500-800 °С для того, чтобы упорядочить кристалличе­
скую решетку кремния и устранить (хотя бы частично)
неизбежные радиационные дефекты. При температуре отжига
процессы диффузии несколько меняют профиль распределения
(см. штриховую кривую на рис. 6.9).
Ионная имплантация так же, как диффузия, может быть об­
щей и локальной (избирательной). В последнем, более типич­
ном случае облучение (бомбардировка) проводится через маски,
в которых длина пробега ионов должна быть значительно мень­
ше, чем в кремнии. Материалом для масок могут служить рас­
пространенные в ИС двуокись кремния и алюминий. При этом
важным достоинством ионной имплантации является то, что
ионы, двигаясь по прямой линии, внедряются только вглубь
пластины, а аналогия боковой диффузии (под маску) практиче­
ски отсутствует.
В принципе ионную имплантацию, каF и диффузию, можно
проводить многократно, «встраивая>) один слой в другой. Одна­
ко сочетание энергий, времен экспозиции и режимов отжига,
необходимое для многократной имплантации, оказывается за­
труднительным. Поэтому ионная имплантация получила глав­
ное распространение при создании тонких одинарных слоев.
Главными преимуществами ионной имплантации являются:
низкая температура процесса и его хорошая контролируемость.
Низкая температура обеспечивает возможность проведения
ионной имплантации на любом этапе технологического цикла,
не вызывая при этом дополнительной диффузии примесей в ра­
нее изготовленных слоях.


184

Глава 6. Техяолоrические осяовы микроэлектрояики

6.6. Травление
Обычно травление ассоциируется с использованием специаль­
ных растворов - травителей для общего или локального удале­
ния поверхностного слоя твердого тела на ту или иную глубину.
Действительно, жидкие травители остаются главным средством
для достижения указанной цели. Однако в технологии микро­
электроники появились и другие средства, выполняющие ту же
задачу. Поэтому в общем случае травление можно рассматри­
вать как не механические способы изменения рельефа поверхно­
сти твердого тела.
Классический процесс химического травления состоит в хи­
мической реакции жидкого травителя с твердым телом с обра­
зованием растворимого соединения; последнее смешивается с
травителем и в дальнейшем удаляется вместе с ним. Переход
поверхностного слоя твердого тела в раствор означает удаление
этого слоя. Однако, в отличие от механического удаления,
травление обеспечивает гораздо большую прецизионность про­
цесса: стравливание происходит плавно - один мономолеку­
лярный слой за другим. Подбирая травитель, его концентра­
цию, температуру и время травления, можно весьма точно ре­
гулировать толщину удаляемого слоя. Например, при
химической полировке пластины кремния (см. раздел 6.2), ис­
пользуя соответствующий травитель, можно обеспечить ско­
рость травления 0,1 мкм/мин, т.е. за 20-30 с снять слой тол­
щиной всего 40-50 нм.
Для большей равномерности травления и удаления продук­
тов реакции с поверхности ванночку с раствором вращают в на­
клонном положении (динамическое травление) или вводят в
раствор ультразвуковой вибратор (ультразвуковое травление).
Конечно, травление подчиняется законам физической хи­
мии, но в реальных условиях имеется столько привходящих
обстоятельств, что рецептура травителей для каждого материа­
ла подбирается не расчетным путем, а экспериментально.
Характерной особенностью локального травления (через за­
щитную маску) является так называемое подтравливание
(рис. 6.10, а) - эффект, в какой-то мере аналогичный боковой
диффузии (рис.6.5, б). Он выражается в том, что травление
идет не только вглубь пластины, но и в стороны - под маску. В
результате стенки вытравленного рельефа оказываются не со-


185

6.6. Травление

всем вертикальными, а площадь углубления - несколько боль11Iе площади окна в маске.
Травитель
(111)

Si

а)

6)

Рис. 6.10. Локальное травление кремния;
а - изотропное; 6 - анизотропное

Электролитическое травление отличается тем, что химиче­
ская реакция жидкости с твердым телом и образование раство­
римого соединения происходят в условиях протекания тока че­
рез жидкость, причем твердое тело играет роль одного из элект­
родов - анода. Значит, твердое тело в данном случае должно
обладать достаточной электропроводностью, что, конечно, огра­
ничивает круг используемых материалов. Преимуществом
электролитического травления является возможность регули­
ровать скорость травления путем изменения тока в цепи и пре­
кращать процесс путем его отключения.
Так называемое ионное травление (один из специфических
процессов в микроэлектронике) не связано с использованием
жидкостей. Пластина кремния помещается в разреженное про­
странство, в котором, невдалеке от пластины, создается тлею­
щий разряд. Пространство тлеющего разряда заполнено квази­
нейтральной электронно-ионной плазмой. На пластину отно­
сительно плазмы подается достаточно большой отрицательнь1й
потенциал. В результате положительные ионы плазмы бомбар­
дируют поверхность пластины и слой за слоем выбивают атомы
с поверхности, т.е. травят ее 1 . Аналогичным способом дости­
гается очистка поверхности от загрязнений - ионная оч:истка.
Структура ионно-плазменных установок описана в разделе 6.9.
1 Напряжение, свойственное ионному травлению (2-3 кэВ), значительно мень­
ше ускоряющих напряжений при ионной имплантации, поэтому внедµение
ионов в пластину не происходит.


186

Глава 6. Технологические основы микроэлектроиики

Ионное травление, как и химическое, может быть общим и
локальным. Несомненным преимуществом локального ионного
травления .явл.яется отсутствие �подтравливания» под маску:
стенки вытравленного рельефа практически вертикальны, а
площади углублений равны площади окон в маске.
Общее преимущество ионного травления заключается в его
универсальности (не требуется индивидуального кропотливого
подбора травителей для каждого материала), а общий недоста­
ток - в необходимости дорогостоящих установок и значитель­
ных затрат времени на создание в них нужного вакуума.
За последние годы разработаны и широко используются ме­
тоды так называемого анизотропного травления. Эти методы
основаны на том, что скорость химической реакции, лежащей в
основе классического травления, зависит от кристаллографиче­
ского направления. Наименьшая скорость свойственна направ­
лению (111), в котором плотность атомов на единицу площади
максимальна (рис. 2.2), а наибольша.я - направлению (100), в
котором плотность атомов минимальна. Поэтому при использо­
вании специальных анизотропных травителей скорость травле­
ния оказывается разной в разных направлениях и боковые
стенки лунок приобретают определенный рельеф - огранку.
Пример огранки при травлении в плоскости (100) показан на
рис. 6.10, б. Как видим, в данном случае травление идет парал­
лельно плоскост.ям (111), поскольку в направлении (111), пер­
пендикул.ярном этой плоскости, скорость травлени.я намного
меньше, чем в других направлениях.
Углы, под которыми вытравливаются боковые стенки лу­
нок, строго определены и поддаются расчету [например, на
рис. 6.10, 6 угол между плоскостями (100) и (111) составляет
61,5 ° ]. Поэтому вместе с методом масок метод анизотропного
травления дает разработчику ИС возможность проектировать
рельеф отверстий не только по плоскости, но и по глубине.
Тот факт, что плоскость (111) как бы •непроницаема» для
травителя, обеспечивает еще одно преимущество анизотропно­
го травления: если края окон в маске ориентированы по осям
(100), то отсутствует явление подтравливания, свойственное
изотропному травлению (рис. 6.10, а). Соответственно при ани­
зотропном травлении наружные размеры лунок могут практи­
чески совпадать с размерами окон в маске.


6.7. Техника масок

187

6. 7. Техника масок

В технологии полупроводниковых приборов важное место
занимают маски: они обеспечивают локальный характер напы­
ления, легирования, травления, а в некоторых случаях и эпи­
таксии. Всякая маска содержит совокупность заранее спроек­
тированных отверстий - окон. Изготовление таких окон есть
задача литографии (гравировки). Ведущее место в технологии
изготовления масок сохраняет фотолитография, которой мы
уделим главное внимание.
Фотолитография. В основе фотолитографии лежит использо­
вание материалов, которые называют фоторезистами. Это раз­
новидность фотоэмульсий, известных в обычной фотографии.
Фоторезисты чувствительны к ультрафиолетовому свету, поэто­
му их можно обрабатывать в не очень затемненном помещении.
Фоторезисты бывают негативные и позитивные. Негативные
фоторезисты под действием света полимеризуются и становятся
устойчивыми к травителям (кислотным или щелочным). Зна­
чит, после локальной засветки будут вытравливаться незасве­
ченные участки (как в обь1чном фотонегативе). В позитивных
фоторезистах свет, наоборот, разрушает полимерные цепочки
и, значит, будут вытравливаться засвеченные участки.
Рисунок будущей маски изготавливается в виде так называ­
емого фотошаблона (рис. 6.11). Фотошаблон представляет со­
бой толстую стеклянную пластину, на одной из сторон которой
нанесена тонкая непрозрачная плен­
ка с необходимым рисунком в виде
прозрачных отверстий. Размеры этих
отверстий (элементов рисунка) в мас­
штабе 1: 1 соответствуют размерам
будущих элементов ИС, т.е. могут со­
А-А
ставлять как десятки и единицы
микронов, так и доли микрона (в
ПЖJ
�пu
случае т. н. субмикронной техноло­
гии). Поскольку ИС изготавливаются
групповым методом (см. раздел 1.2),
Рис. 6.11. Фрагмент
на фотошаблоне по <<Строкам» и
фотошаблона (в плане
�столбцам•> размещается множество
и в разрезе)
однотипных рисунков. Размер каж­
дого рисунка соответствует размеру будущего кристалла ИС.

1D) 1D)
лr 1D) 1D)

11

1/ 1


188

Глава 6. Техпологические основы микроэлектроники

Процесс фотолитографии для получения окон в окисной ма­
ске Si0 2 , покрывающей поверхность кремниевой пластины, со­
стоит в следующем (рис. 6.12).
Травитель
,;,

1/

х

/

J/

л

1/ 1/

л

/

-

�

S1

а)

б)

в)

Рис. 6.12. Этапы процесса фотолитографии. а - экспозиция фоторезиста
через фотошаблон; б - локальное травление двуокиси кремния через фото­
резистную маску, в - окисная маска после уда.ления фоторезиста

На окисленную поверхность пластины наносится капля фо­
торезиста (ФР). С помощью центрифуги каплю распределяют
тонким слоем (около 1 мкм) по всей поверхности. Полученную
пленку фоторезиста высушивают до затвердевания. На пласти­
ну, покрытую фоторезистом, накладывают фотошаблон ФШ
(рисунком к фоторезисту) и экспонируют его в лучах кварцевой
лампы (рис. 6.12, а). После этого фотошаблон снимают.
Если используется позитивный фоторезист (см. выше), то
после проявления и закрепления (которое состоит в задублива­
нии и термообработке фоторезиста) в нем получаются окна на
тех местах, которые соответствуют прозрачным участкам на
фотошаблоне1 • Как говорят, мы перенесли рисунок с фотошаб­
лона на фоторезист. Теперь слой фоторезиста представляет со­
бой маску, плотно прилегающую к окисному слою
(рис. 6.12, б).
Через фоторезистную маску производится травление окисно­
го слоя вплоть до кремния (на кремний данный травитель не
действует). В результате рисунок с фторезиста переносится на

1 Если используется негативный фоторезист, то и фотошаблон должен быть не­
гативным, т.е. будущим отверстиям в окисной маске должны соответствовать
непрозрачные участки


6,7. Техника масок

189

окисел. После удаления (стравливания) фоторезистной маски
конечным итогом фотолитографии оказывается кремниевая
пластина, покрытая окисной маской (рис. 6.12, в и 6.4, б). Че­
рез окна в этой маске можно осуществлять диффузию, ионную
имплантацию, травление и т.п.
В технологических циклах изготовления диодов, транзисто­
ов
р и тем более ИС процесс фо­
t/ Фотошаблон
используется
толитографии
многократно (отдельно для по­
лучения базовых слоев, эмит­
теров, омических контактов и
т.д.). При этом возникает так
называема.я проблема совмеще­
ния фотошаблонов. Суть этой
проблемы иллюстрируется на Рис. 6.13. Совмещение фотошаблона
с рисунком на поверхности ИС
рис. 6.13.
Пусть с помощью предьщущей фотолитографии и диффузии в плас­
тине выполнен р-слой шириной 30 мкм, а с помощью следующей фото­
литографии и диффузии нужно внутри р-слоя получить п-слой шири­
ною 10 мкм (показан штрихами), смещенный на 7 мкм относительно
центра р-слоя. Для этого рисунок 2-го фотошаблона необходимо совме­
стить с уже существующим рельефом (т.е. с границами р-слоя) с точ­
ностью не менее О, 1 от минимального размера изображения.

При многократном использовании фотолитографии (в техно­
логии ИС до 15-20 раз) допуск на совмещение доходит до со­
тых долей: микрона. Техника совмещения состоит в том, что на
фотошаблонах делают специальные «отметки� (например, кре­
стики или квадраты), которые переходят в рисунок на окисле и
просвечивают сквозь тонкую пленку фоторезиста. Накладывая
очередной фотошаблон, аккуратнейшим образом (под микро­
скопом) совмещают отметки на окисле с аналогичными отмет­
ками на фотошаблоне.
Рассмотренный: процесс фотолитографии характерен для по­
лучения окисных масок на кремниевых пластинах с целью по­
следующей локальной: диффузии. В этом случае фоторезистная
маска (рис. 6.12, 6) является промежуточной, вспомогатель­
ной, так как она не выдерживает высокой температуры, при
которой проводится диффузия. Однако в некоторых случаях,
когда процесс идет при низкой температуре, фоторезистные ма­
ски могут быть основными - рабочими. Примером может слу-


190

Глава 6. Техволоrичес1ше основы микроэлектрошmи

жить процесс создания металлической разводки в полупровод­
никовых ИС (см. раздел 6.9).
Фотошаблоны. Первым этапом процесса изготовления фото­
шаблонов является конструирование и вычерчивание послой­
ной топологии фотошаблонов. Ранее, когда размеры элементов
топологии составляли единицы микрон, а количество элемен­
тов на кристалле не превышало десятков тысяч, фотошаблоны
вычерчивались на специальных координатографах в масштабе
100:1 и 300:1. В настоящее время при субмикронных размерах
элементов и их количестве на кристалле до десятков миллио­
нов, фотошаблоны изготавливаются только с помощью компь­
ютерных комплексов, использующих методы электронно-луче­
вой литографии в масштабах 1:1 и 4:1. При этом объем данных
при проектировании уже в настоящее время достигает 0,5-1
Гбайт, а в перспективе 10-100 Гбайт.
Следующим этапом является так называемый промежуточ­
ный отсъем оригинала, т.е. его фотографирование на стеклян­
ную фотопластинку с необходимым уменьшением размеров и,
если необходимо, - мультиплицированием (см. рис. 6.11). Ре­
дуцирование размеров при финальном отсъеме зависит от мас­
штаба при промежуточном отсъеме. Мультиплицирование осу­
ществляется на специальных фотоштампах, «размножающих�►
изображение кристалла на всю подложку фотошаблона разме­
ром до 150х150 мм2 .
Фотошаблоны изготавливаются комплектами по числу опе­
раций фотолитографии в технологическом цикле. В пределах
каждого комплекта фотошаблоны согласованы, т.е. обеспечива­
ют взаимную ориентацию и совмещение с заданной точностью.
Одним из слабых мест классической фотолитографии явля­
ется механический контакт фотошаблона с пластиной, покры­
той фоторезистом. Такой контакт никогда не может быть совер­
шенным и сопровождается разного рода искажениями рисунка.
Конкурирующим методом является проекционная фотолитог­
рафия, при которой рисунок фотошаблона проектируете.я на
пластину с помощью специальной оптической системы.
Новые решения и тенденции. Описанные выше процессы до
сих пор не потеряли своего значения в качестве одной из основ
микроэлектронной технологии. Однако по мере повышения
степени интеграции и уменьшения размеров элементов ИС воз­
ник ряд проблем, которые частично уже решены, а частично
находятся в стадии изучения.


6.7. Техяика масок

191

Одно из принципиальных ограничений фотолитографии
асается
разрешающей способности, т.е. минимальных раз­
к
меров в создаваемом рисунке маски. Из-за дифракции света
минимальный размер изображения на кристалле (при длине
волны ультрафиолетового источника засветки фотошаблона
0,5-0,2 мкм) не может быть с допустимой точностью +10% ме­
нее 1,0-0,4 мкм. Между тем уже в настоящее время при созда­
нии больших и сверхбольших ИС такие размеры элементов
оказываются недостаточно малыми.
Наиболее очевидный путь для повышения разрешающей
способности литографии - использование при экспозиции бо­
лее коротковолновых излучений, например, мягкого рентге­
новского (с длинами волн 1-2 нм). Одной из наиболее трудно­
разрешимых проблем рентгенолитографии является создание
рентгеношаблонов с масштабом Ml:1 и рентгенорезистов. Дру­
гой тяжелой задачей является поиск адекватнь1х методов со­
вмещения шаблонов.
За последние годы разработаны методы электронной лито
графии. Их сущность состоит в том, что сфокусированный пу­
чок электронов сканируют (т.е. перемещают �построчно>>) по
поверхности пластины, покрытой резистом, и управляют ин­
тенсивностью пучка в соответствии с заданной программой. В
тех точках, которые должны быть •засвечены», ток пучка мак­
симален, а в тех, которые должны быть �затемнены,>, - мини­
мален или равен нулю. Диаметр пучка электронов находится в
прлмой зависимости от тока в пучке: чем меньше диаметр, тем
меньше ток. Однако с уменьшением тока растет время экспози­
ции. Поэтому повышение разрешающей способности (уменьше­
ние диаметра пучка) сопровождается увеличением длительно­
сти процесса.
Одна из разновидностей электронной литографии основана
на отказе от резисторных масок и предусматривает воздействие
электронного пучка непосредственно на окисный слой SiO 2 •
Оказывается, что в местах «засветки» этот слой в дальнейшем
травится в несколько раз быстрее, чем в <•затемненных» участ­
ках.
Что касается проблемы совмещения рисунков, то ее стара­
ются решать путем самосовмещения. Этот принцип можно оха­
рактеризовать как использование ранее полученных структур­
ных элементов в качестве масок для получения последующих


192

Глава 6. Технолоrические основы микроэлектроники

элементов. Примерами могут служить изопланарная техноло­
гия (рис. 7.10) и технология МОЛ-транзисторов с самосовме­
щенным затвором (рис. 7.30 и 7.31).
Реальный прогресс и ближайшие перспективы промышлен­
ных методов литографии показаны на рис. 6.14.
1,5
1,0
0,7
0,5
0,35
0,25
0,18
0,15
0,10

N=lM
1,5М
2,5М
4М
7М
lЭМ

z-1
п- 1

25М

ш-1

50М

90М
0,07 ��-�-�-����-�-�-�-1983 1986 1989 1992 1995 1998 2001 2004 200 7 2010 t,rоды

Рис. 6.14. Прогресс и перспективы промышленных методов литографии.
I - оптическая литография с длиной волны 365 нм, 248 нм и 193 нм.
II - рентгенолитоrрафия или прямое получение рисунка с помощью элект­
ронного луча. III - электронно-лучевая проекционная литография.
N - количество логических элементов микропроцессора
на 1 см' кристалла БИС

Если считать, что темпы развития микроэлектроники до
2010 г. не изменятся, то каждые три года, по-прежнему, мини­
мальный размер элементов будет уменьшаться с коэффициен­
том О, 7. Для достижения таких разрешений, естественно, пона­
добятся и новые маскирующие материалы (резисты), и новые
производительные установки экспонирования, и новые, интег­
рированные технологические процессы, отличающиеся от со­
временных повышенными экологическими требованиями.
На рис. 6.14 показаны наиболее вероятные методы, уже апро­
бированные в научнь1х лабораториях, которые могут обеспечить
требуемые разрешения на пластинах кремния диаметром до 300
мм. При этом еще одной сложнейшей проблемой, решение кото­
рой предстоит найти, является поиск экономичных методов со­
вмещения и контроля жестких допусков на совмещение.


6.8. Наиесеиие тоиких плевок

193

6.8. Нанесение тонких плевок
Тонкие пленки не только являются основой тонкопленоч­
х
ны ГИС, но широко используются и в полупроводниковых ин­
тегральных схемах. Поэтому методы получения тонких пленок
относятся к общим вопросам технологии микроэлектроники.
Существуют три основных метода нанесения тонких пленок
на подложку и друг на друга: термическое (вакуумное) напы
ление, ионно-плазменное напыление и электрохимическое
осаждение. Ионно-плазменное напыление имеет две разновид­
ности: катодное напыление и собственно ионно-плазменное.
Термическое (вакуумное) напыление. Схема этого метода
показана на рис. 6.15. Металлический или стеклянный колпак
I расположен на опорной плите 2. Между ними находится про­
кладка 3, обеспечивающая поддержание вакуума после откач­
ки подколпачного пространства. Подложка 4, на которую про­
водится напыление, закреплена
1
на держателе 5. К держателю
6
примыкает нагреватель 6 (напы­
ление проводится на нагретую
5
подложку). Испаритель 7 вклю­
4
чает в себя нагреватель и источ­
8
ник напыляемого вещества. По­
7
воротная заслонка 8 перекрывает
поток паров от испарителя к подложке: напыление длится в тече3
ние времени, когда заслонка от­
2
крыта.
Нагреватель обычно представРис. 6.15. Схема установки тер•
ляет собой нить или спираль из
мического напыления
тугоплавкого металла (вольфрам,
молибден и др.), через которую
пропускается достаточно большой ток. Источник напыляемого вещества связывается с нагре­
вателем по-разному: в виде скобок ( нусариков� ), навешивае­
мых на нить накала; в виде небольших стержней, охватывае­
мых спиралью, в виде порошка, засыпанного в тигель,
нагреваемый спиралью, и т.п. Вместо нитей накала в последнее
время используют нагрев с помощью электронного луча или
луча лазера.
7- 3423


194

_________Г_л_а_в_а_6_._Т_ е_хнологические основы микроэл ектроники

На подложке создаются наиболее благоприятные условия
для конденсации паров, хотя частично конденсация происхо­
дит и на стенках колпака. Слишком низкая температура под­
ложки препятствует равномерному распределению адсорбируе­
мых атомов: они группируются в «островки•> разной толщины,
часто не связанные друг с другом. Наоборот, слишком высокая
температура подложки приводит к отрыву только что осевших
атомов, к их <•реиспарению•. Поэтому для получения качест­
венной пленки температура подложки должна лежать в некото­
рых оптимальных пределах (обычно 200-400 °С). Скорость рос­
та пленок в зависимости от ряда факторов (температура нагре­
вателя, температура подложки, расстояние от испарителя до
подложки, тип напыляемого материала и др.) лежит в преде­
лах от десятых долей до десятков нанометров в секунду.
Прочность связи - сцепления пленки с подложкой или дру­
гой пленкой - называется адгезией. Некоторые распространен­
ные материалы (например, золото) имеют плохую адгезию с ти­
пичными подложками, в том числе с кремнием. В таких случа­
ях на подложку сначала наносят так называемый подслой,
характерный хорошей адгезией, а затем на него напыляют
основной материал, у которого адгезия с подслоем тоже хоро­
шая. Например, для золота подслоем могут быть никель или
титан.
Для того чтобы атомы газа, летящие от испарителя к под­
ложке, испытывали минимальное количество столкновений с
атомами остаточного газа и тем самым минимальное рассеяние,
в подколпачном пространстве нужно обеспечивать достаточно
высокий вакуум. Критерием необходимого вакуума может слу­
жить условие, чтобы средняя длина свободного пробега атомов
в несколько раз превышала расстояние между испарителем и
подложкой. Однако этого условия часто недостаточно, так как
любое количество остаточного газа чревато загрязнением напы­
ляемой пленки и изменением ее свойств. Поэтому в принципе
вакуум в установках термического напыления должен быть
как можно более высоким. В настоящее время вакуум ниже
10- 6 мм рт. ст. считается неприемлемым, а в ряде первоклас­
сных напылительных установок он доведен до 10-11 мм рт. ст.
Главными достоинствами рассмотренного метода являются
его простота и возможность получения исключительно чистых
пленок (при высоком вакууме). Однако у него есть и серьезные


6.8. Наиесеяие топких пленок

195

недостатки: трудность напыления тугоплавких материалов и
трудность (а иногда невозможность) воспроизведения на под­
ложке химического состава испаряемого вещества. Последнее
объясняется тем, что при высокой температуре химические со­
единения диссоциируют, а их составляющие конденсируются
на подложке раздельно. Естественно, имеется вероятность того,
что новая комбинация атомов на подложке не будет соответст­
вовать структуре исходной молекулы.
Катодное напыление. Схема этого метода показана на
рис. 6.16. Здесь большинство компонентов те же, что и на
рис. 6.15. Однако отсутствует испаритель: его место по расположению
(и по функции) занимает катод 6, ко­
торый либо состоит из напыляемого
5
вещества, либо электрически кон­
тактирует с ним. Роль анода выпол­
няет подложка вместе с держателем.
6
Подколпачное пространство сна­
7
чала откачивают до 10-5-10-5 мм рт.
3
ст., а затем в него через штуцер 8
вводят некоторое количество очи­
щенного нейтрального газа (чаще
всего аргона), так что создается дав- Рис. 6.16. Схема установки
катодного напыления
ление 10-1-10- 2 мм рт. ст. При подаче высокого (2-3 кВ) напряжения на
катод (анод заземлен из соображений
электробезопасности) в пространстве анод-катод возникает ано­
мальный тлеющий разряд, сопровождающийся образованием
квазинейтральной электронно-ионной плазмы.
Специфика аномального тлеющего разряда состоит в том,
что в прикатодном пространстве образуется настолько сильное
электрическое поле, что положительные ионы газа, ускоряе­
мые этим полем и бомбардирующие катод, выбивают из него не
только электроны (необходимые для поддержания разряда), но
и нейтральные атомы. Тем самым катод постепенно разрушает­
ся. В обь1чных газоразрядных приборах разрушение катода не­
допустимо (поэтому в них используется нормальный тлеющий
Разряд), но в данном случае выбивание атомов из катода явля­
ется полезным процессом, аналогичным испарению.


196

Глава 6. Техиологические осиовы микроэлектроиики

Важным преимуществом катодного напыления по сравне­
нию с термическим является то, что распыление катода не свя­
зано с высокой температурой. Соответственно отпадают трудно­
сти при напылении тугоплавких материалов и химических сое ­
динений (см. последний абзац предыдущего раздела).
Однако в данном методе катод (т.е. напыляемый материал),
будучи элементом газоразрядной цепи, должен обладать высо­
кой электропроводностью. Такое требование ограничивает ас­
сортимент напыляемых материалов. В частности, оказывается
невозможным напыление диэлектриков, в том числе многих
окислов и других химических соединений, распространенных в
технологии полупроводниковых приборов.
Это ограничение в значительной мере устраняется при исполь­
зовании так называемого реактивного (или химического) катод­
ного напыления, особенность которого состоит в добавлении к
основной массе инертного газа небольшого количества актив­
ных газов, способных образовывать необходимые химические
соединения с распыляемым материалом катода. Например,
примешивая к аргону кислород, можно вырастить на подложке
пленку окисла. Примешивая азот или моноокись углерода,
можно получить нитриды или карбиды соответствующих ме­
таллов. В зависимости от парциального давления активного
газа химическая реакция может происходить либо на катоде (и
тогда на подложке осаждается уже готовое соединение), либо
на подложке-аноде.
Недостатками катодного напыления в целом являются неко­
торая загрязненность пленок (из-за использования сравнитель­
но низкого вакуума), меньшая по сравнению с термическим ме­
тодом скорость напыления (по той же причине), а также слож­
ность контроля процессов.
Ионно-плазменное напыление. Схема этого метода показана
на рис. 6.17. Главная его особенность по сравнению с методом
катодного напыления состоит в том, что в промежутке между
электродом 9 - мишенью (с нанесенным не нее напыляемьхм
материалом) и подложкой 4 действует независимый, <<дежур­
ный» газовьrй разряд. Разряд имеет место между электродами
6 и 7, причем тип разряда - несамостоятельный дуговой. Для
этого типа разряда характерны: наличие специального источ­
ника электронов в виде накаливаемого катода (6), низкие рабо­
чие напряжения (десятки вольт) и большая плотность элект-


6.8. Напесеппе топких пленок

197

ронно-ионной плазмы. Под­
1
колпачное пространство, как и
5
при катодном напылении, за­
полнено нейтральным газом,
4
но при более низком давлении
7
(10-3-10-4 мм рт. ст.).
6
Процесс напыления состоит
9
в следующем. На мишень от­
носительно плазмы (практиче­
3
ски - относительно заземлен­
ного анода 7) подается отрица­
2
8
тельный потенциал (2-3 кВ),
Рис. 6.17. Схема установки
достаточный для возникновеионно-плазменного напыления
ния аномального тлеющего
разряда и интенсивной бомбардировки мишени положительными ионами плазмы. Выби­
ваемые атомы мишени попадают на подложку и осаждаются на
ней. Таким образом, принципиальных различий между процес­
сами катодного и ионно-плазменного напыления нет. Различа­
ются лишь конструкции установок: их называют соответствен­
но двух- и трехэлектродными.
Начало и конец процесса напь�ления определяются подачей
и отключением напряжения на мишени. Если предусмотреть
механическую заслонку (см. рис. 6.15), то ее наличие позволя­
ет реализовать важную дополнительную возможность: если до
начала напыления закрыть заслонку и подать потенциал на
мишень, то будет иметь место ионная очистка :мишени (см. раз­
дел 6.6). Такая очистка полезна для повышения качества напы­
ляемой пленки. Аналогичную очистку можно проводить на
подложке, подавал на нее (до напыления пленки) отрицатель­
ный потенциал.
При напылении диэлектрических пленок возникает затруд­
нение, связанное с накоплением на мишени положительного
заряда, препятствующего дальнейшей ионной бомбардировке.
Это затруднение преодолевается путем использования так на­
ЗЬIВаемого высокоч.астотпого ионно-плазменного напыления.
В этом случае на мишень наряду с постоянным отрицательньrм
напр яжением подается переменное напряжение высокой часто­
ты (около 15 МГц) с амплитудой, несколько превьrшающей по­
стоянное напряжение. Тогда во время большей части периода


198

Глава 6. Технологические основы мякроэлектроиикя

результирующее напряжение отрицательно; при этом происхо­
дит обычный процесс распыления мишени и на ней накапли­
вается положительный заряд. Однако во время небольшой час­
ти периода результирующее напряжение положительно; при
этом мишень бомбардируется электронами из плазмы, т.е. рас­
пыления не происходит, но зато компенсируется накопленный
положительный заряд 1 .
Вариант реактивного (химического) ионно-плазменного на­
пыления открывает те же возможности получения окислов, ни­
тридов и других соединений, что и реактивное катодное напы­
ление (см. предыдущий раздел).
Преимущества собственно ионно-плазменного метода по
сравнению с катодным состоят в большей скорости напыления
и большей гибкости процесса (возможность ионной очистки,
возможность отключения рабочей цепи без прерывания разря­
да и др.). Кроме того, на качестве пленок сказь1вается более вы­
сокий вакуум.
Анодирование. Один из вариантов химического ионно-плаз­
менного напыления называют анодированием. Этот процесс со­
стоит в окислении поверхности металлической пленки (находя­
щейся под положительным потенциалом) отрицательными
ионами кислорода, поступающими из плазмы газового разряда.
Для этого к инертному газу (как и при чисто химическом на­
пылении) следует добавить кислород. Таким образом, анодиро­
вание осуществляется не нейтральньrми атомами, а ионами.
Химическое напыление и анодирование, вообще говоря, про­
ходят совместно, так как в газоразрядной плазме (если она со­
держит кислород) сосуществуют нейтральные атомы и ионы
кислорода. Для того чтобы анодирование превалировало над
чисто химическим напылением, подложку располагают «ли­
цом& (т.е. металлической пленкой) в сторону, противоположную
катоду, с тем чтобы на нее не попадали нейтральные атомы.
По мере нарастания окисного слоя ток в анодной цепи пада­
ет, так как окисел является диэлектриком. Для поддержания
тока нужно повышать питающее напряжение. Поскольку часть
этого напряжения падает на пленке, процесс анодирования
1 Если подавать на мишень qисто переменное напряжение, то за время положи­
тельного полупериода заряд электронов благодаря их большей подвижности
превысит заряд ионов, и мишень приобретет отрицательный потенциал.


6.8. Нанесеиие тонких пленок

199

протекает в условиях большой напряженности поля в окисной
пленке. В результате и в дальнейшем, при эксплуатации, она
обладает повышенной электрической прочностью.
К числу других преимуществ анодирования относятся
большая скорость окисления (поскольку поле в пленке окисла
ускоряет взаимные перемещения атомов металла и кислорода)
11 возможность управления процессом путем изменения тока в
цепи разряда. Качество окисных пленок, получаемых методом
анодирования, выше, чем при использовании других методов.
Электрохимическое осаждение. Этот метод получения пленок
отличается от предыдущих тем, что рабочей средой является
жидкость. Однако характер процессов сходен с ионно-плазмен­
ным напылением, поскольку и плазма, и электролит представ­
ляют собой квазинейтральную смесь ионов и неионизированных
молекул или атомов. А главное, осаждение происходит так же
постепенно (послойно), как и напыление, т.е. обеспечивает воз­
можность получения тонких пленок.
Электрохимическое осаждение исторически развилось зна­
чительно раньше всех других рассмотренных методов - еще в
XIX веке. Уже десятки лет назад оно широко использовалось в
машиностроении для разного рода тонких гальванических по­
крытий (никелирование, хромирование и т.п.). В микроэлект­
ронике электрохимическое осаждение не является альтернати­
вой термическому и ионно-плазменному напылению; оно до­
полняет их и сочетается с ними.
В основе электрохимического осаждения лежит электролиз
раствора, содержащего ионы необходимых примесей. Напри­
мер, если требуется осадить медь, используется раствор медно­
го купороса, а если золото или никель - растворы соответству­
ющих солей.
Ионы металлов имеют в растворе положительный заряд. По­
этому, чтобы осадить металлическую пленку, подложку следу­
ет использовать как катод. Если подложка является диэлектри­
к ом или имеет низкую проводимость, на нее предварительно
н аносят тонкий металлический подслой, который и служит ка­
тодом. Подслой можно нанести методом термического или ион­
но-плазменного напыления.
Чтобы осуществить электрохимическое анодирование, окис­
ляемую пленку металла следует использовать как анод, а элек1'ролит должен содержать ионы кислорода.


200

Глава 6. Технолоrические основы микроэлектроники

Большое преимущество электрохимического осаждения перед напьтением состоит в гораздо большей скорости процесса,
которая к тому же легко регулируется изменением тока. Поэто­
му основная область применения электролиза в микроэлектро­
нике - это получение сравнительно толстых пленок (10-20
мкм и более). Качество (структура) таких пленок хуже, чем
при напылении, но для ряда применений они оказываются
вполне приемлемыми.

6.9. Металлизация
В полупроводниковых ИС процесс металлизации призван
обеспечить омические контакты со слоями полупроводника, а
также рисунок межсоединений и контактных площадок.
Основным материалом для металлизации служит алюми­
ний. Он оказался оптимальным в силу следующих положитель­
ных качеств: малое удельное сопротивление (1, 710- 6 О м-см); хо­
рошая адгезия к окислу S10 2 (металлизация осуществляется по
окислу); возможность сварных контактов с алюминиевой и зо­
лотой проволокой (при осуществлении внешних выводов); от­
сутствие коррозии; низкая стоимость и др.
При создании металлической разводки сначала на
....1
всю поверхность ИС напыляют сплошную пленку алю­
миния толщиной 0,1-1 мкм
(рис. 6.18). Эта пленка кон­
тактирует со слоями крем­
ния в специально сделанных
(с помощью предьrдущей фо­
толитографии) окнах в окис­
ле (1, 2 и З на рис. 6.18).
Рис. 6.18. Получение металлической
Основная же часть алюмини­
разводки методом фотолитографии
евой пленки лежит на поверхности окисла. Покрывая
пленку алюминия фоторези­
стом, экспонируя его через соответствующий фотошаблон и про­
являя, получают фоторезистную маску, которая защищает буду­
щие полоски металлизации и контактные площадки (КП) от
травителя. После вытравливания алюминия с незащищенньrх


6.9. Металлизация

201

участков и удаления фоторезиста остается запланированная ме­
таллическая разводка (на рис. 6.18 ее рельеф, прилегающий к
контактам 1, 2, 3, заштрихован).
Минимальная ширина полосок в современных ИС соответст­
вует предельному разрешению литографии. Естественно, что
для достижения необходимых допусков на ширину металлиза­
ции ее толщина, как правило, не может быть более 1/10 от ми­
нимальной ширины проводника. Расстояние между соседними
проводниками - с целью ослабления паразитной емкостной
связи между ними - выбирают более 1,5 мкм. Для проводника
шириной 1 мкм, его толщина 0,1 мкм, а расстояние между бли­
жайшими проводниками более 1,5 мкм.
Погонное сопротивление полоски шириной 10 мкм и толщи­
ной 1 мкм составляет около 2 Ом/мм. Для контактных площа­
док, к которым в дальнейшем присоединяются внешние выво­
ды, типичны размеры 100х100 мкм. Присоединение внешних
выводов непосредственно к полоскам металлизации невозмож­
но из-за малой ширины.
Разумеется, рисунок межсоединений предполагает отсутст­
вие пересечений, т.е. коротких замыканий. Однако в ИС с вы­
сокой степенью интеграции не удается спроектировать метал­
лическую разводку так, чтобы избежать пересечений. В этих
случаях используется .мпогослойпая или .мпогоуровпевая раз­
водка, т.е. несколько •этажей» металлизации, разделенных
изолирующими слоями. Необходимые соединения между раз­
ными уровнями осуществляются через специальные окна в изо­
лирующих слоях (рис. 6.19, а). Изоляцию между слоями обыч­
но обеспечивают путем напыления диэлектрика по завершении
очередной металлической разводки. В качестве диэлектрика
чаще всего используют моноокись кремния S10. Количество
�этажей» при многоуровневой металлизации для современных
БИС лежит в пределах от двух до четырех.
Некоторые предприятия для создания многоуровневой раз­
водки используют алюмоксидную технологию. В этой техноло­
гии роль изоляции между соседними: проводниками выполняют
слои «пористого,> Al 2 03, а роль межслойной изоляции толщи­
ной порядка 0,1 мкм играют слои «плотного,> окисла, образуе­
мого в результате анодирования первичного слоя Al
(рис. 6.19, 6). Отличительной особенностью этой технологии
является планарность многоуровневой разводки.


202

Глава 6. Техиологические осиовы 11-ХИкроэлектроиики
1-й уровень

Si

а)

2-й уровень

.А12 03

Si
6)

Рис. 6.19. Многослойная металлическая разводка

Проблема омических контактов при использовании алюми­
ния состоит в следующем. Если пленку алюминия просто напы­
лить на поверхность кремния, то образуются барьеры Шоттки
(см. раздел 3.3), причем барьер на границе с п-слоем является
не омическим, а выпрямляющим. Чтобы избежать барьеров
Шоттки, алюминий вжиzают в кремний при температуре око­
ло 600 °С, близкой к температуре эвтектики сплава Al-Si. При
такой температуре на границе алюминиевой пленки с кремни­
ем образуется слой, в котором растворен практически весь при­
легающий алюминий. После застывания сплав представляет
собой кремний, легированный алюминием; концентрация по­
следнего составляет около 5-10- 18 см-3•
Поскольку алюминий является акцептором по отношению к
кремнию, возникает новая проблема: предотвращение образо­
вания р-п-переходов в п-слоях. Действительно, если концент­
рация доноров в n-слое меньше 5-1018 см-3, то атомы алюминия
создадут в нем приповерхностный р-слой. Чтобы этого избе­
жать, область п-слоя вблизи контакта специально легируют,
превращая ее в п+-слой с концентрацией доноров 1020 см-3 и бо­
лее (см. рис. 6.18). Тогда концентрация алюминия оказывается
недостаточной для образования р-слоя, и р-п-переход не обра­
зуется.
Если п-слой с самого начала сильно легирован (например,
эмиттерный слой транзистора), то дополнительного легирова­
ния не требуется. Не возникает проблем и при контакте алюми­
ния с р-слоями, так как растворение в них алюминия приводит
к образованию приповерхностных р+ -слоев, что способствует
повышению качества омического контакта.


203

6.10. Сборочкые операци11

6.10. Сборочные операции
После того как все основные технологические этапы (вклю­
чая металлизацию) закончены, пластина кремния, содержащая
сотни и тысячи ИС, поступает на операции тестового контроля
электрических параметров. На этом этапе отбраковываются и
специальным лаком маркируются все ИС, параметры которых
не соответствуют требуемым значениям. Трудоемкость всех
контрольных операций (на всех этапах производства ИС) дости­
гает до 30% себестоимости работ по созданию схем. После мар­
кировки отбракованных ИС пластина кремния разделяется на
отдельные кристаллы.
Разделение осуществляется методом скрайбирования, т.е.,
по сути, процарапыванием вертикальных и горизонтальных
рисок в промежутках между соседними чипами (см. рис. 1.1).
Процарапывание осуществляют либо с помощью алмазного рез­
ца (наподобие того, как это делает стекольщик, разрезая стек­
ло), либо с помощью лазерного луча. После скрайбирования
пластину ломают на отдельные кристаллы и годные чипы мон­
тируются в корпусах.
Сборка кристалла в корпусе начинаете.я с операции, кото­
рую называют посадкой на ножку (под ножкой имеют в виду
дно корпуса). При этом кристалл приклеивается или припаива­
ется (легкоплавким припоем) в средней части ножки (на
рис. 6.20 показан простой транзистор). Затем контактнь1е пло­
щадки на кристалле соединяются со штырьками - выводами
корпуса. Соединения осуществляются с помощью тонких
(15-30 мкм) алюминиевых или золотых проволочек, которые
одним концом закрепляются на контактных площадках, а дру­
гим на торцах штырьков.

Крышка корпуса

Ножка корпуса

Р11с. 6.20. Монтаж кристалла на ножке корпуса


204

Гдава 6. Техводоmческве основы микроэдектроввки

Надежный электрический контакт между металлическими
деталями (в данном случае контакт проволочек со штырьками
и контактными площадками) может быть обеспечен разными
методами. Наибольшее распространение в настоящее время
имеет метод термокомпрессии, т.е. сочетание достаточного дав­
ления (прижатия деталей друг к другу) с повышенной темпера­
турой (200-300 °С), способствующей взаимной диффузии ато­
мов из одной детали в другую.
Термокомпрессия, в свою очередь, реализуется в виде раз­
ных конструктивных вариантов. На рис. 6.21 показан простей­
ший пример. С помощью клинообразного пуансона, изготовленного из твердого материала
(например из алмаза), проволоч­
ка прижимается к поверхности
контактной площадки. При этом
проволочка деформируется (не­
сколько расплющивается). Не­
удержания
продолжительного
расплющенной проволочки на
площадке достаточно для образо­
вания их прочного соединения с
малым переходным сопротивле­
нием.
При значительном количе­
Рис. 6.21. Термокомпрессия
стве внешних контактов операция разводки кристалла на нож­
ке осуществляется только в автоматизированном процессе.
По окончании монтажа кристалла на ножке следует корпу­
сирование, т.е. окончательное внешнее оформление транзисто­
ра. Ножка корпуса соединяется с крышкой (рис. 6.20) путем
горячей или холодной сварки (последняя по существу близка к
термокомпресии). Корпусирование предполагает также защиту
кристалла от влияния внешней среды, поэтому его проводят
либо в вакууме, либо в среде инертного газа (азот, аргон). Бес­
корпусные варианты транзисторов описаны в следующем раз­
деле.
Главная специфика сборочных операций применительно к
интегральным схемам состоит в том, что корпуса ИС многовы­
водные: у простых ИС количество вьrводов составляет 8-14, а у
больших доходит до сотен и более. Номенклатура корпусов для
ИС довольно разнообразна: наряду с круглым корпусом, похо-


6.11. Техиолоrия топкоплеиочиь1х гибридных ИС

205

жим на транзисторный (см. рис. 6.20), используются прямоуго­
льные корпуса: металлические или пластмассовые, с вывода­
ми, лежащими в плоскости корпуса или перпендикулярными
ей (рис. 6.22). Выбор корпуса в значительной степени зависит
от назначения аппаратуры и способов ее конструирования.

Рис. 6.22. Типичные корпуса интегральных схем

6.11. Технология тонкопленочных гибридных ИС
Согласно определению, приведенному в разделе 1.2, гибрид­
ные ИС представляют собой совокупность пленочных пассив­
ных элементов и навесных активных компонентов. Поэтому
технологию тонкопленочных ГИС можно разбить на техноло­
гию тонкопленочных пассивных элементов и технологию мон­
тажа активных компонентов.
Изготовление пассивных элементов. Тонкопленочньrе эле­
менты ГИС осуществляются с помощью технологических мето­
дов, описанных в разделе 6.8, т.е. путем локального (через мас­
ки) термического, катодного или ионно-плазменного напыле­
ния того или иного материала на диэлектрическую подложку.
В качестве масок длительное время использовались накладные ме­
таллические трафареты. Такие трафареты представляли собой тон­

кую биметаллическую фольгу с отверстиями-окнами. Основу трафаре­
rа составлял слой :электрохимически нанесенного никеля толщиной
10-20 мкм. Последний определял размеры окон, т.е. рисунок трафаре­
та, а слой бериллиевой бронзы выполнял роль несущей конструкции.
Серьезные недостатки металлических накладных трафаретов за­
ключаются в том, что, во-первых, в процессе напыления пленок про­
исходит напыление на с11ми трафареты, что меняет их толщину и по-


6.11. Технолоrия тонкопленочных rнбрпдных ИС

207

ний, которых мы не будем касаться. Заметим лишь, что с помо­
щью фотолитографии не удается получать многослойные струк­
туры типа конденсаторов. Однако это ограничение не очень
существенно, так как в последнее время предпочитают исполь­
зовать в ГИС навесные конденсаторы (ради экономии площа­
ди).
Для резистивных пленок чаще всего используют хром, ни­
хром (Ni - 80%, Cr - 20%) и кермет из смеси хрома и моно­
окиси кремния (1:1). Метод напыления для этих материалов термический (вакуумный). Омические контакты к резистив­
ным пленкам (полоскам) осуществляются так, как показано на
рис. 6.23.
Для обкладок конденсаторов используют алюминий, причем
до напыления нижней обкладки (прилегающей к подложке)
приходится предварительно напылять тонкий подслой из спла­
ва CrTi, так как адгезия алюминия непосредственно с подлож­
кой оказывается недостаточной.
Для диэлектрических слоев пленочных конденсаторов по со­
вокупности требований (большая диэлектрическая проницае­
мость Е, малый тангенс угла потерь tgБ, большая пробивная на­
пряженность и др.) наибольшее распространение имеют моно­
окись кремния SiO и моноокись германия GeO. Особое место
среди диэлектриков занимают окислы Та 2 0 5 и Al 20 3, которые
получают не методом напыления, а методом анодирования
нижних металлических обкладок (Та или Al).
Для проводниковых пленок и омических контактов исполь­
зуют, как правило, либо золото с подслоем CrTi, либо медь с
подслоем ванадия (назначение подслоев - улучшить адгезию с
подложкой). Толщина проводящих пленок и контактных пло­
щадок обычно составляет 0,5-1 мкм. Размеры контактных пло­
щадок от lOOxlOO мкм и более.
Толщина наносимых пленок контролируетса в процессе на­
пыления. Для этого используются несколько методов. Один из
них, пригодный только в случае резистивных пленок, состоит в
использовании так называемого свидетеля. Свидетель пред­
ставляет собой вспомогательный (не входящий в структуру
ГИС) слой, напьrляемый одновременно с рабочими слоями, но
расположенный на периферии подложки и снабженный двумя
заранее предусмотренными внешними выводами. Через эти вы­
воды осуществляется контроль сопротивления свидетеля в про-


Глава 6. Технологические основы микроэлектроники

206

11

2

11

степенно приводит их в негодность.
Во-вторых, металлические трафареты
мало пригодны при като дном и ион­
но-плазменном напылении, так как ме ­
талJJ искажает электрическое поле и, сле­
довательно, влияет на скорость напыле­
ния. Поэтому в последние годы от
металлических накладных трафаретов
практически отказались и используют
для получения необходимого рисунка фо­
толитографию - метод, заимствованный
из технологии полупроводниковых ИС.

Фотолитографию
осуществляют
следующим образом. На подложку
наносят сплошные пленки необходи­
мых материалов, например, рези­
стивный слой и поверх него - прово­
дящий слой. Затем поверхность по­
крывают фоторезистом и с помощью
соответствующего фотошаблона со­
здают в нем рисунок для проводяще­
го слоя (например, для контактных
будущего
площадок
резистора,
рис. 6.23, а). Через окна в фоторези­
стной маске проводят травление про­
водящего слоя, после чего фоторезист
удаляют. В результате на пока еще
сплошной поверхности резистивного
слоя получаются готовые контактные
площадки (рис. 6.23, б). Снова нано­
сят фоторезист и с помощью другого
Рис. 6.23. Получение тонко­ фотошаблона создают рисунок поло­
пленочных резисторов мето­
ски резистора (рис. 6.23, в). Затем
дом фотолитографии:
а _ фоторезистная маска (3) проводят травление, удаляют фоторезист и получают готовую конфигурапо д рисунок проводящего
слоя; б - готовый рисунок
цию резистора с контактными плопроводящего слоя (2);
щадками (рис. 6.23, г).
в - фоторезистная маска (3)
Конечно, важно, чтобы травител ь,
под рисунок резистивного
действующий
на проводящий слой,
слоя; г - готовый резистор
не действовал на резистивный и нао­
-.: проводящими выводами
борот. Имеется и еще ряд ограниче-


6.11 Технология тоикоплеиочиых гибридиъжх ИС

209

ных элементов. Только после контроля пластины скрайбируют­
ся и снабжаются навесными компонентами. ГИС могут, как и
ИС, помещаться в корпусе или (в бескорпусном исполнении)
герметизироваться в составе аппаратуры.
Монтаж навесных компонентов. В качестве навесных ком­
понентов используются бескорпусные диоды, транзисторы, ре­
зистивные и конденсаторные сборки, а также бескорпусные ИС
и БИС. Рассмотрим пример.
Простейшим вариантом бескорпусного транзистора является
кристалл, полученный после скрайбирования, к трем контакт­
ным площадкам которого присоединены тонкив проволочные вы­
воды и который защищен от внешней среды каплей эпоксидной
смолы, обволакивающей кристалл со всех сторон. Такой транзи­
стор приклеивается к подложке вблизи тех пленочных элемен­
тов, с которыми он должен быть соедШiен, после чего проволоч­
ные выводы транзистора методом термокомпрессии присоединя­
ются к соответс·rвующим контактным площадкам на подложке.
Имеется два других варианта бескорпусных транзисторов,
монтаж которых осуществляется иначе. Первый вариант назы­
вается транзистором с шариковыми выводами (рис. 6.24, а). Ша­
рики диаметром 50-100 мкм связаны с контактными площадка­
ми транзистора, а через них - с тем или иным слоем кремния:
эмиттерным, базовым или коллекторным. Материалом для ша­
риков служит золото, медь или сплав Sn-Sb. Из того же матери­
ала на диэлектрической подложке пленочной ГИС делаются кон
тактные столбики высотой 10-15 мкм и диаметром 150-200
мкм, расположенные в точном соответствии с расположениРм
шариков на кристалле кремния (рис. 6.24, 6). Соединение шари­
ков со столбиками осуществляется методом перевернутого мон
тажа (англ. термин fl1p-ch1p): кристалл транзистора перевора­
чивается «вверх ногами•, т.е. шариками вниз, и накладывается
шариками на столбики подложки (рис. 6.24, в). Сочетая давле­
ние на кристалл с повышением температуры (т.е. в сущности ис­
пользуя термокомпрессию), обеспечивают прочное соединение
шариков со столбиками. Как видим, метод перевернутого монта­
жа существенно экономит площадь подложки ГИС и врем?., не­
обходимое на разводку активных компонентов. Главная труд­
ность состоит в совмещении шариков со столбиками, поскольку
кристалл при наложении перевернут �вверх ногами� и закрыва­
ет от оператора места соединения.


208

Глава 6 Техяолоrические основы м11кроэлектро11ики

цессе напыления. Геометрия свидетеля известна. Поэтому, ког­
да его сопротивление достигает значения, соответствующего не­
обходимой толщине, напыление прекращают (перекрывают
заслонку). Толщина рабочих слоев будет такой же, как у свиде­
теля, так как они напылялись в одинаковых условиях.
Другой способ контроля состоит в использовании в качестве
свидетеля тонкой кварцевой пластины, которая через внешние
выводы присоединена к колебательному контуру генератора
колебаний. Как известно, кварцевая пластина обладает свойст­
вами колебательного контура, причем резонансная частота од­
нозначно связана с толщиной пластины. В процессе напыления
толщина пластины меняется и меняется частота генератора.
Изменения частоты легко измерить и остановить процесс напы­
ления в нужный момент.
Подложки тонкопленочных ГИС должны прежде всего обла­
дать хорошими изолирующими свойствами. Кроме того, жела­
тельны малая диэлектрическая проницаемость, высокая тепло­
проводность, достаточная механическая прочность. Темпера­
турный коэффициент расширения должен быть близким к
температурным коэффициентам расширения используемых
пленок. Типичные параметры подложек следующие: р = 10 14
Ом-см; s = 5-15; tgo = (2-20) 10-4; TKL = (5-7) 10-0•
В настоящее время наибольшее распространение в качестве
подложек имеют ситалл и ,серами/Са. Ситалл представляет со­
бой кристаллическую разновидность стекла (обычное стекло
аморфно), а керамика - смесь окислов в стекловидной и крис­
таллической фазах (главные составляющие Al 203 и S102).
Толщина подложек составляет 0,5-1 мм в зависимости от
площади. Площадь подложек у ГИС иногда больше площади
кристаллов у полупроводниковых ИС. Стандартные размеры
подложек лежат в пределах от 12х10 до 96х120 мм. Требования
к гладкости поверхности примерно такие же, как и в случае
кремния: допустимая шероховатость не превышает 25х50 нм
(класс шероховатости 12-14).
Обычно ГИС, как и полупроводниковые ИС, изготавлива­
ются групповым методом на ситалловых или иных пластинах
большой площади. По завершении основных технологических
операций, связанных с получением пленочных пассивных эле­
ментов и металлической разводки, проводится выходной тесто­
вый контроль и, если необходимо, подгонка параметров пассив-


210

Гдава 6. Техподогические основы микроэдектроппкп
Шарики

а)

6)

Транзистор

Подложка

в)
Рис. 6.24. Монтаж бескорпусных
транзисторов с шариковыми выво­
дами: а - тр анзистор с шарико­
выми выводами; 15 - контактные
столбики иа подложке пленочной
ИС; в - соеди нение шариков
с контактными столбиками;
1 - контактные IIЛощадки на под­
дожке и выводы от них

Трудность совмещения кон­
тактных площадок кристалла и
подложки облегчается при испо­
льзовании второго варианта бес­
корпусных транзисторов
транзистора с балочными выво­
дами (рис. 6.25, а). Здесь кон­
тактные площадки продлены за
пределы кристалла и нависают
над его краями на 100-150 мкм,
откуда и название - балки.
Толщина балок (10-15 мкм)
значительно больше толщины
металлической разводки на кри­
сталле. Поэтому их получают не
напылением, а электрохимиче­
ским осаждением золота (с под­
слоем из титана). Длина балоч­
ных выводов 200-250 мкм
(включая выступ), а ширина та­
кая же, как у обычных контакт­
ных площадок (50-200 мкм).
Получение балок основано на
сквозном травлении кремния
через фоторезистную маску, на­
несенную на нижнюю поверх­
ность пластины (рис. 6.25, 6).
При сквозном травлении одно­
временно с получением балок
досl'игается разделение пласти­
ны на отдельные кристаллы без
механического скрайбирования.
До начала травления пластина
приклеивается верхней (лице­
вой) поверхностью к стеклу.
Чтобы сократить время травле­
ния и избежать бокового рас­
травливания пластины, ее (по­
сле приклеивания к стеклу) со­
шлифовывают
обычной
от


211

6.12. Техяология толстоплеиочвw1t rибридяых ИС

т,, _.

Au

Транзистор

Тn+l

Si

Травитель

Фоторезист
б)

а)

Рис. 6.25. Бескорпусные транзисторы с балочными выводами:

а - транзистор с балочными выводамlи; б - получение балок и разделе­
ние транзисторов на пластине

толщины 200-300 мкм до 50 мкм. По окончании травления
клей растворяют и разделенные кристаллы отпадают от стекла.
Монтаж навесных компонентов с балочными выводами мо­
жет осуществляться так же, как и в случае шариковьrх выво­
дов - методом перевернутого монтажа. При этом выступаю­
щие балки хорошо видны и их совмещение с контактными пло­
щадками на подложке не представляет затруднений. Можно
монтировать кристалл и <�лицом вверх», но тогда в подложке
следует предусмотреть углубление для кристалла.
Изготовление шариковых и балочных выводов сложнее и до­
роже, чем проволочных, но они обеспечивают существенное
упрощение и удешевление сборочных операций и в 4-10 раз по­
зволяют уменьшить площадь на подложке ГИС, отводимую для
размещения навесных компонентов. К сожалению, надежность
таких соединений ниже, чем в случае использования гибких
выводов.

6.12. Технология толстопленочных гибридных ИС
Пассивные элементы толстопленочных ГИС получаются ло­
кальным нанесением на подложку полужидких паст-стекло­
эмалей с последующим их высушиванием и вжиганием в под­
ложку. Следовательно, в данном случае пленки приобретают
свою толщину сразу, а не постепенно - слой за слоем - как
при тонкопленочной технологии.
Последовательность технологических операций при нанесе­
нии толстых пленок следующая:


212

Глава 6. Техиолоrические основы микроэлектроники

а) нанесение ело.я пасты на подложку через маску - наклад­
ной трафарет (отсюда название - метод трафаретной печати);
б) выжигание (испарение) растворител.я при температуре
300-400 °С и тем самым превращение пасты из полужидкого
состо.яния в твердое;
в) вжигание затвердевшего вещества пасты в подложку спекание - при температуре 500-700 °С (в зависимости от со­
става пасты).
Операция вжигани.я - сама.я ответственна.я в технологиче­
ском цикле; она требует высокой стабилизации температуры: с
точностью ±1 °С.
В основе всех паст-стеклоэмалей лежит так называемая
фритта - тончайший порошок стекла, к которому, в зависи­
мости от назначени.я пасты, примешиваете.я порошок резистив­
ного, проводящего или диэлектрического материала. Дисперс­
на.я (т.е. совершенно однородная) смесь фритты и примесного
материала приобретает в.язкость при добавлении специальных
органических веществ и растворителей. На этапе выжигали.я
(см. выше) растворитель испар.яетс.я, а органические вещества
св.язывают частицы порошка в единую компактную массу.
Дл.я провод.ящих паст примесью обычно служит серебро или
золото, для резистивных - смесь серебра и палладия (1:1), а
для диэлектрических - титанат бари.я с высокой диэлектриче­
ской проницаемостью. Варьиру.я материал и процентное содер­
жание примесей, можно измен.ять электрические параметры
пленок в очень широких пределах (см. раздел 7.11).
Масками дл.я нанесения паст на подложку служат сетчатые
трафареты (рис. 6.26, а). Они представляют собой тонкую сетку
из капрона или нержавеющей стали, натянутую на дно рамки 1 •
Размер ячеек сетки - около 100 мкм, диаметр нитей - около
50 мкм. Большая часть сетки покрыта пленкой, но в пленке
имеются окна. Рисунок окон получают методом фотолитогра­
фии, вытравливая отверстия в пленке. Учитывая .ячеистую
структуру сетки, размеры окон трудно сделать менее 10-200
мкм. Это предопредел.яет минимальные размеры элементов
толстопленочных ГИС и ширину линий.

1 Исходным материалом для сеток был шелк и потому методику нанесения паст
чере3 сетчатые трафареты часто называют шел,соzрафией.


213

6.12. Технология толстоплеиочиых гибридных ИС

а)

15)

Рис. 6.26. Метод локального нанесения пасты: а - сетчатый трафарет;
15 - продавливание пасты через трафарет: 1 - ракель; 2 - сетка;
3 - подложка; 4 - паста

Рамка с трафаретом заполняется пастой и размещается над
подложкой на расстоянии 0,5-1 мм. После этого на сетку опус­
кается специальный нож - ракель, который, перемещаясь
вдоль рамки, продавливает пасту через отверстия в сетке
(рис. 6.26, 6). Несмотря на простоту идеи продавливания, эта
операция - прецизионная; на качество будущей пленки и по­
вторяемость результатов оказывают влияние угол заточки ра­
келя, его наклон относительно подложки, скорость перемеще­
ния и другие факторы.
Вообще говоря, сетка на трафарете не обязательна: можно
продавливать пасту и через сплошные отверстия. Однако каче­
ство пленок при этом хуже, так как сетка обеспечивает более
однородаь1е слои в результате слияния отдельных •капелы,
прошедших через ячейки сетки. Толщина получаемых пленок
зависит от диаметра нитей и размеров ячеек. Обычно она со­
ставляет 20-40 мкм.
К подложкам для толстопленочных ГИС предъявляются в об­
щем те же требования, что и для тонкопленочных. Особое вни­
мание часто уделяется повышенной теплопроводности, так как
толстопленочный вариант ГИС характерен для мощных схем.
Поэтому распространены высокоглиноземистые керамики (96%
Al203 ) и бериллиевые керамики (99,5% ВеО); последние в 7-10
раз превышают глиноземистые по теплопроводности, но уступа­
ют им по прочвости. Важная отличительная особенность подло­
жек для толстопленочных ГИС состоит в том, что их поверх­
ность должна быть достаточно шероховатой, чтобы обеспечить
необходимую адгезию с веществом пасты. Степень шероховато­
сти характеризуется неровностями до 1-2 мкм.


214

Гпава 6. Техиолоrические осиовы микрозлектроиики

Методы монтажа навесных компонентов те же, что и у тон­
копленочных ГИС, но размеры контактных площадок делают
больше: 400х400 мкм.
В целом толстопленочная технология характерна простотой
и низкой стоимостью ИС. Однако по сравнению с тонкопленоч­
ной технологией плотность компоновки оказывается меньше
(из-за большей ширины линий), а разброс параметров - боль­
ше (из-за неконтролируемой толщины пленок).

Контрольные вопросы
1. Почему для изготовления большинства полупроводниковых
приборов используются монокристаллические материалы?
2. Перечислите основные технологические операции получе­
ния монокристаллического кремния.
3. Для чего при производстве ИС на монокристаллических
подложках выращивают эпитаксиальные слои кремния?
4. Назовите акцепторные примеси для легирования кремния.
Чем они отличаются друг от друга? Какие донорные приме­
си кремния вы знаете?
5. Назовите основные операции технологического процесса из­
готовления ИС.
6. Какие способы окисления кремния вам известны? В чем их
принципиальные отличия?
7. Напишите уравнение двух законов Фика.
8. В чем качественное отличие распределения примеси при
термической диффузии из неограниченного и ограниченно­
го источников диффузанта?
9. Как распределяются примеси при ионной имплантации? Ка­
кие факторы оказывают влияние на характер этого распре­
деления?
10. Назовите известные вам: травители пленок Si02 • А для крем­
ния?
11. Что такое анизотропное травление? Для решения каких за­
дач в производстве ИС применяют анизотропное травление?
12. Какие методы изготовления фотошаблонов вам знакомы?
Сравните их.


Ко11тролъ11ые вопросы

215

13. Какие источники экспонирования применяются при лито­
графии?
14. Почему разрешающая способность литографии зависит от
длины волны источника экспонирования?
15. Каковы в настоящее время пределы разрешения литогра­
фии?
16. Какие методы нанесения тонких пленок металлов и диэлек­
триков вам знакомы? В чем их принципиальные отличия?
17. Какие металлы и почему используются в качестве подслоя
при нанесении металлических пленок?
18. Назовите наиболее распространенные материалы для изго­
товления проводников ИС.
19. Как при изготовлении проводников ИС избежать образова­
ния р-п-переходов и барьеров Шоттки?
20. Чем обусловлены максимально достижимые пределы мини­
атюризации проводников ИС?
21. Какие типы корпусов ИС вам знакомы? Отличаются ли они
по надежности?
22. Что такое шариковые и балочные выводы?
23. Назовите области применения гибридных пленочных и тол­
стопленочных схем.


- rnaвa 7
Элементы интегральных схем

7.1. Введение
Напомним, что элементами ИС (как полупроводниковых,
так и гибридных) называют их неделимые составные части те, которые нельзя отдельно специфицировать и поставить как
отдельные изделия. Одна из особенностей элементов ИС по
сравнению с аналогичными дискретными приборами или элек­
трорадиоэлементами состоит в том, что они имеют электриче­
скую связь с общей подложкой, а иногда и друг с другом. Поэ­
тому математические и физические модели (эквивалентные
схемы) элементов ИС несколько отличаются от моделей диск­
ретных аналогов.
Вторая важная особенность элементов ИС по сравнению с
дискретными приборами связана с тем, что все элементы ИС
получаются в едином технологическом процессе. Например, все
резисторьr пленочной ИС получаются одновременно и, следова­
тельно, характеризуются одинаковой толщиной и одинаковым
удельным сопротивлением (разница может быть только в длине
и ширине слоя). Или в полупроводниковой ИС рабочий слой ре­
зистора получается одновременно с базовым слоем транзистора
и, следовательно, имеет те же электрофизические параметры,
что и базовый слой. Иначе говоря, при изготовлении элемен­
тов ИС имеется меньше <<степеней свободы>>, чем при изготов­
лении их дискретных аналогов: можно варьировать главным
образом конфигурацией элементов ИС •В плане�, т.е. их дли­
ной и шириной, а не глубиной слоев и их электрофизическими
параметрами. В результате параметры элементов ИС в значи
тельной мере коррелированы (взаимосвязаны) и ограничены,
чего нет у дискретных компонентов.
Отметим, однако, что указанные особенности прежде всего
характерны для элементов БИС и СБИС, при изготовлении ко­
торых из-за проблем совмещения всегда приходится �эконо­
мить� на количестве фотолитографий. Если проблема ограни-


7.1. Введеяие

217

чения количества фотолитографий не превалирует над осталь­
ными, параметры элементов ИС могут значительно отличаться.
Помимо указанных двух особенностей, следует отметить,
что в процессе развития микроэлектроники появились такие
элементы ИС, которые не имеют аналогов в дискретной элект­
ронике: многоэмиттерные и многоколлекторные транзисторы,
транзисторы с барьером Шоттки, трехмерные элементы и др.
Традиционные компоненты
диоды, конденсаторы и
т.п. - изменились конструктивно, изменился диапазон их па­
раметров. В полупроводниковых ИС отсутствуют аналоги та­
ких традиционных компонентов, как катушки индуктивности
и те,!111 более трансформаторы.
Ко.,тонентами ИС, как отмечалось в гл. 1, называют такие
составные части гибридных микросхем, которые можно специ­
фицировать отдельно и поставлять в виде отдельных изделий.
Компоненты ГИС представляют собой навесные детали, отлича­
ющиеся от �обычных» дискретных компонентов лишь конст­
руктивным оформлением (бескорпусные диоды, транзисторы и
ИС).
Главными элементами биполярных полупроводниковых ИС
являются п-р-п-транзисторы. Именно на них ориентируются
при разработке новых технологических циклов, стараясь обес­
печить оптимальные параметры этих транзисторов. Технология
всех других элементов (р-п-р-транзисторов, диодов, резисторов
и т.п.) должна <•Приспосабливаться» к технологии п-р-п-тран­
зистора. Такое •приспособление» означает, что для изготовле­
ния других элементов следует по возможности избегать допол­
нительных технологических операций: желательно использо­
вать те же рабочие слои (коллекторный, базовый и
эмиттерный), которые необходимы для п-р-п-транзистора. От­
сюда такая терминология: <• в качестве резистора используется
базовый слой•> или •рабочий слой резистора получается на эта­
пе базовой диффузии,> .
Главными элементами МДП-транзисторных ИС до последне­
го времени были МДП-транзисторы с индуцированным р-кана­
лом. Соответственно на них ориентировался технологический
цикл и к этому циклу �приспосабливалась>> технология осталь­
ных элементов. В последние годы, после того как удалось прео­
долеть трудности изготовления качественных п-канальных
МДП-транзисторов и разработать технологию комплементар-


Глава 7. :Элементы интегральных схем

218

ных МДП (КМДП) схем, последняя, по существу, заняла глав­
ное место в технологии ИС.

7 .2. Изоляция элементов
На рис. 7 .1 показаны два п-р-п-транзистора и диод, выпол­
ненные в общей кремниевой подложке п-типа. Как видим, кол­
лекторы транзисторов и катод диода оказались принудительно
связаны через подложку. Такие связи, как правило, неприем­
лемы: они не соответствуют желательной конфигурации схе­
мы. Следовательно, элементы биполярных полупроводниковых
ИС нужно изолировать друг от друга с тем, чтобы необходи­
мые соединения осуществлялись только путем металличе­
ской разводки.
В случае изготовления на одной подложке МДП-транзисто­
ров истоки и стоки смежных элементов (рис. 7.2) оказываются
разделенными встречно-включенными р-п-переходами и такал
связь не столь губительна, как в биполярных элементах. Одна­
ко с ростом степени интеграции и �сближением• элементов, об­
ратные токи разделительных р-п-переходов растут и принуж­
дают разработчиков ИС искать способы изоляции не только би­
полярных, но и МДП элементов.
Транзистор 1

К олле ктор 1

Дио д

К

а
олл кто
р 2 I К тод
е
n-Si

Рис. 7.1. Внутренняя связь элементов
биполярных ИС чере3 подложку в от­
сутствие изоляции

1

n'

p-Si

Рве. 7.2. Отсутствие свя3и между
элементами МДП-транзисторных

ис

Сравнительная оценка способов изоляции. Все известные
способы изоляции можно разделить на два главных типа: изо­
ляцию обратносмещенным р-п-переходом и изоляцию диэлект­
риком. Оба типа изоляции проиллюстрированы на рис. 7.3.
Обедненный слой р-п-перехода, осо бенно при большом обратном
смеще нии, имеет оче нь выс окое удельное сопротивлен ие, близкое к
удельному сопротивлению диэле ктриков. Поэто му указанные два типа


219

7.2. Изоляция элементов

Эl Бl Kl

Э2 Б2 К2

Эl Бl Kl

Э2 Б2 К2

Ди:тектрик
а)

Si

15)

Рис. 7.3. Основные методы изоляции элементов ИС:

а - с помощью р-11-переходов; 15 - с помощью диэлектрика

изоляции различаются не столько удельным сопротивлением изолиру­
ющего слоя, сколько его структурой. Изоляцию р-n-переходом отно­
сят к однофазным способам, имея в виду, что материал no обе стороны
и в пределах изолирующего слоя один и тот же - кремний. Изоляцию
диэлектриком относят к двухфазным способам, имея в виду, что мате­
риал (фаза) изолирующего слоя отличается от материала подложки кремния. Учитывая, что при разработке ИС происходит постоянное
снижение рабочих напряжений, изоляция р-n-nереходом применяет­
ся все реже и реже.
Из рис. 7.3, а ясно, что изоляция р-п-переходом сводится к

осуществлепию двух встречпо-включеппых диодов между изо·
лируемыми элемептами - так же, как в МДП-транзисторных
ИС (рис. 7.2). Для того, чтобы оба изолирующих диода находи­
лись под обратным смещением (независимо от потенциалов
коллекторов), на подложку задают максимальный отрицатель­
ный потенциал от источника питания ИС 1 •
Изоляция р-п-переходом хорошо впись1вается в общий тех­
нологический цикл биполярных ИС, однако ее недостатки наличие обратных токов в р-п-переходах и наличие барьерных
емкостей.
Изоляция диэлектриком более совершенная и «радикаль­
ная» (рис. 7.3, б). При комнатной температуре токи утечки в
диэлектрике на 3-5 порядков меньше, чем обратные токи
р-п-перехода. Что касается паразитной емкости, то, разумеет­
ся, она имеет место и при диэлектрической изоляции. Однако
ее легко сделать меньше барьерной, выбирая материал с малой
диэлектрической проницаемостью и увеличивая толщину диэ­
лектрика. Как правило, паразитная емкость при диэлектриче-

1 Так же поступают в МДП-транзисторных ИС.


220

Глааа 7. Элем енты иитеrральиь1х схем

ской изоляции на порядок меньше, чем при изоляции р-п-пе­
реходом.
Изоляция р-п-переходом. Изолирующие переходы можно по­
лучить по-разному. Так, в чисто планарной технологии в с вое
время использовались методы тройной диффузии (рис. 7.4, а) и
встречной (или двусторонней) диффузии (рис. 7.4, 6). Обоим
этим методам свойственны серьезные недостатки.
Локальная диффузия В

P•St

HHtH

Общая диффузия В
а)

б)

Рис. 7.4. Возможные варианты изоляции элементов с помощью переходов:
а - метод тройной диффузии (1, - размер окна под коллекторuую диффу•
зию); б - метод встречной (двусторопней) диффузии (1, - размер окна под
разделительную диффузию)

В структуре на рис. 7.4, а коллекторный п-слой, получаемый на
этапе 1-й диффузии, является неоднородным: концентрация примеси
возрастает от донной части к поверхности. Поэтому на границе с базо­
вым слоем концентрация примеси оказывается достаточно большой и
соответственно пробивное напряжение коллекторного перехода полу­
чается сравнительно низким. Кроме того, сложна сама технология
тройной диффузии.
В структуре на рис. 7.4, 6 изоляция элементов достигается общей
диффузией акцепторной примеси через нижнюю поверхность пласти­
ны п•типа и локальной диффузией той же примеси через верхнюю по­
верхность. Глубина обеих диффузий составляет половину толщины
пластины, так что обе диффузионные области смыкаются. В верхней
части пластины образуются «островки• исходного кремния п-тиnа,
которые являются коллекторными слоями будущих транзисторов.
При данном методе, в отличие от предыдущего, коллекторный слой
оказывается однородным. Главный недостаток этого метода - необхо­
димость проведения глубокой диффузии (100-150 мкм). Время такой
диффузии составляет 2-3 суток и более, что экономически невыгодно.
Кроме того, из-за боковой диффузии (см. рис. 6.5, б) протяженность
изолирующих р-слоев на поверхности оказывается порядка толщины
пластины, т.е. превышает размеры обычных транзисторов. Соответст­
венно уменьшается коэффициент использования площади.


221

7.'J.. Изоляция элемеятов

В настоящее время вместо монолитной пластины n-типа ис­
пользуют тонкий эпитаксиальный п-слой, выращенный на под­
ложке (рис. 7.5). В этом случае проблема изоляции существенно
упрощается: диффузия, обеспечивающая образование коллек­
торных •островков� (ее называют разделителън.ой или изолиру­
ющей диффузией), проводится только через одну (верхнюю) по­
верхность пластины на глубину, равную толщине эпитаксиаль­
ного слоя (обычно не более 5-10 мкм). При такой малой
глубине время диффузии не превышает 2-3 ч, а расширение
изолирующих р-слоев на поверхности, обусловленное боковой
диффузией, в несколько раз меньше, чем при методе встречной
диффузии (рис. 7.4, 6). При этом коэффициент использования
площади кристалла имеет приемлемую величину.
п-типа, окалr,ная диффузия В
«Островки�
Л
оставшиеся в эпитаксиаль­
ном слое после разделите­
=
льной диффузии, называют
карманами. В этих карма­
Граница
Карманы
нах на последующих эта- эпитаксиального
с:,
я
о
с:,
п-сл
пах технологического про­
С')
p-Si
цесса осуществляют необ­
ходимые элементы ИС, в
Рис. 7.5. Основной способ изоляции
первую очередь - транзи­
элементов с помощью переходов
сторы1 .
в планарно-эпитакси!lJlьных ИС
Простейшие карманы,
показанные на рис. 7 .5, находят ограниченное применение. Транзисторы, изготовленные
в таких карманах (рис. 7.6, а), характерны большим горизон­
тальным сопротивлением коллекторного слоя rю< (100 Ом и бо­
лее). Уменьшать удельное сопротивление эпитаксиального слоя
нерационально: при этом уменьшается пробивное напряжение
коллекторного перехода и возрастает коллекторная емкость.
Поэтому типовым решением является использование так назы­
ваемого скрытого п-слоя, расположенного на дне кармана.
Роль такого низкоомного ело.я очевидна· из рис. 7.6, 6.

н� н��

1 Слой п + под коллекторным электродом, получаемый на этап1., эмиттерпой диф­
фузии (т.е. одновременно с эмиттерным п'-слоем), предотвращает образование
паразитного р-п-перехода при вжигании алюминия в п-слой (см. с. 202)


222

Глава 7. Элементы 1111теrраль11ых схем

Скрытые слои получают
диффузией, которая проводит­
ся до наращивания эпитаксиа­
льного слоя. Во время эпитак­
сии донорные атомы скрытого
а)
слоя под действием высокой
температуры диффундируют в
нарастающий эпитаксиальный
п-слой. В итоге скрытый слой
частично расположен в эпитак­
сиальном, и дно кармана в этом
б)
месте оказывается •приподня­
тым>> на несколько микрон.
Рис. 7.6. Структура интегрального
п-р-п-тран�истора: а - без скрыто- Для того, чтобы предотвратить
распространение
го слоя, б - со скрытым п -слоем чрезмерное
доноров из скрытого слоя в
эпитаксиальный (что может
привести к смыканию скрытого п+ -слоя с базовым р-слоем), вы­
бирают для скрытого слоя диффузант со сравнительно малым
коэффициентом диффузии - сурьму или мышьяк.
Использование скрытого n + -слоя обеспечивает не только ме­
ньшее сопротивление коллектора (первоначальное назначение
скрытого слоя), но и некоторые другие преимущества, в том
числе большой инверсный коэффициент усиления транзистора
и меньший избыточный заряд в коллекторном слое, накаплива­
ющийся в режиме двойной инжекции.
Разделительная диффузия в эпитаксиальный слой является
в настоящее время наиболее простым и распространенным ва­
риантом изоляции р-п-переходом. Однако используются и бо­
лее сложные варианты этого метода, к числу которых относит­
ся изоляция к:оллекторн,ой диффузией (ИКД, см. рис. 7. 7).

к

Границn эпитаксиального
р-слоя

Б

Локальная

диффузия р

Карман

p-S1

Рис. 7.7. Метод изоляции элементов коллекторной диффузией


7.2. Изоляция элемеитов

223

Метод ИКД характерен тем, что эпитаксиальный слой (тол­
щиной 2-3 мкм) имеет проводимость р-типа. В этом слое распо­
ложены заранее созданные скрытые п+ -слои. Разделительная:
диффузия в данном случае осуществляется с помощью донорной
примеси (фосфора); глубина диффузии соответствует расстоянию
от поверхности до скрытого слоя. В результате получаются кар­
маны р-типа (будущие базовые слои), а скрытый п + -слой вместе
с разделительными п+-слоями образует область коллектора. Как
видим, в данном случае разделительные слои выполняют полез­
ную функцию и, следовательно, не влияют на коэффициент ис­
пользования площади. Последний при методе ИКД оказывается
значительно больше, чем в основном варианте (рис. 7.5). Однако
из-за большой концентрации примеси в п+ -слоях методу ИКД
свойственны меньшие пробивные напряжения коллекторного
перехода и большие значения коллекторной емкости. Кроме
того, чтобь1 сделать базу неоднородной и тем самым создать в
ней внутреннее ускоряющее поле, в р-карманы приходится до­
полнительно проводить диффузию акцепторной примеси.
Изоляция диэлектриком. Исторически первым способом
изоляции диэлектриком был так называемый эпик-процесс.
Этапы этого процесса показаны на рис. 7.8. Исходная пластина
кремния п-типа покрываетсл тонким (2-3 мкм) эпитаксиаль­
ным слоем п+-типа (рис. 7.8, а). Через маску в пластине вы­
травливают канавки глубиной 10-15 мкм, после чего всю рель­
ефную поверхность окисляют (рис. 7.8, 6) 1• Далее на окислен­
ную рельефную поверхность напыляют толстый (200-300 мкм)
слой поликристаллического кремния (рис. 7.8, в). После этого
исходную пластину п-типа сошлифовывают на всю толщину
вплоть до дна канавок. В результате получаются карманы п-ти­
па (со скрытым п+-слоем), расположенные уже в поликристал­
лической подложке (рис. 7 .8, г). Изоляция элементов обеспечи­
вается окисным слоем S10 2 (ер. с рис. 7.3, 6). Основную труд­
ность в эпик-процессе представляет прецизионная шлифовка
монокристаллической пластины: при толщине сошлифовывае­
мого слоя 200-300 мкм погрешность шлифовки по всей поверх­
но сти должна лежать в пределах 1-2 мкм.

1 Можно использовать как изотропное, так и анизотропное травление (см. раз­
дел 6 6). Особенности последнего рассмотрены ниже.


г?+: : ::::;J
Q!::;::�

224

z

г:: :г: г

6)

n-Si
в)

Карманы
-.·.

·:·•

:@:Jt(Щi:i?Ш:.?.i:�::!�!1::f(ИJ]:ij{)I
z)

Рис. 7.8. Метод диэлектрической изоляции (эпик-процесс ):
а - исходная структура;
б - травление канавок и
окисление; в - напыление
поликристаллического кремния; z - конечная структура
(карманы со ск рытым
п·-слоем)

Глава 7. Эл емеяты иитеrралъвых сх ем

Если на 2-ом этапе (рис. 7 .8, б) напы­
лять не полупроводниковый слой (поли­
кристаллический кремний), а диэлект­
рический - керамику, получается ва­
риант керамической. изоляции. Этот
вариант обеспечивает лучшую гальвани­
ческую и емкостную «развязку• элемен­
тов, но он сложнее и дороже.

Большое распространение получила так называемая технология
кремний на сапфире (КНС, англ. SOS
- Silicon On Sapphire). Ее основные
этапы показаны на рис. 7.9. Сапфир
имеет такую же структуру кристал­
лической решетки, как и кремний.
Поэтому на сапфировой пластине
(подложке) можно нарастить эпитак­
сиальный слой кремния (рис. 7.9, а),
а затем протравить этот слой на­
сквозь до сапфира, так чтобы образо­
вались кремниевые «островки
карманы,> для будущих элементов
ИС (рис. 7.9, б). Эти карманы с ниж­
ней стороны изолированы друг от
друга сапфиром - диэлектриком, а
с боковых сторон - воздухом. Поэ­
тому технологию КНС часто относят
к классу воздушной изоляции. Недо­
статком этого метода является рель­
ефность поверхности, которая затрудняет осуществление металличе­
ской разводки.

� \� �iZ��j
l

а)

6)

Рис. 7.9. Технология +кремний на сапфире• (КНС):
а - исходная структура; 15 - рельефные карманы


225

7.2. Изоляция элементов

Комбинированные способы изоляции. В настоящее время
самым распространенным комбинированным методом является
так называемая изоплапарпая технология (изопланар). В ее
основ е лежит локальное сквозное прокисление тонкого (2-3
мкм) эпитаксиального слоя кремния п-типа (рис. 7.10). В резу­
льтате локального прокисления эпитаксиальный п-слой оказы­
вается разделенным на отдельные карманы п-типа - так же,
как при методе разделительной диффузии (рис. 7.5). Однако в
данном случае боковые изолирующие слои не полупроводнико­
вые, а диэлектрические (окисные). Что касается донных частей
карманов, то они по-прежнему разделены встречно-включен­
ными р-п-переходами. Именно поэтому изопланар относится к
комбинированным методам.
Каждый карман в свою очередь разделен окислом на две ча­
сти (1 и 2 на рис. 7.10, а). В главной части (1) осуществляются
база и эмиттер транзистора, а во второй (2) - омический кон­
такт коллектора (рис. 7.10, 6). Обе части связаньr через скрьr­
тый п t-слой. Таким образом устраняются все четыре боковые
(вертикальные) стенки коллекторного перехода, что способст­
вует уменьшению коллекторной емкости.
Si3 N 4

н��нн

Локальпое окисление

sю2

а)

�
б)

Рис. 7.10. Изопланарная технология: а - струRтура до базовой диффузии;
6 - конечная структура транзистора

Локальное прокисление эпитаксиального слоя нельзя прово­
дить через окисную маску, так как при высокой температуре и
при наличии кислорода ее толщина будет расти за счет толщи­
ны n-слоя. Поэтому в изопланаре для локального прокисления
используют маски из нитрида кремния.
8--3423


Глава 7. Эле менты иитегральнь�х схем

226

По сравнению с классическим методом разделительной диф­
фузии изопланарный метод изоляции обеспечивает больш ую
плотность компоновки элементов (т.е. лучшее использование
площади), а также более высокие частотные и переходные ха­
рактеристики транзисторов.
Метод изоляции У-канавками показан на рис. 7.11, а. В дан­
ном случае вместо сквозного прокисления эпитаксиального слоя
используется его сквозное протравливание методом анизотроп­
ного травления (см. раздел 6.6). При этом поверхность кристал­
ла должна иметь ориентацию (100), а травление идет по плос­
костям (111), см. рис. 6.10, б. Размеры окна в маске делают та­
кими, что грани (111) �сходятся,> чуть ниже границы
эпитаксиального слоя и образуют канавки У-образной формы,
откуда и название метода. Зависимость между шириной и глу­
биной канавки строго определенная: l/d =
При глубине 4-5
мкм ширина канавки составит всего 6-7 мкм, т.е. потери площа­
ди под изоляцию получаются весьма незначительными. Недостат­
ком метода является необходимость использования плоскости
(100), которой свойственна повышенная плотность поверхност­
ных дефектов (см. рис. 2.5).

.J2.

Поли-Si
п

p-Si
а)

р+

6)

Рис. 7.11. Метод иэолsщии У-канавками (а) и U-канавками (6)

Рельеф, полученный в результате травления, окисляется,
как и при эпик-процессе. Однако, в отличие от эпик-процесса,
последующее напыление поликристаллического кремния имеет
целью лишь выровнять рельеф поверхности для облегчения ме­
таллической разводки. Для этого достаточно заполнить поли­
кремнием только канавки.
При использовании метода реактивного ионного травления
можно дополнительно уменьшить ширину канавки. Такой ме­
тод изоляции получил название изоляции U-образными канав­
ками (рис. 7.11, 6).


lf*,Траизисторы n-p-n

227

7 .3. Транзисторы п-р-п
Поскольку п-р-п-транзисторы составляют основу биполяр­
ных ИС, мы рассмотрим их наиболее подробно, включая техно­
логию изготовления. При этом будем считать, что изоляция
осуществлена методом разделительной диффузии. Особенности,
обусловленные другими методами изоляции, в необходимых
случаях оговариваются.
Распределение примесей. На рис. 7.12 показано распределе­
ние примесей в слоях интегрального транзистора со скрытым
п+ -слоем (см. рис. 7.6, б). Следует обратить внимание на то, что
распределение эффективной концентрации акцепторов в базо­
вом слое оказывается немонотонным. Соответственно немоно­
тонным оказывается и распределение дырок. Справа от точки
максимума градиент концентрации дырок отрицательный и
внутреннее поле (по отношению к инжектированным электро­
нам) является ускоряющим. Это характерно для всех дрейфо­
вых транзисторов. Однако слева от точки максимума градиент
концентрации положительный, а значит поле является тормо­
зящим. Нал.ичие участка с тормозящим пол.ем приводит к не­
которому увеличению результирующего времени пролета носи3
N,см1
2
10

Эпитаксиальный
п-слой

10 19
1 01

1

10 1

5

о

NЭФФ•см-3
10 1 7

2

'

4:'

6

'
'

Подложка
р-типа

8

10

х,мкм

8

10

X,MRM

:w:

�
' ' База

,'

'
:

,i

1015

N

1\

Nд

Эмиттер

о

2

4

6

Рис: 7.12. Распределение концентрации примесей в структуре ин тегральnого
п-р-п-транзистора и распределение эффективных концентраций


228

Глава 7. Злемеиты иитегральиых схем

телей через базу. Однако расчеть1 показывают, что это увеличе­
ние составляет всего 20-30% и для приближенных оценок
может не учитываться.
Конфигурации и рабочие параметры. Конфигурации инте г­
ральных транзисторов (в плане) имеют несколько вариантов.
Два из них показаны на рис. 7 .13.

Б

--.,,

�к

10

о о �]
�12

-

�

"

р ,__�

p-S1

....__ э

ак = 70 мкм

D

э

г--

-

Алюминий
а)

:;;
:i:

:,!

.,,
11

1
=i
�, 0 П -��

п

-

p-S1

u
Б

.--,

'--

к

б)

Рис. 7.13. Конфигурация (топология) транзисторов.
а - асимметричная, б - симметричная

Первая конфигурация (рис. 7.13, а) называется асимметрич•
ной: в ней коллекторный ток протекает к эмиттеру только в од•
ном направлении: на рис. 7.13, а - справа. Вторая конфигура­
ция (рис. 7.13, б) называется симметричной: в ней коллектор­
ный ток протекает к эмиттеру с трех сторон. Соответственно
сопротивление коллекторного слоя rкк оказывается примерно в
3 раза меньше, чем у асимметричной конфигурации.
Вторая конфигурация характерна также тем, что контакт­
ное окно и металлизация коллектора разбиты на две части.
При такой конструкции облегчается металлическая разводка:
алюминиевая полоска (например, эмиттерная на рис. 7.13, б)
может проходить над коллектором по защитному окислу, по­
крывающему поверхность ИС (подробнее см. разд. 7.9).
Для примера на рис. 7.13, а приведены относительные раз­
меры слоев интегрального п-р-п-транзистора для минимально­
го литографического разрешения, равного 10 мкм. Для этого


229

7.3. Траязис.торы n-p-n

случая в табл. 7.1 приведены типичные параметры этих слоев,
а в табл. 7.2 - типичные параметры транзисторов.
Таблица 7.1. Типичные параметры слоев интеrралъного
п-р-п-транзистора
N, см -з
1,51015

Наименование слоя

Подложка р-типа

t---. --

1

d, мкм

-

Скрытый п+ -слой

к оллекторныи� п-слои�

1016
5-10 18
1021

Базовый р-слой

Эмиттерный п+-слой

300
5-10
10-15
2,5

i

р, Омсм

2

1

10

-

0,5
-

R,, Ом/О

-

8-20
500
200
5-15

1'
1
1

Примечание: N - концентрация примеси (для диффузных базово­
го и эми'Г!'ерного слоев - поверхностная концентрация); d - глубина
слоя; р - удельное сопротивление материала; R, - удельное сопротив­
лени е слоя.

Таблица 7.2. Типичные параметры интеrралъных
п-р-п-транзисторов
-

Параметр

-

Коэффициент усиления

Номинал

в

Предельная частота fт, МГц

Коллекторная емкость Ск, пФ
�

робивное напряжение Икб• В
робивное напряже ние U06, в
··· ··--··
· -···

-- ··-----·-

100-200
200-500
0,3-0,5
40-50
7-8

Допуск о, %

±30
±20
±10
±30
±5

1

Величину R,, фигурирующую в табл. 7.1, называют удельпым со
противлением слоя. Происхождение этого параметра следующее.

Пусть имеется прямоугольная полоска материала длиной а, шириной
Ь и толщиной d. Если ток протекает вдоль полоски (т.е. параллельно
ее поверхности), то сопротивление полоски можно записать в виде:

R = р(щЬd) = R,(а/Ь),

(7.1)

где R, = p/d. Если слой неоднороден по толщине (например, если он по­
ЛуЧ ен диффузией примеси), то величина R, запишется в общем виде:

-1
]
[
R, = df o(x)dx


230

Глава 7. Эл емеиты иитегральиых схем

где о(х) = 1/р(х) - удельная проводимость материала в плоскости,
расположенной на расстоянии х от поверхности.
При условии а = Ь прямоугольная полоска принимает квадратную
форму, а ее сопротивление делается равным R,. Значит, величину R,
можно определить как продольное сопротивление слоя или пленки
квадратной конфиzурации. Чтобы подчеркнуть последнюю оговорку,
вместо истинной размерности •Ом• пишут •Ом/ □ (читается: •Ом на
квадрат•). Зная величину R,, легко рассчитать сопротивление слоя
или пленки прямоугольной конфигурации по известным значениям а
и ь.

•

Из табл. 7.2 видно, что пробивное напряжение эмиттерного
перехода в 5-7 раз меньше, чем коллекторного. Эта особенность,
свойственная всем дрейфовым транзисторам, связана с тем, что
эмитгерный переход образован более низкоомными слоями, чем
коллекторный. При включении транзистора с общим эмиттером
пробойное напряжение коллекторного перехода уменьшается в
соответствии с (5.29). Если база достаточно тонка.я (w < 1 мкм),
то пробой обычно обусловлен эффектом смыкания, а напряже­
ние пробоя характеризуете.я выражением (5.30).
Паразитные параметры. На рис. 7.14, а показана упрощен­
на.я структура интегрального п-р-п-транзистора, выполненно­
го по методу разделительной диффузии. Особенность интегра­
льного транзистора состоит в том, что его структура (с учетом
подложки) - четырехслойная: нар.яду с рабочими эмитгерным
и коллекторньrм переходами имеете.я третий (паразитный) пе­
реход между коллекторным п-слоем и подложкой р-типа. На­
личие скрытого п +-слоя (не показанного на рис. 7.14, а) не вно­
сит принципиальных изменений в структуру.

Рис. 7.14. Интегральный п-р-п•транзистор:

а - упрощенная структура с выделенным пар азитным р-п-р-транэистором ;
6 - упрощенная модель; в - полная модель


7.3. Транзисторы n-p-n

231

Подложку ИС (если она имеет проводимость р-типа) присое­
диняют к самому отрицательному потенциалу. Поэтому на­
пря жение на переходе «коллектор-подложка• всегда обратное
или (в худшем случае) близко к нулю. Следовательно, этот пе­
реход можно заменить барьерной емкостью Скп • показанной на
рис. 7.14, а.
Вместе с горизонтальным сопротивлением коллекторного
слоя rкк емкость С кn образует RС-цепочку, которая подключена
к активной области коллектора. Тогда эквивалентная схема ин­
тегрального п-р-п-транзистора имеет такой вид, как показано
на рис. 7.14, б.
Цепочка rкк- Ск п• шунтирующая коллектор, - главная осо­
бенность интегрального п-р-п-транзистора. Эта цепочка, ес­
тественно, ухудшает его быстродействие и ограничивает предель•
ную частоту и время переключения.
Поскольку подложка находится под неизменным потенциа­
лом, ее можно считать заземленной по переменным составляю­
щим. Поэтому, дополняя малосигнальную эквивалентную схе­
му ОБ (рис. 5.16) цепочкой rккСкп и пренебрегая сопротивлени­
ем r6, приходим к выводу, что емкость C,< n складывается с
емкостью Ск , а сопротивление rкк - с внешним сопротивлени­
ем Rк (см. с. 163). Соответственно эквивалентная постоянная
времени (5.68) запишется следующим образом:

(7.2)

Из выражения (7 .2) очевидно, что паразитные параметры
Скц и rк к ограничивают быстродействие интегрального транзи­
стора в идеальных условиях, когда т а = О, Ск = О и Rк = О. В
этом случае эквивалентная постоянная времени т аое равна по­
стоянной времепи подложки:

(7.3)

Например, если Скп = 2 пФ и rкк = 100 Ом, получаем т п = 0,2
нс, соответствующая граничная частота fи = 1/2лт n "" 800 МГц.
С учетом параметров 't a , Ск и при наличии внешнего сопротив­
ления Rк эквивалентная постоянная времени возрастает, а гра­
ничная частота уменьшается.
Значение rкк = 100 Ом, использованное в предыдущем при­
мере, характерно для транзисторов без скрытого п+ -слоя. При
наличии скрытого слоя типичны значения rкк = 10 Ом. Тогда


232

Глава 7. Элементы и11теrрал:ь11:ь1х схем

постоянная времени т п оказывается на порядок меньше и влия­
ние подложки становится мало существенным.
Соотношение между емкостями С кп и С" зависит в первую
очередь от соотношения площадей соответствующих переходов
и концентраций примеси в слоях подложки и коллектора.
Обычно сl<П = (2-З)С".
При расчете емкости Скп следует учитывать не только дон­
ную часть перехода коллектор-подложка, но и его боковы е
(вертикальные) части (см. рис. 7.14, а). Удельная емкость боко­
вых частей больше, чем донной, поскольку концентрация акцеп­
торов в разделительных слоях возрастает в направлении от дна
перехода к поверхности (на рис. 7.14, а эта концентрация харак­
теризуется густотой штриховки). Типичное значение удельной
емкости для донной части составляет Сох = 100 пФ/мм 2 , а для
боковых частей C 0y ,z = 150-250 пФ/мм2 • Обычно все три со­
ставляющие емкости Скп оказываются почти одинаковыми и
лежат в пределах 0,5-1,5 пФ.
Пассивную область базы вместе с лежащими под ней областями
коллектора и подложки можно представить как некий паразитный
р-п-р-транзистор. На рис. 7.14, а структура такого транзистора обве­
дена штриховой линией, а эквивалентная схема, характеризующая
взаимосвязь рабочего п-р-п-транзистора с паразитным, показана на
рис. 7.14, в.
Если п-р-n-транзистор работает в нормальном активном режиме
(Uкб > О), то паразитный транзистор находится в режиме отсечки
(U 06 < О, см. знаки без скобок). В этом случае коллекторный переход
паразитного транзистора представлен емкостью Скn (рис. 7.14, 6). Если
же п-р-п-транзистор работает в инверсном режиме или в режиме двой­
ной инжекции (U06 < О), то паразитный р-п-р-транзистор находится в
активном режиме (Иэ& > О, см. знаки в скобках). При этом в подложку
уходит ток I,,_ = ap---n-�l• где /1 - часть базового тока (рис. 7.14, в).
Утечка базового тока в подложку ухудшает параметры транзистора
в режиме двойной инжекции (см. раздел 8.2). Поэтому транзисторы,
предназначенные для работы в таком режиме, специально легирую т
золотом. Атомы золота играют в кремнии родь ловушек, т.е. способст­
вуют уменьшению времени жизни носителей. Соответственно коэфф и­
циент ар-п-р уменьшается до значений менее 0,1, и утечкой тока в под­
ложку можно пренебречь.

В случае диэлектрической изоляции паразитный р-п-р-тран­
зистор отсутствует, но емкость Скп сохраняется. Она, как уже
отмечалось, меньше, чем при изоляции р-п-переходом. Если ди-


7.3. Транзисторы n-p-n

233

электр иком является двуокись кремния, то удельная емкость
при толщине 1 мкм составляет около 35 пФ/мм2 •
Типовой технологический цикл. Промышленность поставля­
ет разработчику ИС готовые пластины кремния, прошедшие
механическую и химическую обработку. Поэтому будем счи­
тат ь, что в начале технологического цикла имеется пластина
кремния р-типа с отполированной поверхностью, покрытой
тонким, естественным слоем окисла. В этой пластине группо­
вым методом нужно изготовить транзисторы со структурой, по­
казанной на рис. 7 .6, б. Последовательность операций будет
следующая 1.
1) Общее окисление пластины.
2) 1-я фотолитография: создание окон в окисле «под скры­
тые п +-слои•.
3) 1-я диффузия (создание скрытых п+ -слоев, рис. 7.15, а);
диффузант - мышьяк или сурьма.
4) Стравливание окисла со всей поверхности.

Окно под разделительную Окио под бnэовую

ди"фузию

�

диффузию

�
б)

,)

Рис. 7.15. Этапы технологического
цикла создания интегрального
п-р-п-транзистора со скрытым
p-S1
�
п '-слоем методом разделительной
д)
диффузии:
а - создани е скрытых слоев; 6 - создание базовых слоев в эпитаксиаль­
н ых карманах; в - создание эмиттерных слоев и слоев под омические кон­
такты коллекторов; z - обща.я металлизация; i) - создание рисунка ме­
та.'!лической разводкой
1 В приводимом перечне опущены многочисленные операции очистки и отмыв­
ки пластины, а также нанесения и удаления фоторезиста.


234

Глава 7. Элемеитьt иитегральиъ�х схем

5) Наращивание эпитаксиального п-слоя (при этом скрытый
п+ -слой несколько диффундирует как в подложку, так и в эпи­
таксиальнь1й слой; см. с. 222).
6) Общее окисление.
7) 2-я фотолитография: создание окон в окисле «под разде­
лительную диффузию>>.
8) 2-я диффузия (создание разделительных р-слоев и соот­
ветственно изолированных п-карманов в эпитаксиальном слое,
рис. 7.5); диффузант - бор.
9) 3-я фотолитография: создание окон в окисле «под базовую
диффузию».
10) 3-я диффузия (создание базовых р-слоев, рис. 7.15, б);
диффузант - бор. Диффузия двухстадийная ( «загонка• и «раз­
гонка,>, см. с. 179-180).
11) 4-я фотолитография: создание окон в окисле 4Под эмит­
терную диффузию и омические контакты коллекторов•.
12) 4-я диффузия (создание п+-слоев, рис. 7.15, в); диффу­
зант - фосфор. Иногда эта диффузия тоже двухстадийная.
13) 5-я фотолитография: создание окон в окисле «под омиче­
ские контакты•.
14) Общее напыление алюминия на пластину (рис. 7.15, г).
15) 6-я фотолитография: создание окон в фоторезисте «под
металлическую разводку•.
16) Травление алюминия через фоторезистную маску, сня­
тие фоторезиста (рис. 7.15, д).
17) Термическая обработка для вжигания алюминия в крем­
ний.
Сборочные операции мы опускаем: они были рассмотрены в
разделе 6.10. К рассмотренному технологическому циклу необ­
ходимо сделать несколько дополнительных замечаний.
В последнее время промышленность начала выпускать плас­
тины с уже осуществленными эпитаксиальным слоем и скры­
тым п+-слоем. В таком случае первые пять операций отпадают.
В п.10 отмечено, что диффузия бора на этапе базовой диффу­
зии - двухстадийная ( �загонка� и <1разгонка•> ). Такое, каза­
лось бы, усложнение процесса имеет серьезные основания и яв­
ляется общепринятым.
Действительно, для того чтобы коэффициент инжекции эмиттерно­
го перехода составлял не менее 0,999, концентрация примеси в эмит­
терном слое должна превышать концентрацию в базовом слое не менее


7.4. Развоввдиоств п-р-п-травзистороа

235

чем в 100 раз [см. (5.24)]. Между тем предельные растворимости бора
и фосфора при оптимальных температурах различаются всего в 3 раза
(см. табл. 6.1). Длл того чтобы преодолеть это противоречие, нужно
понизить приповерхностную концентрацию бора. Это можно сделать
несколькими способами.
Можно проводить диффузию бора при столь низкой температуре,
при которой его предельна.я: растворимость будет в 100 раз меньше,
чем у фосфора; однако тогда коэффициент диффузии уменьшите.я: на
несколько порлдков и диффузию придется проводить в течение рлда
суток или даже недель. Можно понизить температуру в зоне источни­
ка диффузанта и таким образом создать •диффузантный голодt вбли­
зи поверхности пластины; однако этот процесс трудно контролирует­
ся. Таким образом, двухстадийная диффузия оказывается оптималь­
ным решением: во время •разгонкиt поверхностную концентрацию
легко уменьшить в десятки раз и более (см. рис. 6. 7, 6).
Температуру <,разгонки,> делают на 150-200 °С больше, чем
температура 4загонки>>, чтобы повысить коэффициент диффу­
зии примеси и сократить время процесса. Типичное время «за­
гонки,> составляет 20-40 мин (при температуре 1000-1050 °С), а
•разгонки� - несколько часов (при температуре около 1200 °С).
Внедрение фосфора на этапе эмиттерной диффузии (п.12) последняя высокотемпературная операция в цикле (температура
выбирается на 100-150 °С ниже температуры «разгонки� бора,
чтобы не изменить глубину коллекторного р-п-перехода). Дли­
тельность этой операции определяет толщину п+-слоя, а значит,
и ширину базы транзистора. У современных планарных транзи­
сторов типична.я ширина базы составляет 0,4-0,5 мкм.
В заключение заметим, что в результате неоднократных опе­
раций фотолитографии, окисления и диффузии рельеф окисной
пленки перед металлизацией оказываете.я сложным - много­
сту пенчатым. В ряде случаев это затрудняет получение хоро­
шей адгезии алюминия с поверхностью окисла. Обычно на ри­
сунках, иллюстрирующих структуру (разрез) транзисторов или
ИС, многоступенчатость окисла дл.я простоты не показывают.

7.4. Разновидности n-р-n-транзисторов
В процессе развития микроэлектроники по.явились некото­
рые разновидности n-p-n транзисторов, не свойственные диск­
ретным электронным схемам и не выпускаемые в виде дискрет­
ных приборов. Ниже рассматриваются наиболее важные из этих
разновидностей.


Глава 7. Элементы ивтегральиых схем

236

Мноrоэмитrериый транзистор. Структура многоэмиттерного
транзистора (МЭТ) показана на рис. 7.16, а. Такие транзисторы
составляют основу весьма распространенного класса цифровых
ИС - так называемых схем 'ГГЛ (см. разд. 10.2). Количество
эмиттеров может составлять 5-8 и более.
p-S1

э \э
\
Б

Э!

Э2

ЭЗ

к

Прямое
смещение

v

б)

Обратное
смещение

��

,Г��р,

а)

IE
в)

Рис. 7 16 Многоамиттерный транзистор а - топология и структура,
б - схемные модели, в - взаимодействие между смежными амиттерами

В первом приближении МЭТ можно рассматривать как сово­
купность отдельных транзисторов с соединенными базами и
коллекторами (рис. 7.16, б). Особенности МЭТ как единой
структуры следующие (рис. 7 .16, в).
Во-первых, каждая пара смежных эмиттеров вместе с разде­
ляющим их р-слоем базы образует горизонтальный (иногда го­
ворят - продольный) транзистор типа п+-р-п + . Если на одном
из эмиттеров действует прямое напряжение, а на другом обрат­
ное, то первый буд ет инжектировать электроны, а второй будет
собирать те из них, которые инжектированы через боковую по­
верхность эмиттера и прошли без рекомбинации расстояние
между эмиттерами. Такой транзисторный эффект является
для МЭТ паразитным: в обратносмещенном переходе, который
должен быть запертым, будет протекать ток. Чтобы избежать
горизонтального транзисторного эффекта, расстояние между
эмиттерами, вообще говоря, должно превышать диффузионную
длину носителей в базовом слое. Если транзистор легирован зо-


7.4. Разяовидности n-р-n-траязясторов

237

лотом (см. с. 232), то диффузионная длина не превышает 2-3
мкм и практически оказывается достаточным расстояние
10-15 мкм.
Во-вторых, важно, чтобы МЭТ имел как можно меньший ин­
версный коэффициент передачи тока. В противном случае в ин­
версном режиме, когда эмиттеры находятся под обратным на­
пряжением, а коллектор под прямым, носители, инжектируе­
мые коллектором, будут в значительной мере достигать
эмиттеров, и в цепи последних, несмотря на их обратное сме­
щение, будет протекать ток - паразитный эффект, аналогич­
ный отмеченному выше.
Как известно, инверсный коэффициент передачи всегда мень­
ше нормального из-за различий в степени легирования и в пло­
щадях эмиттера и коллектора (см. с. 142). Чтобы дополнитель­
но уменьшить инверсный коэффициент а 1 в МЭТ, искусствен­
но увеличивают сопротивление пассивной базы, удаляя
омический базовый контакт от активной области транзистора
(рис. 7.16, а). При такой конфигурации сопротивление узкого
*перешейка•> между активной областью и базовым контактом
может составлять 200-300 Ом, а падение напряжения на нем
от базового тока 0,1-0,15 В. Значит, прямое напряжение на
коллекторном переходе (в инверсном режиме) будет в активной
области на 0,1-0,15 В меньше, чем вблизи базового контакта.
Соответственно инжекция электронов из коллектора в актив­
ную область базы будет незначительной и паразитные токи че­
рез эмиттеры будут практически отсутствовать.
Многоколлекторные п-р-n-транзисторы. Структура много­
коллекторного транзистора (МКТ), показанная на рис. 7.17, а,
не отличается от структуры МЭТ. Различие состоит лишь в ис­
пользовании структуры. Можно сказать, что МКТ - это МЭТ,
используемый в инверсном режиме. общим эмиттером является
эпитаксиальный п-слой, а коллекторами служат высоколегиро­
ванные п + -слои малых размеров. Такое решение составляет
основу одного из популярных классов цифровых ИС - так на­
зываемых схем инжекционной логики И2Л (см. раздел 10.3)1•
Эквивалентная схема МКТ показана на рис. 7.17, б.

и•

1 Специфичность МКТ в схемах Л - способ питания, яо их основн1,1е свойства
та кие же, как рассматриваемые ниже


238
Б

К1

К2

КЗ

э

Глава 7. Элементы иитеrральвых схем

э

К1

К2

КЗ

К2

Kl

Б

p-S1
а)

1Б_z;2;
6)

э

з

в)

Рис. 7.17. Многоколлекторный транзистор: а - структура; 15 - схемные
модели; в - траектория движения инжектированных носителей

Главкой проблемой при разработке МКТ является увеличе­
кие кормалького коэффициекта передачи тока от общего

п-эмиттера (инжектора) к каждому из п +-коллекторов. Естест­
венно, что эта проблема - обратная той, которая решалась в
случае МЭТ, когда коэффициент передачи от п-слоя к п+ -слоям
старались уменьшать.
В данном случае желательно, чтобы скрытый п+ -слой распо­
лагался как можно ближе к базовому или просто контактиро­
вал с ним (как, например, при ИКД технологии). Тогда этот
высоколегированный п+-слой, будучи эмиттером, обеспечит вы­
сокий коэффициент инжекции. Что касается коэффициента пе­
реноса, то для его повышения п+-коллекторы следует распола­
гать как можно ближе друг к другу, сокращая тем самым пло­
щадь пассивной области базы. Оба эти пути, конечно,
ограничены конструктивно-технологическими факторами. Тем
не менее, даже при сравнительно разреженном расположении
коллекторов, можно получить коэффициенты передачи на всю
совокупность коллекторов а = 0,8-0,9 или коэффициентьI уси­
ления В= 4-10. Этого достаточно для функционирования схем
И 2Л, если число коллекторов не превышает 3-5 1 •
На рис. 7 .1 7, в показаны траектории движения инжектиро­
ванных носителей в базе. Как видим, носители двигаются так,
что их доля, попадающая на коллекторы, существенно больше,
чем если ее рассчитывать по формальному отношению площади
коллектора к площади эмиттера. Именно поэтому реальный ко1 Коэффициент усиления в расчете на один коллектор равен общему коэффици­
енту усиления, поделенному на чксло коллекторов. Для приведенных значе­
нкй общего коэффициента В коэффициент усиления на один коллектор превы­
шает единицу, что и требуется в схемах и"л.


7.4, Разиовидвости n-р-п-траизисторов

239

эффициент В имеет те сравнительно большие значения, кото­
рые приведены выше. Следовательно, при расчете коэффициен­
тов а и В нужно использовать не геометрические, а эффектив­
ные площади, о чем уже говорилось на с. 142 применительно к
инверсному включению транзисторов.
Из рис_ 7.17, в видно также, что средняя длина траектории
носителей значительно превышает толщину активной базы w.
Поэтому среднее время диффузии будет значительно меньше,
чем у МЭТ и отдельных транзисторов [см. (5.47)]. Разница во
временах пролета еще больше, поскольку в МКТ поле базы для

инжектированных носителей является не ускоряющим, а тор­
мозящим. Время пролета t11P составляет не менее 5-10 нс, а со­

ответствующая предельная частота fт - не более 20-50 МГц
(ер. с параметрами в табл. 7.2).
С другой стороны, коллекторная емкость С к у МКТ значите­
льно меньше, чем у МЭТ и обычных транзисторов, из-за малой
площади п +-коллектора. Поэтому в выражениях (5.68) и (5.69)
членами СкRк и С*Rк часто можно пренебречь.
Транзистор с барьером Шоттки. Назначение и принцип дей­
ств.rя такого транзистора (ТШ) рассмотрены в разделе 8.4. На
р:1с. 7.18 показана структура интегрального ТШ. Здесь очень
изящно решена задача сочетания транзистора с диодом Шоттки: алюминиевая металлизация,
э
Б Al
к
обеспечивающая омический кон­
такт с р-слоем базь1, проделана в
сторону коллекторного п-слоя_ На
первый взгляд,
коллекторный
слой оказался закороченным со
слоем базы. На самом же деле алю­ Рис. 7.18. Интегральный тран­
миниевая полоска образует с
зистор с барьером Шоттки
р-слоем базы невыпрямляющий,
омический контакт, а с п-слоем коллектора выпрямляющий
контакт Шоттки (см. раздел 3.3). Поэтому эквивалентная схе­
ма такой структуры соответствует схеме на рис. 8.12.
Разумеется, структур